G03C 1/68 — G03C 1/68

Номер патента: 339897

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Гординский, Гориздра, Пдтектно

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...или оксигр- МН - ; Изобретение относится к фотополимеризующейся композиции, которая может найти применение при изготовлении печатных форм, печатных схем, сеточных трафаретов и отверждаемых светом покрытий, 5Известна фотополимеризующаяся композиция, включающая полимер, полимеризационноспособное соединение и инициатор фотополимеризации - антрахинон или перекись бензоила, 10Цель изобретения - повышение светочувствительности композиций.Эта цель достигается тем, что в,качестве инициаторов фотополимеризации применены производные птеридина общего строения 1 15 или 11 вор 3,3 г сополимера меы и метилметакрилата 0 м г этанола смешивают о раствора диметакрилат фир ТГМ) концентр а-этилмеркапто-оксо,71 мл этанольного растволетового...

Номер патента: 341000

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Бородкина, Еремина, Малахова, Михотова

МПК: G03C 1/68

Метки: материал, пьный, термочувствите

...к термочувствительпым материалам, применяемым для записи информации локализованным тепловым источником.Известен термочувствительный материал, состоящий из подложки и термочувствительного слоя, который содержит связующее - сополи мер бутадиена со стиролом, поливинилденхлорид, поливинилацетат или казеин и диспергированный в связующем латекс сополимера винилхлорида с винилацетатом, сополимера винилхлорида с винилденхлоридом,Такая композиция термочувствительного слоя легко расслаивается в процессе получения материала (нанесения слоя на подложку).Цель изобретения - получение материала с хорошей адгезией, высокой оптической плотностью. Для достижения этой цели применяют сополимер винилхлорида, акрилопптрила и винилацетата.Сополимер...

Номер патента: 343449

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Иностранцы, Такеаки, Терухиса

МПК: C08L 67/06, G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризуемая

...2 Х 10 В С С 10 000 То же С Д С То же То же ЗХ 10 В В С 14 То же То же Д Д С То же а З о С Двухатомный спирт, мольПолиоксипропиленгликоль (средний мол. вес 1000) 0,50 Пропиленгликоль 0,30Полиоксипропиленгликоль (средний мол. вес 1000) 0,20 Диоксиэтиленгликоль О,ОПолиокситетраметиленгликоль (средннй мол. вес 200)0,40 Этиленгликоль 0,10Диоксиэтиленглнколь 0,40 Этиленгликоль 0,30а .,са - диоксиполибутадиен(средний мол. вес 2000)0,20 Тетраметиленгликоль 0,50Полиэтиленгликоль (средниймол. вес 300) 0,25 Дикислота, моль Малеиновая кислота 0,10Адипиновая кислота 0,40 Фумаровая кислота 0,25 Адипиновая кислота 0,25 Малеиновый ангидрид 0,10 Себациновая кислота 0,40Малеиновый ангидрид 0,05 Янтарная кислота 0,45Фталевый ангидрид 025 Концентрация...

Номер патента: 352257

Опубликовано: 01.01.1972

МПК: G03C 1/68

Метки: покрытия, удаления, фоторезистного

...изобретения - упрощение технологии процесса (исключение вредных и опасных технологических операций) .Эта цель достигается тем, что полимерные покрытия из фоторезистов на основе, например, 1-нафтохинон-диазосульфохлорида, нанесенные па защищаемую поверхность фото- литографическим способом, полностью удаляют, подвергая подложку термической обработке при 300 С в потоке любого окислитель- ного газа,Нагревание целесообразно проводить при давлении не менее 0,1 ати.При этом искажений свойствнеорганического материала, на пкоторого наносят защитное покпроисходит. В технологии производства полупроводниковых приборов во многих случаях процесс удаления полимерного защитного покрытия предлагаемым способом можно совместить с 5 процессом...

Номер патента: 383334

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Джозеф, Джон, Ииоотраицы

МПК: G03C 1/68

Метки: составi2, фоточувствительный

...могут быть смешаны в произвольной пропорции с пленкообразуошей смолой для образования чувствительной к излучению композиции, используемой, например, в защитных слоях печатных пластин, Когда полиалкиленгликоль-хинондиазид смешивают с другой чувствительной к излучению смолой, то композиция может быть использована для модфикации чувствительности покрытия к излучению или для модификации его физических характеристик, или того и другого. 1-1 апример, в хрупкие известные полимерные хиноидиазидные покрытия полиалкиленгликольхинондиазид может быть введен как пластификатор для придания гибкости покрытию. 5 10 15 20 Я 30 35 40 45 50 55 60 65 6В некоторых слхчаях количе;тго полиалкиленгликоль-хиноыдиазида может быть очень малым и...

Номер патента: 398917

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вители, Всесоюзный, Изобретени, Магдинец, Маслюк, Петровец, Проектный, Раецкий, Руднева, Тринд

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, полимерных, форм, фотополимеризующаяся

...разветвленного строения, получаемыеиз разветвленных олигоэфиров с концевымигидроксильными группами, диизоциандтов имономстакрилового эфира этилеигликоля исодсркащие нс менее трех метакрилатных(якрилатных) концеВых Групг В кяждой .0 лекуле. Повышенное содержание этих групп в олигомсрс приводит к более рдппсму гслсобразованию, увеличению скорости отв рждсния, увеличению густоты трехмерной сетки полимера, повышению экс 11 удтацпонн),1 х свойств печатных форм.В состав компози 1 нш кроме разветвленных Оли ГОурст 1 пд кр 1 л 11 ов Вход 51 т тд кжс фотоин ицпЯтор, пнГ 10 ИОры (стдбплпз(тор 1), 1 тдк. жс прп нсоох 0,1 И)10 сти добдВКП Впнпльпых ПЛП ПОЛ)П)ИНИЛЬПЫ 10 ЛПМСРОВ ПЛ 10 ЛП 1 ОМС. ров, обеспечивающих достижение нс)бходимой...

Номер патента: 400873

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G03C 1/66, G03C 1/68

Метки: печати, световой, светочувствительная, эмульс1я

...ц,елочная, вклоцдОн в себя синтетический полимер, бихро.;аты спирт, Каждая из перечисленных эмульсий имеет р 5 д харяктс 1 иых Особсииостсй: жслятиповая - хи.,ически иестойкая; полившпловая - не имеет хорошей адгезии к металлическим подложкам; щелочная - ис техиологичпя и трудоемка. Целью изобретения является создание светочувствительной эмульсии, обладающей хорошей адгезией к подложкам из стекла и металла, химически стойкой по отношению к щелочным и слабокислым растворам, ме.апически прочной.Поставленная цель достигается примеиеиием в качестве связуощей среды .".лиампчноймолы П. К.;Оисты берут в следующих соотиошениях, вес. ;о:Пол;1;.милняя смола П- 1516Спитовыи 1 яствор Оихромятя 5 аммочч до 100.Светочувствительяя э.;1 ульсия...

Номер патента: 400874

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G03C 1/68

Метки: 400874

...слой толщиой 400 - 000 лк. Высмшеццую пластину помещают цд вакуумную раму экспоппрующсй установки и через негатив экспонируют источниками холодного света тцпд ЛЗР-ЗО, установленными ца рдсстоянии 6 сл от поверхности пластины. Затем пластпц 1 позспаот в в.кпну 0 установку цезаполпмерпзовдвшеся участки вьмывдют 0,15",0-цым водцыч раствороч едкого пдтрд и течение 6 лн. Удовлетворительного ччеси; :О изобр)Оцця це м;дстся достид;же прцэкспозиции 30 лпн.П р и м с р 2. Готовят фотополимсрпзую.щуюся пластину аналогично примеру 1, цо перед экспозицией пластину коцдпцпоцпруют в 25 атмосфере углекислого газд в течение 12 чпг.Удовлетворительное изображение получают при экспозиции 20 лн.П р и м е р 3. Готовят раствор фотополпме 1 эизуюпеися...

Номер патента: 408262

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Коваленко, Крюков, Мазур, Мешечкова, Носонович, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиций, фотополимеризующихся

...25 мин при 35 - 40 30 Номинальное время экспонирования копиро 408262вального слоя 13 мин, что на 5 - 7 мин меньше продолжительности копирования в идентичных условиях фотополимерных слоев на основе известных композиций, в которых в качестве фотоинициатора используют карбонильные ароматические соединения. При этом заметно увеличивается широта рабочих экспозиций при фотохимическом дублении копировального слоя. Качество трафаретных форм, получаемых с применением предложенной композиции, практически не изменяется при уменьшении или увеличении времени копирования на 5 - 6 мин по сравнению с поминальным.Увеличение широты рабочих экспозиций при копировании слоев на основе данной композиции способствует нормализации технологического процесса...

Номер патента: 363066

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Баб, Глембоцкий, Коваленко, Лунина

МПК: G03C 1/68, G03F 7/10

Метки: всеооюз

...- улучшение репродукционных и печатно-технических свойств композиции.Эта цель достигается использованием в качестве водорастворимого полимера сополиамида, полученного путем сополиконденсациипиперазица, гексаметилендиамина и двухосновной карбоновой кислоты.Указанная фотополимеризующаяся композцция после экспонирования ультрафиолетовымизлучением через фотопозитив, в результатесшивки с сетчатой основой, состоящей из полиамидного волокна, образует монолитный защитный слой на пробельных участках трафа- ЗО етнои псчатнои формы, что обеспечивает выокую тцражеустойчивость печатной формы. В результате фотополимеризации мономеров в присутствии сополиамида, входящегов состав композиции, и полиамидного волокна,используемого в качестве...

Номер патента: 367404

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Авторы, Дуд, Лазаренко, Петрук, Хорунжий

МПК: G03C 1/68

Метки: дубликатов, композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся

...элементов разделительным слоем, например, из водного раствора поливинидового спирта, воскового соединения, 25 дисперсии графита в метилэтилкетоне, кремпийорганических антнадгезионных жидкостей или других или не покрытую таким разделительным слоем.П р и м е р 1. Изготовляют композицию сле дующего состава, вес. ч.:367404 15 Предмет изобретения Составитель О, Зеленова Тсхред Т. МироноваРедактор Т. Инкольская Заказ 477/15 Изд. Мо 1132 Тираж 523 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений н открытий прн Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 Олигоэфиракрилат-метакрилдиэтиленгликольфталат (типа МДФ) 1000Метилметакрилат 100 в 2Аэросил 20 - 30Бензоин 7,5 - 15Кремни йорганическая жидкость типа...

Номер патента: 418825

Опубликовано: 05.03.1974

Авторы: Глембоцкий, Егорова, Качковский, Лазаренко, Орлов, Павлик, Раецкий, Тертых, Хабер, Чуйко

МПК: G03C 1/68

Метки: 418825

...поверхности (удельная поверхность образца 180 м/г), Карбоксиорганокремнезем получают 10 химической модификацией высокодисперснойдвуокиси кремния окснпроппоновой (молочной) кислотой.Предлагаемая фотополимеризующаяся композиция пригодна для изготовления печатных 15 форм и испытана в лабораторных условиях,Фотополимеризующаяся композиция обычно содержит (вес. ч.):а,ь - Метакрил - (бистриэтиленгликоль) - фталат20 типа МГФ Метилметакрнлат 1 5 Бензоин 0,5 в 1,5 Аэросил с группами С 001-1418825 Предмет изобретения 10 - 30 Составитель П. Абраменко Техред Л, Богданова Корректор А. Дзесова Редактор Т. Шарганова Заказ 1803/7 Изд,589 Тираж 506 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж,...

Номер патента: 421973

Опубликовано: 30.03.1974

Авторы: Белицка, Берлин, Брикенштейн, Вишн, Кефели, Маршавина, Ордена, Полиграфической, Радугина, Ратовска, Украинский, Школьник

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...(ФПК) на поверхность металлической подложки слоем толщиной 400 - 500 ммк. После высушивания пластины подвергают экспонированию через негатив в области ультрафиолетового света посредством ламп421973 высоко. 100 10 0,3 20 10 700высоко. 100 10 0,3 15 20 20 700высоко. Составитель Л, Иванова Текред Е. Борисова Корректор Л. Царькова Редактор Т. Никольская Заказ 2135/19 Изд. Мя 1453 Тираж 506 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, )К, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр, Сапунова, 2 3ЛЭРв течение 6 - 10 мин, Незаполимеризованные участки ФПК вымывают слабощелочным водным раствором в течение 5 - 8 мин.Полученные таким образом фотополимерные печатные формы отличаются высокой...

Номер патента: 423090

Опубликовано: 05.04.1974

Авторы: Всесоюзный, Крикман, Никанчикова, Сорокина

МПК: G03C 1/68, G03F 7/12

Метки: корректуры, офсетных, печатных, средство, форм

...и 65 мл воды.Однако известный раствор легко растекается по поверхности пластины, новрсждас 1 рядом лежащие печатающие элементы, травит металл-основу и тем самым спосооствуст удалени 1 о микронсровностей с его поьерхпости, из-за чего при пецатании на местах корувлажня 1 ощий раствор и образуются тсни от форм. Возможность Введения органического растворителя в раствор из-за его коагуляции ограничено. ПО- этому корректирующий раствор действует недостаточно б 1 ыстро.Цель изобретения - устранение растскаемости и тра Вягцего дейстВия средстВа - достигается тс з. час Опо содержит: Этилцеллозольв, мл 100 Сажа белая БС, г 40 - 60 Ортофосфорная кислота(уд. вес 1,6), мл 13 - 14 5 При корректуре предлагаемое средство нерастекается по...

Номер патента: 423091

Опубликовано: 05.04.1974

Авторы: Всесоюзный, Крикман, Никанчикова, Проблем, Сорокина

МПК: G03C 1/68, G03F 7/12

Метки: shgljeptoi, корректуры, офсетных, печатных, средство, формv

...быстрое корректирую, что в качсстве 0 мл диметилфортителя 100 в 1 г е средство нс ранит мсталлвности, позво- спосрелствен 1 ентам и обещес действие. лмст изобрст ия тных псчатвленпых хпитсль и ра.тем, что, стравящсго астворитсля пла, а в ка- иэтилснглпИзобретение относится к изготовлению офсетных печатных форм, предварительно очувствленных хинондиазидами.Известно применение для корректуры офсетных печатных форм щелочных растворов, содержащих 3 - 5 г едкого патра или едкого кали, 7 - 8 г карбоксиметилцеллюлозы в качестве затустителя, 15 мл глицерина, 15 мл этилцеллозольва в качестве растворителя, 5 мл скипидара и 65 мл воды,Однако щелочной раствор легко растекается по поверхности пластины, повреждает рядом лежащие печатающие элементы,...

Номер патента: 424372

Опубликовано: 15.04.1974

Авторы: Иностранна, Иностранцы, Йошикане, Такетоши, Фонд

МПК: G03C 1/68

Метки: литографская, пластина, рельефная

...железо, плакированное медью; хромированная медь, нержавеющая сталь, бронза; пластмассы, такие как сложные полиэфиры, полцамцды, поливинилхлорцды, полиметцлметакрцлаты, полистцролы и сложные эфиры целлюлозы. Толщина таких подложек 0,1 - 2,0 лл. Особенно пригодны алюминиевые пластинки толщиной 0,3 - 0,5 лл и цинковые пластинки толщиной 0,3 - 1,0 лл.Прц изготовлении рельефной литографской пластины основу, используемую в офсетной печати, такую как алюм:шцевье пласт:нкц толщиной 0,3 - 0,5 л и цинковые пластинки толщиной 0,3 - 1,0 лл, поверхность которых матцрована цлц подвергнута зерненцю (величцна зерна составляет примерно б 00 - 800 лети) покрывают фоточувствцтельныраствором вручную или с помощью центрцфуги прц скорости вращегп 1 я ЗО...

Номер патента: 424373

Опубликовано: 15.04.1974

Авторы: Иностранна, Иностранцы, Урзула

МПК: G03C 1/68

Метки: контактной, материал, печати, фотополимеризующийся

...предварительной обраоотке, .1 С 5 сдх подложкой 1 светочуВствптельным ело.см можно поместить промсжх точцыи слой, обе.печвающий лучшес сцепление, или проти- ВООР 2 ЛЬЦЫ: СЛОИ.Матер:алы для контактной печати находятшироос иримеисц:с при создании офсетных форм, рсльесрцых изображений, состояисих из нс;Ольих .Есталлоз печатньх форм, форм для высоои печат;1, печатных схем, шаблонов для фотофЛьмпсати и печатных форм для бсзра. тровои офсстцои печати.ПроявлеЕше предлагаемых материалов для оцтастиои печати пзоизводится известныхи спо;оба м: При помощи водых, предпочтительцо слабощслочцых растворов. растворы для гиОявлс:1.я .хогхт также содержать исоольшую долю смешивающего с водой органи 1 сс 01 0 р а ствоНтсл я, ром с ТОГО, 2 Гецты с м 2-...

Номер патента: 427307

Опубликовано: 05.05.1974

Авторы: Крикман, Никанчикова, Сорокина

МПК: G03C 1/68, G03F 7/12

Метки: корректуры, офсетных, печатных, средство, форм

...под монтаж диапозитивов, На местах действия света копировальный слой разлагается,и продукты фотореакции при проявлении удаляются. После проявления на копии остаются участки неразложившегося копировального слоя из-за образования тени от краев диапозитивов и монтажа, следов от,приклеивающего материала или загрязненных участков. Для устранения образовавшихся дефектов требуется корректура.Известно средство для корректуры в виде щелочного раствора, сгущенного натриевой солью карбоксиметилцеллюлозы с добавлением одного пз органических растворителей, Недостатком этого средства является растекаемость его по поверхности пластины, что приводит к травлению металла и удалению микронеровностей с него, из-за чего повреждаются рядом лежащие печатающие...

Номер патента: 427975

Опубликовано: 15.05.1974

Авторы: Баба, Белицкий, Государственный, Дергунов, Заргар, Институт, Полиграфической, Скл, Украинский, Школьник

МПК: C09J 175/06, G03C 1/68

Метки: клееваякомпозиция, фотополимеризующаяся

...пленкой клей является термопластичным и переходит в вязкотекучее состояние при температурах 80 - 100 С, что позволяет вести дублирование подложки с фотополимеризующейся пленкой валками, нагретыми до этой температуры;б) адгезия клея после его остывания достаточна для прочного удержания фотополимеризующейся пленки на подложке;в) прочность клеевого соединения нарастает в течение нескольких суток за счет сшивки уретанового каучука триизоцнанатом.г) в процессе экспонирования фотополимеризующейся пластины актиничным излучением происходит дополнительная полимеризация,клеевой пленки в местах прохождения УФ-света, в результате чего адгезионная прочность клеевой пленки увеличивается. П р и м е р 1. Клеевая комлозиция представляет собой смесь...

Номер патента: 428347

Опубликовано: 15.05.1974

Авторы: Акоева, Гордикский

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...2%-ного этанольного раствора красителя метилового фиолетового и зо 120 нл этацола. Получеццтяй раствор тщательно перемешивают и хранят в темном прохладном месте,б) из сополимерд метакриловая кислота - олеицовая кислота - стирол,40,4 г этанольного раствора, содержащего 20,0 г сополимера, полученного прц молярцом соотношении 0,9:0,3:1,0, смешиваот с 13,3 г эфира ТГМ-З, 0,27 г 1-хлорацтрахцноцд, 0,15 г бензацтрона, 3 лил 2%-ного этанольного раствора метилового фиолетового и 50 лл этанола. Смесь тщгтельно перемешивают и хранят в темном прохладном месте.П р и м е р 2. Изготовление копий.На металлическую цлц неметдллцческую подложку наносят из раствора слой фотополимеризуощейся композиции, полученной как описано в примере 1 а или 1 б, и после...

Номер патента: 428348

Опубликовано: 15.05.1974

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...синтезированного олигоэфира добавляют 20 г стирала, 20 г метилметакрилата и 0,5 г бензоина. Всекомпонепты тщательно перемешивают до по 15 лучения прозрачного однородного раствора,который затем выдерживается до удаленияиз массы пузырьков воздуха,П р и м е р 2. Приготовленную по описанному в примере 1 способу светочуовствитель 20 ную композицию зализывают 1 в форму, образованную двумя копировальными стеклами иформатными ограничителями толщиной 1,75 -2,0 мм, и экапонируют через фотоформу.Псследняя находится либо,в непосредственном контакте с композицией (в этомслучае соприкасающаяся с композицией поверхность фотоформы покрыта антиадгезивным составом), либо защищена от комаозициисветопроницаемой тонкой пленкой. ЭкспонироЗО ванне производят...

Номер патента: 432447

Опубликовано: 15.06.1974

Авторы: Изобретени, Крюков, Лазаренко, Орлов, Раецкий

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, фотополимеризующаяся

...частицы нерастворившегося инициатора служат центрами полимеризации в темновых условиях, что приводит к образованию сгустков в композиции и зна чительно уменьшает срок ее хранения.Состав предложенной композиции позволяет значительно сократить время ее приготовления, обеспечивает более стабильные свойства при сохранении и высокие физико-меха Указанныи инициатор можно иво всех композициях на основе пП р и м е р 1. При комнатной ти нормальном давлении, псремешнической мешалкой в течение 3 - 5чают однородную композициюсостава, вес. ч.:ПолиэфирмалеинатСтиролМетилметакрилатДиацетилПример 2, При тех жепримере 1, получают однортакова, вес. ч.;ПолиэфиракрилатМетилметакрилатДиацетил 0,5Приготовленные указанным сппозиции используют для...

Номер патента: 437041

Опубликовано: 25.07.1974

Авторы: Егорова, Крюков, Орлов, Раецкий

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, фотополимеризующаяся

...олефинов). Это свойство растворов иода в пентене, гексепе, гептене и их гомологах обеспечивает быстрос прекращение ингибирующего действия растворов в облученных участках и позволяет получить высокие репродукционно-прафичеокие показатели рельефных изображений из рекомендуемых фотополимеризующихся композиций,В композицию гексен, например, вводят в избытке относительно йода (отношение иода к гексену в мольных долях от 1:50 до 1:150), что необходимо для удаления иода пз композиции при ее экспонировании. В результате фотохимической реакции йода с гекссном поКорректор О, Тюрина Редактор Т. Фадеева Заказ 3458/7 Изд.90 Тираж 506 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушская...

Номер патента: 439098

Опубликовано: 05.08.1974

Авторы: Иностранна, Иностранцы, Хисааки

МПК: G03C 1/68, G03F 7/10, G03F 9/00 ...

Метки: клише, рельефнымизображением

...излучения, а затем после отделения маски экспонировать для образования слоя- подложки различной толщины.Клише с рельефным изображением, изготовленное по предлагаемому способу, имеет высокую стабильность и прочность по сравнению с известными формами высокой печати, полученными сцеплением фотополимеризующейся композиции с подложкой. Помимо, этого, предлагаемый способ проще известного.П р и м е р 1. Фотополимеризующуюся композицию, содержащую 100 г ненасыщенного полимера, полученного из 1 моль полиэтиленгликоля (мол. вес 600), 0,5 моль фумаровой кислоты и 0,5 моль адипиновой кислоты, 20 г акриловой кислоты, 30 г акриламида, 2 г бензоина (инициатор полимеризации) и 0,01 г ю-метоксигидрохинона (ингибиторы термической полимеризации),...

Номер патента: 322095

Опубликовано: 15.08.1974

Авторы: Абин, Крикман, Марьяновская, Никанчикова, Полякова, Сулакова, Эфрос, Юрре

МПК: G03C 1/68

Метки: 322095

...Повышение физико-химических и механических свойств слояпозволяет применить автоматизацию и механизацию технологического процесса изготовления офсетных биметаллических форм. Крометого, способ обеспечивает получение стабильных по качсству печатных форм в короткиесроки.Процесс изготовления предварительно очуствлеппых пластин и биметаллических печатных форм состоит в следующем,Предварительно очувствленпыс пластины,полученные распылением данного раствора(см. примеры) в электрополе пли нанесениемв центрифуге, экспонируот через монтаж диапозитивов подксеновыми или дуговыми лампами, или лампами ПРК. Проявляют коппи, например, в смеси тол.оля с керосином (1; 1)или в уайт-спприте промывают под струей воды,высушивают при б 0 - 80 С в течение 3...

Номер патента: 404418

Опубликовано: 25.08.1974

Авторы: Орлов, Петровец, Раецкий, Руднева, Триндяк

МПК: G03C 1/68

Метки: 404418

...изготовления печатных форм, состоящаяиз фотополимеризующихся под действием света олигоэфиракрилатов, растворимых в органических растворителях, мономеров акрилового ряда и инициаторов фотополимеризации.Печатные формы, изготовленные из известной композиции на основе олигоэфиракрилатов, хрупки, обладают ускоренным старениеми невысокой термостойкостью,Предлагаемая светочувствительная композиция улучшает физико-механические свойства рельефных печатных форм, повышает ихтермостойкость, стабильность, расширяет область их применения.Это достигается введением в светочувствительную композицию в качестве сшивающихся 20под действием света компонентов олигодиэтиленгликольмалеинатфталатов, например полиэфиров ПН-З, ПН, ЭСП.Сущность изобретения...

Номер патента: 446866

Опубликовано: 15.10.1974

Авторы: Гольник, Дидковский, Егорова, Калибабчук, Лазаренко, Одарченко, Орлов, Плакидин, Раецкий

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, рельефных, светочувствительная, форм

...комплексы эфиров бензоина 0 5-2 0 5 Олигоэфирмалеинат 60-70Стирал 20-25 Метилметакрилат 10-15Фотополимерные печатные формы,полученные из композиции рекомейдуеао мого состава, обладают повышеннымирепродукционйовгра,11 ическими,физико=механическими и физико=химическими свойствами.11 ример Х, Композицию состава, 2 б вес.ч.:88 раствора олигодиэтилен446866 Составитель Л ИВаНОВа редакто 1 К ХОрИНа ТекредБ СЕНИНа Корректор ПСтарЦЕВаЗаказ .Щ иад. м 712 Тираж Цф Подписное 1 И 1111 П 1 Государственного комитета Совета Министров СССР по дедам иэобретеннК н открытиК Москва, 113035, Раушская иаб., 4(ЗО), 10,5 метилметакрилата,1,5 алюмийийхлоридного комплексаамилового эфира бензоина перемешивают в течение 1-1,5 мин.Затем готовую композицию заливают...

Номер патента: 446867

Опубликовано: 15.10.1974

Авторы: Винингауз, Шевчук

МПК: G03C 1/68

Метки: водорастворимая, композиция, печатных, трафаретных, форм, фотополимеризующаяся

...- 10 20 Дибутилфталат 0,2 - 0,5 М,М-Метиленбисакриламид 0,5 - 4 Бихромат калия 0,1 - 2 Вода 50 - 80 Краситель 02 - 1 25 Предложенная композиция после высыхания образует монолитный слой, имеющий высокую адгезию к сетке и высокую механическую прочность, что поньппает тнрансеустой.ть печатной формы. 30 Была приготов а композиция,содержащая сле тва компонентов, вес. ч.:ПоливинилацетатнаяэмульсияОксиэтил целлюлозаПластификатор1 к 1,К-МетиленбисакриламидБихромат калияВода 60Краситель 0,6,уКидкую композицию наносят на капроновую или металлическую сетку формной рамки. После высыхания образуется слой, способный под действием ультрафиолетовых лучейизменять свою структуру и переходить в нерастворимое состояние. После экспонирования участки...

Номер патента: 450128

Опубликовано: 15.11.1974

Авторы: Дидковский, Калибабчук, Прокофьева, Хин, Цепенюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

...экспонирую ом света, проявляю е с испо приведе тотоп теулучш ий, испо ого сост льзованием конной рецептуре,хнологического ением санитарльзованием воава. 25 р ед м е т изобретен зы, ил 40 - 800 -Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм О на основе высокомолекулярного соединения,Изобретение относится фического производства.Известна фотополимер ция для изготовления фо ных форм на основе высо динения, растворимого в онно-способного олигоме полимеризации и раствор АЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ЕРНЫХ ПЕЧАТНЪХ ФОРМ ДиметакрилатэтилкольБензоинДи+цианэтиловыйтриэтиленгликолП р и м е р. Использузицию, вес. ч.;ОксипропилцеллВодаСпиртАцетонБензоинДМЭГДи-р-цианэтиловтриэтиленгли колРаствор наносят напод активным...

Номер патента: 451978

Опубликовано: 30.11.1974

Авторы: Парамонов, Прохоцкий

МПК: G03C 1/68

Метки: позитивный, фоторезист

...на основе фенолформальдегидных смол адгезией к стеклу. Разрецпающая способность451978 Составитель Л.МаРтыненко Редактор К.ВетбейнТехред Г,Дворина КорректорЛ.Котова Заказ Тираж 506 Подписное Ц 1 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, 113035, Раушская иаб 4 Пртдприятие Патент, Москва, Г.59, Бережковская наб., 24 предлагаемого фоторезиста составляет не менее 200 линий/мм,П р и м е р 1. 140 мг эфира 1,21-нафтохинондиазид-(2 )-5-сульфокислоты и фенолформальдегидной смолы и 1,4 г смолы Э"С" типа ."Фенокси" растворяют в 14 мл циклогексанона. Раствор фильтруют и наносят методом центрифугирования на алюминиевую пластинку. Пленку фоторезиста сушат при 90 С в течениетО 15 мин, и экспонируют...