G03C 1/68 — G03C 1/68

Номер патента: 630610

Опубликовано: 30.10.1978

Авторы: Карякин, Карякина, Олейник

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...).частков слоя, а на подлсжкс стастся рс. ьефная заццтная маска,П р ц м е р 1. лцэтннцлбензол возгоняют прц лавлсн .:.:: рт. ст. и темггературе 50 С и сублцмцруОт на кремнцезуюзащитную маску с ровными краями (уход размероз 10%) и размераъи элемегнтоз 5 якл. При этом количество дефектов составляет 4 деф/спи.,П р и м е р 2, гг-Диэтинилбензол зоз;оняют при давлении 10 - гль 1 г рт. ст, и температуре 25" С. Дальнейшие операции и лолученйый результат аналогичны примеру 1.П р им е р 3. Полученную по примеру 1 защитную маску термообрабатызают при 350 С в течение 30 агин. Слой зыдержпвают, гпразлегнгге кремния проводят в смеси азотной, плаВБковой и уксуснои кислот на глуоину 10 - 15 зггсзг,П р и м е р 4, ггтДиэтинилбензол по примеру 2...

Номер патента: 637773

Опубликовано: 15.12.1978

Авторы: Вербовая, Гудзера, Дацко, Рудько

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...(пробельные) участки вымывают ацетоном или метилэтилкетоном.Полученная композиция имеет жизнеспособность 6 - 8 мес, Время отверждения композиции 12 мин.Известная композиция имеет жизнеспособность 2 - 3 мес, Время отверждения10 мнн.Характеристики печатных форм, изготовленных из предложенной и известной ком. позициИ, аналогичны,Пример 2. Смешивают 100 вес.ч. олигоуретаиакрилата, полученного нз полиоксипропнленгликоля молекулярной массы 2000,2,4-толуилеидинзоциапата и. монометакрилового эфира этиленгликоля, 3 вес ч. три(ак.сяэтилен) о со .диметакрялата, З-вес, ч, метакриловой кислоты, 1,5 вес. ч. метиловогоэфира бензоина, 0,1 вес, ч, гидрохинона,1,0 вес;ч. ЬпС 1 г 2 НаО и 0,05 вес.ч. трнфенил.вердазила. Получение печатных форм...

Номер патента: 640236

Опубликовано: 30.12.1978

Авторы: Маслюк, Орлов, Репка, Руднева, Сопина, Шепельская, Шкуренко

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...и 0,01 вес. ч, гидрохннона (пнгибитор полимеризацнн).Г 1 ример 2. К 100 вес. ч. олигоуретаноксиэтнленакрилата (полученого по примеру 1) при перемешиванин прпоавляют 20 вес. ч. диметакрилаттрнэтиленгликоля, 15 Зд вес. ч. мстакриловой кислоты, 0,6 вес, ч.Контрастность,Композиция по примерам В одора ст вор имость Не растворяемостьв воде 5,1 2,12 75 120 Прототип Хорошо растворяетсяв воде 2,45 6,0 75 123 2,45 2,63 2,68 То же 90 6,3 6,3 6,5 6,5 6,5 72 56 70 70 51 2 3 4 5 6 129 145 130 152 175 95 2,62 2,62 25 ОлигоуретацоксцэтилснакрилатОлцгоэфиракрилат Мстакриловая кислота ФотоинициаторИцгибитор Формула изобретения 95 - 100 10 - 30 5 - 25 0,1 - 1,0 0,01 - 0,3 Составитель А. Круглов Редактор В, Минасбекова Тскрсд С. Антипенко...

Номер патента: 640237

Опубликовано: 30.12.1978

Авторы: Бершадская, Куновская, Маслюк, Орлов, Руднева, Сопина, Черненко, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, полимерных, форм, фотополимеризующаяся

...соединения.П р и м е р 2. а,со-Фенилбензоилкарбоксиметилол - (бис,4 - толуилендиуретан)- олиго- (оксипропилен) и - з 1-гликоль.П р и м е р 3. а,со-Фенилбензоилкарбинол (бис,6-гексаметилендиуретан) -олиго - (оксипропилен) 1-, з -гликоль.П р и м е р 4. а,в-Фенилбензоилкарбоксиметилол - (бис,6 - гексаметилендиуретан)- олиго-(оксипропилен) и-з 4-гликоль. 45Л р и м е р 5. К,100 вес. ч, олигоуретанакрилата марки ОУАТ,прибавляют 20 вес. ч, олигоэфиракрилата (ТГМ-Зс), 15 вес. ч. метакриловой кислоты, 0,15 вес. ч, ингибитора термополимеризации (гидрохи нона) и 30 ветс. ч, фотоинициатора (а,в-фенилбензоилкарбинол - (бис,4-толуилендиуретан) -олиго-(оксипропилен) р-зч гликоля). Далее, как описано в примере 1. В примерах 6 - 8 технология...

Номер патента: 651298

Опубликовано: 05.03.1979

Авторы: Боков, Калюжная, Корсаков, Лаврищев, Наумов

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...мл смеси топуопа и Л -хсипопа.0,0375 г 2,6-бис-(, ц -азидобенэаль)- -4-метилциклогексанона (ДОГ раствоЗаказ 802/43 Тираж 547 П одписное ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская набд, 4/5Филиал Г 1 ПП "Патент, г, Ужгород, ул. Гроектиая, 4 ряют в 1 мл толуопа. 0,344 г красите ля жирового айтрахинонового зеленого растворяют в 100 м топуопа и из этого копичества 0,5 мп добавляют в смесь растворов ПБГД и ДБГ. Раствор фильтруют и наносятцентрифугированием на6 подножку. Спой сушат 15 мин при 20 С и 30 мин при 8 дС. Дпя фоторезиста ЬФ щ 124 смф /дж,- 2,0.П р и м е р 2. 0,75 ГШГД растворяют в 3,7 5 мп смеси топуопа и ц -ксипода 2:1 по объему 0,0375 г 1 ШГ растворяют в 1 мц топуопа и...

Номер патента: 652522

Опубликовано: 15.03.1979

Авторы: Белицкий, Волошин, Гаврилюк, Гамазина, Ефимов, Поддубный, Пущина, Ушомирский, Шевчук

МПК: G03C 1/68

Метки: изображений, окрашенных, рельефных

...2%-ным водным раствором бикарбоната натрия в течение 1 мини окрашивают 0,6%-ным водным раствором красителя катионного черного 3,представляющего собой смесь; 47% 2 (4- Й, М -диметиламинофенилаэо)-3-метил-метоксибензтиаэолий хлорида, 32%2- (4-анизидиновинил) -1,3,3-триметилиндолиний хлорида и 21% 2-(М -метил-Й-,2-хлоратиламиностирил) -1, 3, 3- триметилиндолинийхлорида.Окрашивание изображения проводят вотечение 0,5 мин при 17 С. После промывки водой и сушки получают окрашениое рельефное изображение с хорошимирепродукционно-графическими свойствами,оптической плотностью 04,8=3,0; и контрастностью=2,2.П р и м е р 2, Фотополимеризуюший- З 0ся копировальный слой экспонируют ипроявляют согласно примеру 1.Окрашивание проакспонированного...

Номер патента: 664147

Опубликовано: 25.05.1979

Авторы: Горшкова, Ельцов, Иванова, Кокурина, Кульчицкая, Маркова, Никанчикова, Орлова, Попова, Юрре

МПК: G03C 1/68

Метки: копировальный, светочувствительный, состав

...сополимера, содержащего 1,4-гексадиен (США),Ке Бой- торговаямарка сополимера, включающего третьим компонентом этилиденнорборнен(Голландия), диазидобензилиденовыепроизводные циклокетонов (С 5-С 7)й термоускорителя вулканизации.В примерах приведены светочувствительные составы в вес.Ъ:Приме р 1.Сополимер СКЭПТ-Э(вязкость по Муни 70) 3,02,6-Бис(4-азидобензилиден)-4-метил-циклогексанон 0,2Тиурам 0,08Ксилол: гептан (1: 4) Остальйое2, 6-бис (4-азидобензилиден) -4-метилциклогексанон и тиурам растворяют в ксилоле, полимер растворяют вксилоле, полимер растворяют в геп.тане, оба раствора сливают и тща. тельно перемешивают. СветочувСтйи-"тельный состав наносят центрифу-гиройанием на зерненую или гладкуюпластину, например, алюминйевую,стальную или...

Номер патента: 672601

Опубликовано: 05.07.1979

Авторы: Боднорюк, Грында, Кравчук

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...является удешевлениеоэиции, улучшение условий труда й сокра-,е времени изготовления печатных форм,.: "ффЬ " ффф фМ ,МЦ . ., - г . ;Ьф ф,%чЦЖИЬИ 5 ЩВЮВММЮМНМЬ: Ж м ,26014ных формна основе предлагаемой компоэицивпредставлены в таблице.Как видно иэ приведенных данных, трафаретные печатные формы, полученные на основепредлагаемой композиции, характеризуются вы.сокими репродукционно графическими свойства.ми и значительным сокращением (в 2-3 раза)времеви на вымывание неосвещенньи участков.Мономер,входящий в состав композиции соглас 1 о но изобретению, в 5 раэ дешевле пентаэритриттетраакрилата, менее токсичен и вводится в композицию в меньшем (в 1,2.3 раза) количестве,чем обычно применяемый.Таким образом, предлагаемая композиция 15 стоит...

Номер патента: 679923

Опубликовано: 15.08.1979

Авторы: Белов, Грибов, Иванов, Логинов, Мозжухин, Никольский, Родионов, Ульянов, Фирсов

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...в проекцнон ной фотолитографии состав 2 О,О,80 О,1 Стоек, в теч ние 5 мин н 3 0,1 разрутпаетсяСтоек, в тече,15ние 4 мин не состав 3 аз ается 3тотнпом, фотолитографические параметры, стоек при конно-плазменном травлении и может быть использован в проекционном методе фотолитографии.Готовят образцы предложенного фоторезнста следующего состава, % вес,:Состав 1Эфир нафтохцнондиазид- (2) .5-сульфокислоты и новолака 15,0Нов олак 7,5Иди тол 7,5Пурпурная 9 М 0,45Диметиловый эфир диэтиленгликоляДиметилформамидСостав 2Диэфир 1,2-нафтохинондиазид. (2) -5.сульфокислоты и2,4,4 -триоксибензофенона 20,0Новолак . 7,5 Иди тол 7,5 Пурпурная 9 М 0,3Диметиловый эфир диэтиленгликоля 55,0Диметилформамид Остальное,Состав 3Диэфир...

Номер патента: 679924

Опубликовано: 15.08.1979

Авторы: Анисимова, Дудяк, Лазаренко, Левин, Михеев, Овдиенко

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...их изготовления, в качестве пленкообразующего 50 компонента она содержит ацетоно-вый раствор ацетального полиуретанаструктурной формулы 1Ю осн-о(сн т -с(сн ) -о-сн-о-(сн 1 -о-с-нн-сн -с н -сн -нн-с-о-сн -огг гггг г 6 4гсн в качестве акрилового мономера пентаэритриттетраакрилат, в качестве 60 инициатора - метиловый эфир бензоина, и в качестве ингибитора - нигрозин при следующем соотношении компонентов, вес.ч,;Ацетальный полиуретан65(25-ный раствор в ацетоне) 80-95 Метиловый эфирбензоина 0,3-0,5Яигрозин . 0,015-0,03.Ацетальный полиуретан структурной фоРмулы 1 является продуктом каталитического взаимодействия низкомолекулярных изоцианатов с диэтиловым эфиром диэтиленгликоля (ТУ- -77) . В настоящее время осваивается его промышленное...

Номер патента: 702243

Опубликовано: 05.12.1979

Авторы: Анисимова, Владимиров, Гусев, Урьяш

МПК: G03C 1/68

Метки: подложки, покрытия, удаления, фоторезистивного

...к выходуз 7022иа аоны нагрева (наблюдения через специальное окно в рабочей камере).Температуру ммеряют хромель-копелевой термопарой, подпирающей образецснизу и перемещающейся вместе с образцомТемпературу на образцах задают путемизменения скорости движения образцов ирасстояния их от излучателя.П р и м е р 1. Фоторезистивный слойиа фоторезиста ФН(фоторезист наоснове цнклокаучука, очувствленного биазнцами) толщиной до 3 мкм удаляют сподложек - выводных рамок интегральных.схем йз ковара и никеля толщиной 0,2 мм.При расстоянии от нагревателя до образца 2 см и скорости движения образца24 см/мин время прохождения через зону нагрева 15 смаксимальная температура 300 оС. Скорость нагрева 20 грац/с.Фоторезист дален полностью,При расстоянии...

Номер патента: 708287

Опубликовано: 05.01.1980

Автор: Корытцев

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...защитный рельефный рисунок.П р и м е р 2. Приготонление пленок толщиной 0,4-0,7 мкм.Готовят 7,5-ный раствор циклиэованного каучука в то);уоле, содержащем 1 2,б-ди-(4-азидобензаль) циклогексанона, 10 ацетофенона. Раствор наносят на преднарительно очищенную и обезжиренную подложку, сушат при 80"С в течение 10 мин. Подложку вакуумируют 20 мин и экспонируют под накуумом через шаблон лампой ПРКна расстоянии 20 см в течение 1 мин, После облучения пленку обрабатывают толуолом. При этом необлученные участки раство708287 Формула изобретения Количествоацетофенона,вес.Ъ 25 оличество роколов в ленках фотоеэиста намг ЗО 500 300 160 35 2-5 Составитель А,КругловРедактор Л.ушакова Техред М.Петко Корректор Г.Назарова Заказ 8482/41 Тираж 526...

Номер патента: 711530

Опубликовано: 25.01.1980

Авторы: Белицкий, Белов, Вайнер, Елагин, Кузьменко, Ушомирский

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся

...их эластичность,Полученные данные приведены втаблице.П р и м е р 2. К раствору, приготовленному, как описано в примере 1, и состоящему из 70 г растворителя, 65 20 г (95 вес.ч.) ацетосукцкната целлюлозы, 4,г тркэтиленгликольдиметакрилата, 0,02 г гидрохинона и 2 гглицкдилметакрилата (в сумме 30 вес,ч,)0,03 г (0,15 вес,ч,) сС.-хлорантрахкнона, 0,189 г (0,9 вес .ч,) тетрав(оксипропилен) -этилендкамина, добавляют смесь, содержащую О,бб г,15,8 вес.ч) ПЭГ, растворенныхв .20 г ацетона.Полученную композицию перемешивают, Фильтруют, обеспузыривают и отливают пленки для экспонирования черезнегатив и испытания. на разрывной машине.При этом прочность пленки составляет 5 67 кгlмм, эластичность 20,67,1Гоптимальное время экспонирования 1.мин,П р и м е р...

Номер патента: 665640

Опубликовано: 29.02.1980

Авторы: Андрианов, Бауман, Гецас, Дабагова, Короткова, Лаптева, Лебедев, Малоголовкина, Матиясевич, Синайский, Хзахаров

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризцющаяся

...в которой К- метакрилоксиметклтриэтоксисиланы, М- метакрилоксиметилпентаметилдисилоисан.Для сравнения была использована фотополимеризующаяся композиция, состоящая из 1,00 вес, ч, фотополимеризуемогоолигоуретанакрилата ПДИАК и 5 вес. ч. олиго-эфиракрилата (ТГЧ) (см. композицию 1,табл. 1).Таблица. тополимера, Расстояние фронта ламп ЛУФ.80 до,внутренней поверхности стекол составило 60 люи. Время экспонирования 15 - 300 иин. Условия фотополнмеризации образцов приведены в табл. 2.С одной стороныС каждой стороныС одной стороныС каждой стороны 15 - 20120 - 30090 - 12035 1 - 6 1 - 6 1 - 6 1 - 6 1,3б26,5 Данные о физико-механических свойствах отвержденных композиций приведены в табл. 3, Разрывная прочность, удлинение при разрыве...

Номер патента: 720410

Опубликовано: 05.03.1980

Авторы: Белицкая, Васильев, Лазаренко, Сысюк, Токарчик, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, фотополимеризующаяся

...собность лин/см мкм Угол у основания печатающих элементов,град. Эластичность по прибору ШГ-,Времяэкспонированиямин Компо з иция 20 Менее 40 15 20 Менее 40 10 50 Менее 40 5 96 60 20 2 ототи Остальноеииспертизево СССРопублик,Формула изобретен и Источники информа е во внимание при э вторское свидетельс 9, кл. С 03 Р 7/10,прин ятныхкрилат- полниаовыше- мпозиции 1 Р 45 1971 2 У 25 1970Составитель А. КрТехред,М.Петко овКорректор Г Назаров Редакт о сное Подпмитета СССРоткрытийкая наб., д илиал ППП Патент, г. Ужгород, ул, Проектная, 4 П р и м е р . Для получения печатных Форм готовят три композиции (1-Ш), включающие (вес.Ъ) триэтиленгликольдиметакрилат ,5, Фотоинициатор -метиловый эфир бензоина О, 6 и отличающиеся содержанием...

Номер патента: 354760

Опубликовано: 15.03.1980

Авторы: Бедова, Глембоцкий, Дудяк, Коваленко, Лазаренко, Новак, Омелянюк, Розум, Чорна

МПК: G03C 1/68

Метки: печатной, формы

...печатающую поверхность.Износостойкую добавку - дисульфид молибдена - вводят в количестве 0,01 - 5 0,1 вес. ч.Пример.1. Изготовляют фотополимеризующуюся композицию следующего состава, веч. ч.: Указанную композицию наносят пульверизацией на поверхность стереотипа или 2 О другой печатной формы, тщательно обезжиренной известными способами, в количестве 1 г/м, высушивают потоком теплового воздуха и экспонируют двумя лампамиФ (354760 5 - 350,02 - 0,2 Составитель О, Зеленова Текред К. Шуфрни Корректор Ю. Макаренко Тираж 626 Подписное ЦН И И П И Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская наб д. 4/5 филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул, Проектная, 4Редактор Е. МесроиоваЗаказ 12 О 9/49 ПРК - 7...

Номер патента: 721794

Опубликовано: 15.03.1980

Авторы: Быстрова, Вайнер, Дюмаев, Лиманова, Эрлих

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, электронорезист

...примеру 1. Чувствительность резиста к электронному лучу составляет 7,810 Кл/см по сравнению с 1,4 10 Кл/см для аналогичного резиста на основе полиметилметакрилата.П р и м е р 3. Так же, как в примере 1, получают гидролизованный полиметилметакрилат с кислотным числом 170 мг КОН/г (время реакции 8 ч)(Готовят раствор 10 г укаэанно 1 о.полимера в 150 мл смеси растворителей того же состава, что в примере 1 получая электронорезист следующего состава, вес.%:Гидролиэованный полиметилметакрилат 7,0 Этилцеллозольв 48,2 Бутилацетат 27,3 Толуол 17,5 Далее действуют аналогично приме (1 у 1, Чувствительность резиста к электронному лучу составляет 6,3 10Кл/см по сравнению с 1,310 Кл/смййдля резиста на основе полиметилметакрилата.П р и м е р,...

Номер патента: 723489

Опубликовано: 25.03.1980

Авторы: Вербовая, Грищенко, Гудзера, Карнаух

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...1 З,5.трифенилверлФила.23489 4лнмеризованные (пробельные) участки промывают ацетоном нли метнлэтилкетоном. Композицию помещают в ячейку из двух плоскопараллельных стекол, имеющих уплотняющиеограничители по периметру, и экспонируют черезнегатив ртутно-кварцевой лампой мощностью1000 вт (ПРК) на расстоянии 30 см, Не.запоВремя от- верждения Твердост6по Шору де тельное н на азрыв,Г/см ние при азрыве,% 15-12 Предлагаемая Ф О 0,0 72.7-6 80.8 редлагаемая М 5,0 70 2.74 95-98 Предлагаемая БФ 80 5.78 Известная 11) ионол 2,0 40,2 раз, физико.механические. характеристики изделий при этом возрастают на 30%.Формула изобретенияФотополимеризующаяся композиция для изго.товления фотополимерных иэделий, включающаяолигоуретанакрилат, олигоэфиракрилат,...

Номер патента: 728107

Опубликовано: 15.04.1980

Авторы: Белицкий, Вайнер, Остапчук, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: печатная, форма, фотополимерная

...которой имеются вакуумные канавки для крепления тонкой полиэтилентерефталатной пленки (ПЭТФ-пленки), магнитной полукассеты, на которой крепится стальная подложка с нане. сенным промежуточным слоем, и ростовой рамки.толщиной 0,8 мм.15На базовую стеклянную полукассету укладыва ют модельный негатив, покрывают его тонкой полиэтилентерефталатной ПЭТФ-пленкой (10.12 мкм), которую фиксируют вакуумом; про. изводят смыкание полукассет и заполняют кас о сету жидкой фотополимеризующейся композицией.Собранную и заполненную кассету устанавливают на расстоянии 150 мм от источника излу. чения. Экспозицию подбирают таким образом, 25 чтобы на форме воспроизводились 5% растровые поля. После разборки кассеты проявленйя формы водой и...

Номер патента: 728108

Опубликовано: 15.04.1980

Авторы: Викторова, Дилунг, Усачева, Чернецкий, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: водорастворимая, композиция, фотополимеризующаяся

...слой.Экспонирование слоя проводят через фото. шаблон и фильтр ЖС.4 в течение 12 мин све. 1 О том лампы ПРК, находящейся на расстоянии 40 см от слоя. Рельеф слоя проявляют вымыванием необлученных участков струей воды. После высущивания рельефного слоя получают трафаретную печатную форму с хорошей передачей 15 всех элементов модельной фотоформы.П р и м е р 2. 12,75 весч, полиакрилата натрия (мол.вес. 15000-30000) растворяют в 72,26 вес,ч. этанола. К тюлученному раствору добавляют 0,3 вес.ч. 10 - М - окиси 1,4-диметок о сифеназииа, 0,25 вес.ч. гидрохинона и 0,5 вес.ч, скапролактама, предварительно раство. рениых в 12 вес.ч, этанола, К этой смеси при тщательном перемешивании приливают 1,7 вес.ч, акриловой кислоты и 10 вес,ч. зтилентликоль...

Номер патента: 728109

Опубликовано: 15.04.1980

Авторы: Кузнецов, Погост, Тряпицын

МПК: G03C 1/68

Метки: защитных, рельефов

...кетон Михлера, бензофенон, метиловыйэфир бензоина, трихлордифенил или их смеси.Применение предлагаемого способа позволяетулучшить качество защитного рельефа безизменения существующей технологии их изготовления, а также. конструкции оборудования.Предлагаемый способ может использоваться40при изготовлении изделий из различных фольгированных диэлектриков, которые могут бытьперфорированными или сплошными, с двухили односторонним покрытием фольгой. Способ может быль реализован также при исполь 45эовании фольгированных диэлектриков, имеющих несштошное (локальное) покрытие фольгой) .В качестве сухих пленочных фоторезистов:могут использоваться, главным образом,негативные фоторезисты, имеющие сухой50светочувствительный слой на основе...

Номер патента: 731413

Опубликовано: 30.04.1980

Авторы: Алиев, Журавлев, Заумыслов, Мартыненко, Минаждинова, Мозжухин, Рагимов

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, светочувствительный, состав

...неиодированного поли-а-цафтолаДиметиловый эфир диэтилгликоля Слои толщины 0,3 - 1,5 мкм из указанных в табл, 1 светочувствительных составов формируют методом центрифугирования и сушки в течение 0,5 ч при температуре, не превышаюгцей 363 К на окисленной полированной поверхности пластин кремния. Экспонирование через фотомаску осуществляют излучением лам пы марки ДРШ - 500 (Е = 4 10 лк), РельефРазрешающая способность, периодов оцных размеров при ионном Ь = 0,46 мкм слояния, % 3 э 1 илецгликоля, метилэтилке тоц, диметилформа. мид или их смеси. Предложенный состав позволяет формировать ца поверхности полупроводников термоустойчивые ЗПМ, лолускаюцие нас ревание под. ложки до 670 К в процессе локального ионного и плазмохимического...

Номер патента: 732784

Опубликовано: 05.05.1980

Авторы: Вишнякова, Дроб, Шибанов, Шпичка

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующая

...воды, 1,8 г хлорангидрида метакриловой кислоты 1 соотношение смола: хлорангидрид), вес,ч,: :1 и постепенно добавляют 0,78 г едкогокалия в чиде 10-ного водного раствора. После загрузки едкого калия температура реакционной смеси повышается на 1,0 С. Через 1 ч охлаждение убирают и продолжают синтез при комнатной температуре в течение 3 ч. Выделение олигомера из реакционной смеси аналогично примеру 1, Синтезированный олигомерпрозрачная вязкая жидкость. Содержа.- ние воды 24,3, Полуволновой потениал восстановления 1,78. Ларактеистическая полоса в области 1645 сМи 1200 см свидетельствует о наличииС:С и С-О-С(О)-групп. Молекулярныйвес (криоскопия в воде) 430-460.Для изготовления Фотополимеризующейсякомпозиции используют 1,33 г полученного...

Номер патента: 732785

Опубликовано: 05.05.1980

Авторы: Бетанелли, Гвоздовский, Гудзера, Кисилица, Козенков, Магдинец, Михайлова, Передереева, Спирин

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...100 мкмс отверстием в виде круга дизметром40 мм. На поверхность пластинки вцентре круга наносят дозированноеколичество композиции 0,2 мл, втораятакая же стеклянная пластинка прижимает каплю и распределяет еев виде слоя по поверхности круга;полученный триплекс зажимают струбцинами так, чтобы композиция невытекала, а заполнила точно объемцилиндра, высота которого равнатолщине прокладки, а диаметр основания равен диаметру круга. Поверхность об 1 азца закрывают черной бумагой так, чтобы открытыми оставались края светочувствительного слояшириной 1 мм. После облучения закрытого таким образом триплекса полнымспектром излучения ртутной лампыСВДи течение 5 мин струбциныснимают. Полученный образец представляет собой герметичную плоскуюкювету,...

Номер патента: 732786

Опубликовано: 05.05.1980

Авторы: Арбузова, Езриелев, Кочеткова, Ростовский, Шефер

МПК: G03C 1/68

Метки: состав, фоторезиста

...печатных форм в полиграфии. и этерифицируют 18,5 г (0,11 моля) хлорангидрида коричной кислоты при 25 С. Дальнейшую обработку и выделение полимера производят в усповия 1 примера 1,Выход - 25,2 г полимера, содержащего 98 коричных эфирных групп и имеющего характеристическую вязкость 1,6 дл/г, что соответствует СП 3000. Для сравнения по фоточувствительности, температуре размягчения и теплостойкости предложенного состава и известного готовят в идентичных условиях из раствора в хлороформе пленки Фоторезистов, состоящие из соответствующих полимеров без добавки или с добавкой различных количеств фотосенсибилизаторов. Пленки, высушенные до постоянного веса, облучают лампой ПРК. Через определенные промежутки времени облучения определяют...

Номер патента: 734597

Опубликовано: 15.05.1980

Авторы: Белицкая, Белицкий, Вишнякова, Князева, Медведева, Розенберг, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...алюми 1 П 1 евую подложку, Сушат на воз 45духе в темном месте в течение 24-48 ча.сов и экспонируют готовую пластину через тест-негатив полным светом лемтпыЛУФна расстоянии 6 см. Время экссОпонировения, необходимое для получения форм с разрешением 100 лингсми углом у основания 70 составляет 335 мин, Время вымыва 111 я фон водопроводной водой при 30 С 3-4 мин,Данные по эластичности форм приведены55в таблице.П р и м е р 2, Композицию готовяткак в примере 1, В качестве полимерП р и м е р 3, Для фотополимеризующейся композиции используют 4,5 г(23,5 вес.ч.) сополимера винилового спирта и моновинилового эфира этиленгликоляописанного в примере 1. Все остальныекомпоненты и методика синтеза композиции и отлива пленок аналогична вышеописа 11 ным...

Номер патента: 737911

Опубликовано: 30.05.1980

Авторы: Белицкий, Вайнер, Гладилович, Елагин, Ефимов, Кузьменко, Ушомирский

МПК: G03C 1/68

Метки: печатающих, печатных, раствор, укрепления, форм, фотополимерных, элементов

...припрессовывают пленку, обра.ботанную спирт-ацетоновым раствором, содержащим 4,5% гидроперекиси изопропилбензола,Полученные пластины выдерживают 20 минв йрмошкафу при 90 С, После облученияи вымывания на форме обрабоУанной предлагаемым раствором остается четкий рельеф,составляющий одно целое с полимерным под. 11 4.слоем толщиной 40 - 50 мкм. Печатающие элементы холостой формы держатся на под. ложке на клеюП р и м е р 3. Фотополимеризующуюся пленку, описанную в примерах 1 и 2, обра. батывают описанным в этих примерах способом спирт ацетоновым раствором, содержащим 15-30% ного водного раствора перекиси водорода, и 0,001% хлористого алюминия, Полученную пластину выдерживают 20 мин в термошкафу при 90 С и вымывают. Остающий. ся гладкий...

Номер патента: 737912

Опубликовано: 30.05.1980

Авторы: Васильев, Коршунов, Лазарянц, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...для фото.рм, изготовленных по этому при. полимеризации энергия облучения (4800 -последующв, приведены в табли дж), что на порядок меньше, чем впрототипе (60000 дж).Экспериментальные данные и результаты испытаний по изготовлениюфотополимерных печатных форм, описанных в примерах 1 - 5,верхность 0 одою ест яща 2 2 одои 500 Водой 10 0 0 60 одой 5 600 дой Прототи 000 Шелочью веденно 3метакрилата, содержащего 0,02 г (0,104 вес.ч.)ионола и 1,33 г (6,92 вес.ч.) полиэтиленгликоля, Затем растворяют 0,019 г (0,098 вес.ч.)натриевой соли 2,6.а 1 ютрахинондисульфокислотыи 0,05 г (0,26 вес.ч.) дитионата натрия в 2 мл,дистиллированной воды и при перемешиваниивводят в,смесь полимера, сшивающего агентаи пластификатора. Фотополимеризующуюся...

Номер патента: 739462

Опубликовано: 05.06.1980

Авторы: Балакин, Карпов, Козлов, Кузнецов, Милованов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...приготавливают, как описано в примере 1, но вее состав дополнительно вводят 10 г 50пластификатора триацетина. Показателифотопопимерйзующейся композиции не, изменяются, но температура экструзиисветочувствительного слоя может бытьснижена до 75 ОС ввиду меньшей вяэкос ти композиции.П р и м е р 3. Состав композиции, г:Теломер н-бутилметакрилвта, метакриловой кислоты и мат.35 5 7криламидв (мопярноесоотношение 60:35:5)с молекулярным весом3000 у.е. и концевымиостатками 2-антрахинона 100Триэтиленгликопьдиакрилат 28Триэтиленгликопьдивцетат10Краситель Основной синий "3 0,25й -Метоксифеноп 0,02.Приготовление и испытание фотополимериэующейся, композиции производят,как описано в примере 1, но в качествепроявителя испоньзуют 2%-ный водныйраствор...

Номер патента: 741227

Опубликовано: 15.06.1980

Авторы: Викторова, Глембоцкий, Гранчак, Дилунг, Серебряный, Усачева, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: водорастворимая, композиция, фотополимеризующаяся

...15000-30000) растворяют в 72,25 вес.ч. этилового спирта и к полученному раствору (концентрация полиакрилата нат рия 15 вес.%) добавляют 0,05 вес,ч, 4-хлорбензофенона, 0,1 вес,ч. 1-метокси-этокси-феназина 0,02 вес,ч, гидрохинона и 0,45 вес,ч, Я -капролактама, предварительно растворенные в 12 вес.ч, этилового спирта. Затем при тщательном перемешивании вливают 1,7 вес.ч. акриловой кислоты и 1,4 вес,ч. этиленгликольдиметакрилата. После гомогениэации и обезвоздушива 30 35 новую сетку,Э кспонирование плен ки проводят через фотошаблон лампой ПРКна расстоянии 40 см без фильтра и с Фильтром ЖСсоответственно в течение 0,5 и 1 мин. Изображение на пленке проявляют вымыванием необлученных участков струей воды. После высушивания получают трафаретную...