G03C 1/68 — G03C 1/68

Номер патента: 1065816

Опубликовано: 07.01.1984

Авторы: Белицкая, Белицкий, Белов, Вайнер, Золотухин, Трахтенберг, Ушомирский

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

...толщиной 0,25 мм, покрытую лаком ЭП, которая выпускается промюленностью по ТУ 14-1-2771-79. Толщина сухого лакового покрытия находится в пределах 5-7 мкм.В соответствии с МРТУ 6-10-758-68 лак ЭПпредставляет собой раствор бутанолизированной фенолпаратретичнобутилфенолформальдегидной смолы ФПФ, высокомолекулярной смолы Э-ЗО-Т или Э-К в этилцеллозольве с добавкой.ортофосфорной кислоты ц качестве катализатора отверждения.На слое закрепляют нег.,тив и экспонируют ультрафиолетоным светом (лампы ЛУФТ, расположенные на расстоянии б см от слоя) в течение 15 мин и вымывают пробелы 0,15-ным водным раствором гидроокиси натрия. Профиль печатающих элементов полученной фотополимерной печатной формы, замеренный при помощи часового проектора ЧП,...

Номер патента: 1087950

Опубликовано: 23.04.1984

Авторы: Ганич, Задонцев, Котляр, Лазаренко, Малейкович

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...основы 1,2 мин, со стороны негатива - 6,5 мин. Незаполимеризовавшуюся композицию сливают, раму демонтируют и пробелы О форм очищают спирто-ацетоновым раствором. Формы подвергают термообработке при 100 С в течение 3 ч.П р и м е р 2. Готовят композицию следующего состава, мас.7: 15о(, 1 о -Метакрил-(бисдиэтиленгликоль) --фенол 0,22Изо-метилтетрагидрофталевый ангидрид36 30 Как видно из приведенных данных, фотополимерные печатные формы, полученные из композиции, которая со держит модифицированную эпоксиднуюВНИИПИ Заказ 2669/43 Филиал П Патейт 1 ф, г Триэтиленгликоль-диметакрилат 20,0Метиловыи эфирбензоинаМодифицированнаяэпоксидная смола УП Изо-метилтетрагидрофталевый ангидрид2,4,6-Трис-(диметиламинометил)- в .фенол 0,44Остальное, как в...

Номер патента: 1089546

Опубликовано: 30.04.1984

Авторы: Грищенко, Гудзера, Дацко, Дрягилева

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, копировальных, слоев, фотополимеризующаяся

...су- растворителей. Экспонируют через нешат до постоянного веса5 гатив под УФ-излучением лампы ЛУФ;в течение 45 сек и обрабатывают проП р и м е р 2 . Смешивают)мас.ч: явочным раствором (1-ный водный акриловый сополимер 5, растворенный раствор бикарбонатаонатрия). Для при. в 35 ацетона, аллилуретан формулы 11 данин изображению необходимой опти,5, полученный по примеру/1 и раст" 10 ческой плотности его обрабатывают воренный в 5 ацетона. Смесь переме-ным водньм раствором красителя шивают в течение 4 ч при 50 С. Затем черного 3 и получают вторичнуюоохлаждают, добавлядт 1 олигоэфиракри фотоформу. Свойства копировального лата ТГИ-три-(оксиэтилен) о( ю "ди- слоя и вторичной фотоформы на его метакрилат, 1 метйлового эфира бен основе приведены в...

Номер патента: 1097963

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Губен, Иванчева, Орлов, Раецкий, Шульга

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

...6-05-431-78), Поэтому в качестве активной полимерной основы выбрана смола ПН-ЗО, где концентрация стирола составляет 40.П р и м е р 1. Ъ реактор с мешалкой и обратным холодильником загружают, мас. ч.: олигоэфирэпоксид 70360,8; гидрохинон 0,27; малеиновый ангидрид 20,9; метакриловую кислоту18,35.Смесь перемешивают при 70 С в теочение 2 ч, К 30 мас.ч, полученногосмешанного олиготриметакрилата добавляют 70 мас, ч, олигодиэтиленгликольмалеинатадипината марки ПН(ОСТ6-05-431-78)(60-ный раствор в стироле) и 0,5 мас. ч. изобутиловогоэфира бензоина, перемешивают до получения однородного раствора,Полученную композицию заливают между двумя стеклами, разделенными ограничительной прокладкой необходимойтолщины и производят двухстороннееоблучение...

Номер патента: 772396

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Бирюкова, Егорочкин, Кузнецов, Молодняков, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...со-.15 ставляет не более 15 (преимущественно 3-5) от веса сухих компонентов фоторезиста.В качестве комплексообраэующейдобавки могут быть использованыйод, тетрацианэтилен, тринитрофенол, тетрацианхинодиметан, и -броманил, П -хлоранил и другие.Присутствие одного из этих соединений в составе негетивного фоторезиста позволяет полностью погасить люминесценцию, что в своюочередь позволяет повысить разрешающую способность фотореэиста и качест.во воспроизведения субмикронныхэлементов.П р и м е р. Готовят негативныйфоторезист следующего состава,мас.: Состав 1 дрототип)35 ПоливинилциннаматСенсибилизаторкетон МихлераРастворителитолуол : хлорбен 40 зол (3:1) 5-10 0,5-1 Остальное Состав 6. Отличается от состава 1тем, что в него...

Номер патента: 772397

Опубликовано: 15.06.1984

Авторы: Бирюкова, Егорочкин, Кузнецов, Молодняков, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...воспроизводить с высокимкачеством субмикронные элементы шаблона, 35Целью изобретения является повышение стабильности разрешающей способности фотореэиста и повышение качества воспроизведения субмикронныхэлементов.20Поставленная цель достигаетсятем, что фоторезист дополнительносодержит в своем составе комплексообразующую добавку, например йод,или тетрацианэтилен, или тринитроФенол, или тетрацианхинодиметан приследующем соотношении компонентов,мас.: дополнительно содержит комплексообразующую добавку соединении, образующего донорно-акцепторный комплекс с исходными соединениями и продуктами реакции. Количество вводимой добав ки составляет не более 15 (преимущественно 3-5) от веса сухих компонентов резиста. Такими добавками могут являться...

Номер патента: 1105850

Опубликовано: 30.07.1984

Авторы: Баранов, Гузиков, Петров, Турчин

МПК: G03C 1/68

Метки: водорастворимая, композиция, печатных, светочувствительная, трафаретных, форм

...содержит ненасыщенную полиэфирную смолу структурнойформулы щ= 1-5;и =1-5,метиловый эфир бенэоикалия, тиомочевину, пкислоту при следующемкомпонентов, мас. ч.: Ненасыщенная полиэфирная смола структурной формулы 1 У 190-210Вода 550-5905 Ненасыщенная полиэфирная смолаформулы 1 У представляет собой промышленно выпускаемый продукт маркиПН - 1 (ТУ,6-05-1082-76);1 ОПромышленная смола ПНпредставляет собой смесь продуктов поликонденсации диэтиленгликоля с малеиновым и фталевым ангидродами (формулы 1 У) и используется в составе композиции без предварительного фракционирования.Поливиниловый спирт также промьцпленно выпускаемый продукт маркиПВС Ш (ТУ-05-1592-72, мол. масса 40-60 тыс.). Поливинилацетатная20дисперсия - промышленно...

Номер патента: 1105851

Опубликовано: 30.07.1984

Авторы: Гусарская, Зеленова, Калашников, Олейник, Померанцева, Треушников

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...композиции при толщинах 50 100 мкм в несколько раз больше, чем50 у композиции по базовому объекту, При толщинах более 100 мкм светочувствительность предлагаемой композиции превышает светочувствительность композиции по базовому объекту в де - 55 сятки раз.Незащищенные участки матрицы, выполненной на базе предлагаемой ком П р и м е р 2, Композицию готовят как в примере 1 при следующем соотношении компонентов, вес.0:Хлорированный поливинилхлорид 12,01 етиловый эфир бензоина 1,2Эпоксидная смола 25,0Диметакрилаттриэтиленгликоль 61,8П р и м е р 3. Композицию готовят как в примере 1 при следующем соотношении компонентов, вес. Е:Хлорированный поливинилхлоридМетиловый эфир бензоинаЭпоксидная смолаДиметакрилаттриэтиленгликоль 78,3 5,0 0,7...

Номер патента: 1109364

Опубликовано: 23.08.1984

Авторы: Белая, Белицкая, Весоловский, Золотухин, Куновская, Пугачевская, Тучапский, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...100 мас.ч. ненасыщенного полиэАира, полученногопа примеру 1 А, 25 мас.ч. триаллилизоцианурата, 40 мас.ч. диметакрилататриэтиленгликаля, 0,03 мас.ч, гидро,1 О хинона, 1 мас,ч. изобутилового эфирабензоина, 0,3 мас.ч, 1 -аскорбиновойкислоты, 0,03 мас.ч. соли иодистоводородной кислоты, 5 мас.ч. 1,2-пропиленгликоля,Г, Стабильность композиций, полученных цо примеру 1 Б и В при комнатной температуре определяют как времядо качала желатинизации.Данные о стабильности композиций5 О приведены в табл. 2 и 3,Д. Оценку термостабилизации композиций, полученных по примеру 1 Б иВ, проводят при 60 и 80 С, Для этого композиции выдерживают в суховоз 5 душном ультратермостате при 60 С иопределяют время да начала желатинизации. При 80 С композиции выдерживают...

Номер патента: 1109708

Опубликовано: 23.08.1984

Авторы: Бузуев, Воскобойник, Егорочкин, Разуваев, Федоров

МПК: G03C 1/68

Метки: изображения, негативного, позитивном, фоторезисте

...слоя фоторезиста проявляют в 0,5%-ном растворе КОН. Ширина линий полученного рисунка 0,55 мкм, зазор между линиями 0,95 мкм (протяженность линий 200 мкм).Пример 2, Промышленный позитивный фоторезист ФП-РН, имеющий светочувствительный компонент на основе сульфоэфира-о-нафтодиазохинона триоксибензофенона, а в качестве пленкообразующей, - резольно-формальдегидную смолу, наносят и обрабатывают как в примере 1.Первоначальное экспонирование 10 с (1 10Вт/см), термообработка в течение 6 мин при 130 С, второе экспонирование 30 с, проявитель - 0,5%-ный КОН, Ширина линий полученного рисунка 0,5 мкм, зазор между линиями 1,0 мкм.Пример 3. Состав резиста, г: сульфоэфир о-нафтодиазохинона 4,4 -диоксидифенилметана 8; резольно-формальдегидная смола СФА...

Номер патента: 1123013

Опубликовано: 07.11.1984

Авторы: Бабкова, Белицкая, Золотухин, Иванов, Куновская, Михалюк, Остапчук, Страшко, Тучапский, Тымчишин, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся

...гидроксильное число 59;в=8,3 п=3,58.В, Готовят жидкие Фотополимеризующиеся композиции путем смешения компонентов до гомогенного состояния. Составы композиций приведены в табл,3, Образцы композиций подвергают испытаниям для определения основных технологических показателей как .ком-. позиций, так и печатных Форм на их Фоснове, Методики испытаний приведеныв примерах Г,Д,Е,ЖЗ, а результаты испытаний - в табл. 4Г, Для определения относительной светочувствительности образцы ФПК заливают в кассету, состоящую из двух плоскопараллельных стеклянных пластин и специальной "ростовой" рамки толщиной, 1,75 мм. Заполненную кассету облучают по зонам различными дозами актиннчного излучения, используя излучатель, состоящий из панели . трубчатых...

Номер патента: 1132276

Опубликовано: 30.12.1984

Авторы: Белицкий, Вайнер, Гладилович, Михлин, Румянцева

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...слоя закрепляют тест-негатив, содержащий повторяющиеся участки для определения оптимального времени экспонирования, экспонируют УФ-светом (лампы ЛУФТ, расположенные на расстоянии 6 см от слоя) в течение различного времени, путем перекрывания 1 отдельных участков пластины светонепроницаемой бумагой, вымывают пробелы 0,157-ным водным раствором гидроокиси натрия, контролируя время вымывания до подложки, сушат в естественных условиях и определяют оптимальное время экспонирования, рассматривая полученную форму через лупу с увеличением Х 10, как это описано в ТУ 6-17-1841-81, За оптимальное время предэкспонирования и экспо,нирования принимают наименьшее суммарное время предэкспонирования и экспонирования,. нри котором печатающие...

Номер патента: 1141100

Опубликовано: 23.02.1985

Авторы: Акоева, Гординский, Манукянц

МПК: C08F 220/06, G03C 1/68

Метки: аллилбензоина, композиций, линейный, сополимер, статистический, фотополимеризующихся

...линейный статистический сополимер бензоин (мет)акрилата с (мет)акриловой кислотой.и алкилметакрилатом или стиролом общей формулы В 1 Вд В1 1 С - СН С - СК 2 С- СН 2СООНСООТГ Ъ О В 5 у где В К и В 4 Н или СН,)СН 8ш = 15,6-60 мол.%;и = 20,0-83,2,мол,%;р = 0,8-20 мол,%,1шивании на кипящей водяной бане до(МЭК). Получают 328,8 г растворас концентрацией 34,5%, Выход сополимера 92,1%.Для очистки и анализа сополимердважды осаждают в н-гексане, растворяют с МЭК и осаждают в дистиллированной воде, Выпавщий сополимеротделяют и высушивают; он представляет собой белую массу, растворимую вацетоне и МЭК, Эквивалент: найдено,664,17, вычислено 615,8 К=СНз,К=СООСНЗ, ш = 16,4 мол.%, п =30 Составитель Л.ВалуевРедактор Г,Волкова Техред А.Бабинец . Корректор...

Номер патента: 1144085

Опубликовано: 07.03.1985

Авторы: Быстров, Веселовский, Кузнецов, Лебедев, Пергамент, Тряпицын, Шульга

МПК: G03C 1/68

Метки: композиции, фотополимеризующейся

...35 ченной по предлагаемому способу, составляет 60 с. Фотонолимеризующаяся композиция, полученная по известному способу менее светочувстви(40 тельна и требует 2,5 мин экспонирования в тех же условиях испытания.Для применения полученной фотополимеризующейся композиции в технологии печатного монтажа образец 45 композиции по примеру 1 наносят с помощью ракеля на поверхыость заготовки фольгированного диэлектрика размером 150 х 150 мм с толщиной медной фольги 50 мкм. Толщина .слоя фотополимериэующейся композиции составляет 50-10 мкм. Образец помещают в вакуумную раму и при помощи микро- метрических винтов на расстоянии 0,2 мм от поверхности светачувст- , 55вительного слоя устанавливают стеклянный фотошаблон, имеющий рисунок проводников с...

Номер патента: 1155472

Опубликовано: 15.05.1985

Авторы: Ермоленко, Ломоносова, Севастенко

МПК: B41M 5/00, G03C 1/68

Метки: контактного, материал, матричный, фотокопирования

...целлюлозы 9,67Толщина полученного слоя в виде пленки 30 мкм. Пленку наносят на пористый материал - непроклеенную бумагу толщиной 100 мкм аналогично примеру 1. На матрице получают позитивное изображение оригинала аналогично примеру 1. Для получения копии на матрицу со стороны пленки наносят слой сухого красителя - бенмлазорезорцина. Матрицу накладывают на приемный слой. Краситель сублимируют при нагревании до 150 С и на приемном слое получают копию оригинала.Пример 3. Получают материал аналогично примеру 1. Однако соотношение компонентов в смеси, из раствора которой наносят светочувствительный слой, следующее мас.о/о.Ацетил целлюлоза 50Ацетосукцинат целлюлозы 50Толщина пленки 15 мкм. Пленку наносят на пористый материал -...

Номер патента: 1176292

Опубликовано: 30.08.1985

Авторы: Гильмутдинова, Еналеев, Закирова, Кривда, Магдеев

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, светочувствительная, травления

...дистиллированной водой. Композицию тщательно перемешивают, выдерживают при комнатной температуре в течение суток и нано- ф 5 сят на подложки иэ нержавеющей стали марки 40 13 Мо.Достаточную адгезию светочувствителвного слоя к подложке обеспечивают.проведением следующих подготови тельных операций.Обезжиривание поверхности - снятие жирных отложений производят вначале в холодном растворе трихлорэтилена,. ТУ 6-09-3841-77"ч" (Т = 18 о,23 С,= 5 мин ), затем в парах трихлорэтилена (Т = 93 С, Г = 5 мин ).,Для подтравливания используютраствор хлорного железа ГОСТ 11159-76(д = 1,44-1,46 г/см , Т = 36-38 С,С= 5 мин ).Для повторного обезжиривания используют щелочной раствор следующегосостава:Едкий натр ГОСТ4328-77 30 гГлюконовая кислотаТУ...

Номер патента: 1178334

Опубликовано: 07.09.1985

Авторы: Джордж, Питер

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...после такойэкспозиции погружают в ацетон,з 1.1 сушивают, измеряют толщину.Полученные результаты приведеныв табл. 1, 35П р и м е р ы 9-18. Готовят раствора, с держащие 100 мас.ч. эпокси-.ла - 3,4-эпоксициклогексилметил,4-"(ЕЯХ 221 фирмы "Юнион Карбайд Корп.",)30и 0,1 мас,ч, супьфониевых солей,перечисленных в табл, 2. Каждый растС. Ч Б СН Б(С НБЪРАк Б БЬР 6С Ч О С Н Б(СЯ) БЬР СгНО СьН Б (С 6 Н) БЬР вор отвешивают в форму из сажевого каучука для получения образца толщиной 0,5 см. Затем Форму помещают под лампу солнечного света 275 В на расстоянии 10 см. Каждый образец экспонируют 4 мин и 15 мин, После отверждения образец помещают в ацетон, перемешивают 20 мин, вынимают, сушат на воздухе, измеряют толщину. Данные приведены в табл. 2.П р...

Номер патента: 1182050

Опубликовано: 30.09.1985

Авторы: Алыев, Гасанова, Гулиев, Мусина, Рамазанов

МПК: C08F 222/06, G03C 1/68

Метки: алкенилциклопропанкарбоновых, аллиловых, ангидридом, качестве, кислот, малеиновым, основы, светочувствительной, сополимеры, фоторезиста, эфиров

...(1),где К 1=СН К, =Н, в количестве1,66 г (0,01 г/моль), 0,98 г(0,01 г/моль) малеинового ангидрида,ДИНИЗа в количестве 0,0528 г (2% 55от веса исходных соединений). Выходсоставляет 1,848 г (70%). П р и м е р 4 Полимеризацию проводят аналогично примеру 1, но в качестве мономера используют алли- ловый эфир 2-метил-изопропенилциклопропанкарбоновойкислоты формулы (1), где К и К,=-СНв количестве 2-28 г (0,01 г/моль),0,98 г (0,01 г/моль) малеинового ангидрида, ДИНИЗа в количестве 0,0326 г (2% от веса исходных соединений). Выход составляет 2,314 г (71%).В ИК-спектре полученных сополимеров имеются характерные полосы поглощения для карбонильных и аллиловых групп в области 1730 и 1640 смсоответственно Вхождение в цепь сополимера ангидридных1...

Номер патента: 1200860

Опубликовано: 23.12.1985

Авторы: Герберт, Карл-Фридрих, Отто, Ханс, Ханс-Георг, Ханс-Дитер

МПК: G03C 1/68

Метки: покрытий, состав, фотополимеризующийся

...и наносят на стеклянную плиту, Толщина слоя лаковой пленки после отверждения составляет около40 мкм.Применяют следующие фотоиницнатоПредлагаемый ФИ 1: 2-бензоил- -фенил,7-дигидро,3-диоксепин,Известный ФИ 2: 2-бенэоил-фенил,3-диоксолан.45Облучение осуществляют в соответствующем приборе (РРС), снабженном лампой мощностью 80 Вт/см. При этом проба с различными скоростями проходит под лампой, Самая высокая ско 50 рость, при которой достигают еще достаточного отверждения пленки за один прогон до прочности на стирание соответствует максимальная скорость и является критерием реактивности фотоотвердителя.Твердость лаков, отвержденных при максимальной скорости, определяют 60 2по маятниковому прибору по Кенигу1 ДИН 53157), причем укаэанная...

Номер патента: 542408

Опубликовано: 23.03.1986

Авторы: Берлин, Бернацек, Брикенштейн, Вакар, Дубовицкий, Кефели, Коваленко, Лазаренко, Маршавина, Мервинский, Радугина, Тищенко, Филипповская

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, фотополимеризующаяся

...содержит олигокарбонатметакрилатили его смесь с олигоэфиракрилатомили олигоэфирмалеинатом в отношении1:1 при следующем соотношении междукомпонентами, мас.7.:Метилметакрилат 5-10Бензоин 0,5-1,0Олигокарбо- натметакрилат или его смесь с оливгоэфиракрилатом или с оли- гоэфирмалеинатом Остальное. Высокая прозрачность олигокарбонатметакрилата и его смесей с олигоэфирмалеинатом или олигоэфиракрилатом пОзволяет сократить время экспонирования и улучшить такие качественные характеристики полимерных печатных форм, как,профиль, разрешающую и выделяющую способность, Такие печатные формы обладают высокой тиражеустойчивостью (более 0,5 миллио 4 542408 2на оттисков), хорошими красковосприятием и краскоотдачей, устойчивостьюк растворителям...