G03C 1/68 — G03C 1/68

Номер патента: 540246

Опубликовано: 25.12.1976

Авторы: Новиков, Носков, Петров

МПК: G03C 1/68

Метки: защитных, масок, полимерных, раствор, удаления

...после проведения процесса зии сурьмы составляет 1102 - 2 м - 2 ом эффективно стов, следующе 6 - 4 2 - 34 0 - 64 Однако при удалении защитнойаски данный раствор частичнооверхность кремния.Целью изобретения являетсяечивающий высокую чистоту пеизменном ее рельефе.Эта цель достигается тем, чтоочной раствор введена перекисри следующем соотношенииес. %:Щелочь (например, едкое калиПерекись водородаВодаВ предлагаемый раствор перекведена для предотвращения траью кремния. При этом удается полимерной травливает раствор, обесоверхности при рован ды 12 центр этих диффу в водно-щеь водорода компонентов,) 0,4 - 4,02,0 в 1 0,0 Остальное ись водорода вления щелополучить боствор для удаления змасок с поверхностисодержащий воду ис я тем, что, с целью...

Номер патента: 540247

Опубликовано: 25.12.1976

Авторы: Белицкая, Белицкий, Вишнякова, Миляшкевич, Ратовская, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...светочувстви показа ния технико-экономичес полимеризующейся комп нительно содержит ами ции, онобщей(в весАпет ч 60-7010-2 ТриэтиденгликольдиОксиэтилированныйспирт такр 5-20 ф отоинициАмин О, 1-0,.50,.5-5300-400 створительИсточник рмации,ять и экспертизе:тент США3202211965 (прототип). кл. С 03 тенсивном перемешивании добавляют 0,6 г(2 0 вес.% ) триэтиленгликольдиметакрилата,1,93 г (10 вес,%) глицидилметакрилата и3,86 г (20 вес.%)оксиэтидированного гептилового спирта. фотоинициатор (1-хлорантрахинон) вводят в ацетоновом растворе в количестве 0,029 г (0,5 вес.%). Смесь тщательно перемешивают до получения однородного раствора, фильтруют через капроновоеполотно и оставляют в темном месте насутки. После этого композицию нагреваютв течение 4-5...

Номер патента: 544932

Опубликовано: 30.01.1977

Авторы: Гук, Душина, Ельцов, Орлова, Юрре

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...р и м е р 1. Состав, вес. %:25 Полиэфпркарборанадипинат 6,4 - 7,0Эпоксидированный циклокаучук 6,4 - 7,0 2,6-Бис-(азпдобензилиден)-4 метилциклогексаноно-Ксилол 8 0 30 Проявитель - ксплол.544932 Пример 2. Состав, вес, %.Полиэфиркарборанадипинат 9,6 - 10,50 Эпоксидированный циклокаучук 3,2 - 3,5 2,6-Бис-(азидобензилиден)-4 метилциклогексанон 0,64 - 0,70о-Ксилол 86,55 - 85,30 Проявитель - ксилол.При применении составов примеров 1 и 2 получают пленки, имеющие следующие характеристики интегральной светочувствительности прн облучении лампой ДРШ 250 на расстоянии 25 см.Пороговая светочувствительность,смвт всек в Ьпор. 23Коэффициент контрастности 1 да 1,09 Испытания фоторезиста проводят следующим образом.Фоторезист наносят на центрифуге на...

Номер патента: 544933

Опубликовано: 30.01.1977

Авторы: Анисимова, Дзера, Дудяк, Кравчук, Морозова, Силякова, Синеоков, Смиян, Хасина

МПК: G03C 1/68

Метки: коспозиция, фотополимеризующая

...расстоянии 70 мм в течение 5 - 10 мнн н вы мыванпя пробельных участков фотополнмерКомпозиция На основе спирторастворимого по- лиамида 10 50 50 50 3,0 4,0 5,0 150 70 80 83 150 150 10 5 5 150 150 150 На основе водорастворимого сополссами;са 3,0 7,0 10,0 50 50 50 20 35 Источниксс информации,120 мание при экспертизе:1. Авт. св. Ы 363066 кл65 40 (прототссп) .Составспель Б. СорокинТехред Е, Петрова Корректор принятые во вни 03 с 1/68, 1973 В. Дод Редактор Т, Никольская Заказ 220/13 Изд. М 140 Тираж 609 Подпсссссое Ц 11 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раущская паб., д. 4/5Типог 1)ас 1 иии пр. Сапунова, 2 ных копий в 75/в-ном этаноле при температуре 25 - 27 С в течение...

Номер патента: 547713

Опубликовано: 25.02.1977

Авторы: Егорова, Канарейцева, Орлов, Паскаль, Починок, Сыромятников, Цепенюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, копировальных, слоев, тонких

...тиловьй спирт Изготавливаю547713 после чего производят сушку при комнатной температуре, а затем очувствленные пластины облучают через фотоформы батареей ламп ЛУФна рас. стоянии 20 см. Облученные пластины проявляют водой, а затем допроявляют 5%-ной ортофосфорной кислотой.Далее приводятся три состава предлагаемой композиции. 2,5 10 2 45 450,3 Состав 2, вес.ч.:Оксипропилцеллюлоза 3 Октаметакрилат /трипентаэритрит/диадипинат 2,5 Этиловый спирт 50 Ацетон 43,1 Бутиловый -изобутиловыйэфир бензоина 0,4 о-Акрилиламинофенилакрилат 1Состав 3, вес,ч:Ок сипропилцеллюлоза 2 Октаметакрилат/трипентаэритрит/диадипинат 2 Этиловый спирт 40 Ацетон 48,5 Бутилрвый-изобутиловыйэфир бензоина 0,5 и-Акрилиламинофенилакрилат 7 Использование предлагаемой...

Номер патента: 548827

Опубликовано: 28.02.1977

Авторы: Гилязетдинов, Загорский, Коршунов, Мороховец, Стефанская, Цыбко

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...5Типография, пр. Сапунова, 2 Измеряют время закрепления на стекле притолщине слоя 2 мкм под ртутнокварцевойлампой мощностью 1200 вт на расстоянии 25 см,Время закрепленияна стекле под лампоймощностью 1200 вт Композицияна расстоянии 25 см,сек1235 Г 1 р им ер 2. Изготовляют печатную краску на основе фотополимеризующейся композиции следующего состава, вес. %:Олигоэфиракрилат МГФПС 10 Олигоэфнракрилат ТГМ-ЗПС1 Трихлордифенил Совол 10 Цианэтилметакрилат 14 Пигмент голубой фталоцианиновый 1 б Олигоэфиракрплат 7-20 49Печатныс краски изготавливают обычными методами на валиковых краскотерках или методом отбивки из водной фазы, При введении органических пигментов и углеродной сажи в количестве 16 - 20% получают печатные краски со следующими...

Номер патента: 549777

Опубликовано: 05.03.1977

Авторы: Барташевская, Егорова, Лазаренко, Орлов, Раецкий, Хабер, Чуйко

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...составОлигоэфирмалеинатфтаСтиролМетиловый эфир бензоМетилвинилаэросил После обеспузырцвания композицию заливгиот в полость формирующе-копировального устройства из двух стекол (к внутренней стороне одного цз них приклеен негатив) и металлических ограничителей толщины будущей печатной фо 1 змы (1,75 Зьи), соедиценых в единое целое струбцинамп, и подвергают экспопровацшо люминесцецтными лампами ЛУФна расстоянии 10 с,я в течение 4 - 6 мин со стороны негатива (формирование печатных элементов) и 2 - 3 лин с противоположной стороны (формирование основы).Затем незаполимерцзовавшуюся жидкую композицшо удаляют промыванием в смеси ацетона и этилового гидролизного спирта в соотношении 1: 1.П р и м е р 2. Проводят опыт, как в примере 1, используя...

Номер патента: 567156

Опубликовано: 30.07.1977

Авторы: Гикало, Гузь, Микулин, Хорт

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, лимеризующаяся, фотоп

...комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж.3, Раушская набд. 4/5Типография, пр. Сапунова, в Предлагаемая фотополимеризую 1 цая композиция предназначена для изготоелюнця различных изделий, причем может быть использована как конструкционный материал .печатающего слоя фотополимерных печатных форм толщиной до 1000 мкм, так и в качестве резистивного покрытия толщиной от 5 до 60 мкм, в том числе и для изготовления пленочных фоторезисторов. Причем в каждом случае к композиции предъявляются различ. ные требования, удовлетворение которых производится за счет варьирования соотношения компонентов.Так, например, для отлива пленочного фоторезиста толщиной 20 - 30 мкм используется...

Номер патента: 567157

Опубликовано: 30.07.1977

Авторы: Иванов, Куновская, Черненко, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...- толщина полей сенситограммы мм, т - продолжительность экспонирования, сек,Из сравнения полученных сенситограмм следует, что активность 4-фенил-бвнзоил,3- диоксолана выше, чем активность метилового эфира бензоина.Фотополимеризующуюся композицию с 4- фенил-бензоил 1,3-диоксоланом в качестве фотоинициатора заливают в кассету, снабженную ростовой рамкой толщиной 2,8 мм.Высококонтрастный штриховой негатив закрепляют,на внутренней стороне одного из стекол эмульсионным слоем к композиции и экспонируют под люминесцентными лампами ЛУФна расстоянии 100 мм в течение 2,5 мин со стороны основы и 4 мин со стороны негатива, разбирают кассету, проявляют бензином марки Галоша и получают флексографскую печатную форму общей толщиной 2,8 мм с,глубиной...

Номер патента: 568927

Опубликовано: 15.08.1977

Авторы: Вишнякова, Елагина, Коршунов, Ратовская, Сухарева, Черная, Шибанов, Шпичка

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...% в пересчете на полимер), 0,034 г 1-хлорантрахинона. Смесь тщательно перемешивают, доводят вязкость до 120 с (по В) добавлением растворителя ацетон: этанол (5,6:1), фильтруют через капроновое полотно и помещают в термошкаф на 6 ч (температура 48 - 50 С) с целью дезаэрации. Полученную композицию наносят на обезжиренную подложку из расчета получения полимерного слоя после испарения растворителя толщиной 0,8 - 0,85 люм. После облучения пленки под лампами УФ-излучения через тест-негатив и вымывания незаполимеризовавшихся участков воднощелочным раствором получают печатную форму, которая может быть использована по целевому назначению.Светочувствительность отлитой пленки определяют по выходу гель-фракции, для чегоКорректор В, Гутман Редактор...

Номер патента: 390496

Опубликовано: 25.08.1977

Авторы: Белицкий, Магдинец, Маслюк, Спирин, Школьник, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...фотополимериэациы 0,1 3Ингыбитор термоподимернэации О,О 1-1,ОМАнтиоксидант 0,5-3В зависимости от требуемого качества . печатных форм (твердость, предел прочнос ты на растяжение, эластичность, стойкость к растворителям и другие) соотношение 40 компонентов в композиции может быть различным" причем некоторые из укаэанных основных компонентов могут быть не включены в состав композиции.П р и м е р 1. Смешивайт 100 г 45 (по весу) олигоуретанакрилата, полученного ыз полидиэ тиленглыкольадипината (молекудяр ный вес 1900); 2,4-топуилендиызоцыанатаи моиометакрилового эфира этиденгликодя;10 г а, Й -диметвкрипатбистриэтиден-, 50 гпикодьфтапата; 15 г метилметакрилата;1,5 г метилового эфира бензоина; 0,1 г гидрохинона и .1 г . Я и С 02...

Номер патента: 445371

Опубликовано: 05.09.1977

Авторы: Савинский, Чайко, Школьник, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, фотополмиризирующаяся

...термополимериэации 0,01-0,5Антиокс плант 0 2,О качестве других компонентов могут Йбытьвведены наполнигели (органическогои неорганического происхождения), красители и другие целевые добавки,П р и м е р 1. Смещивают 89,5 вес, ч,олигодиенуреганакрялага ПДИ.МАК, представ-Ьляющего собой продукт сополимернзациибутадиеиа с изопреном, обработанный 2,4-толуилендиизоцнанатом и метакриловым эфиром этнленгликоля, содержащего 1,02%метакрилатных групп, с 10 вес, ч. метилмегакрилага, содержащего 0,8% гидрохинонаи 0,5 вес. ч, метилового эфира бензоинв,Смесьзаливают в ячейку, сосгоищую иэдвух плоскопарвллельных стекол, имеющихпо периметру Ог рани чи тельные прокладки Роъшиной Э мм, причем на внутренней поверхности одного из стекол закреплен...

Номер патента: 551937

Опубликовано: 05.09.1977

Авторы: Зильберман, Иванов, Остапчук, Пугачевская, Седов, Суходольский, Тымчишин, Черненко, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...и м е р 1, В трехгорповую колбу,снабженную мешалкой, термометром, обратфным холодильником и капилляром дпя подвода инертного газа, загружают 114,5 г(1,07 моль) диэтиленгпикопя, 30 г попиоксиэтипенгпикопя молекулярного веса 1500,певого ангидрида. В течение 4 ч темпераотуру поднимают до 200 С и выдерживаютпри этой температуре до достижения. кислотного числа 40 мг КОН/г ПЭ,8 ч, Далееореакционную массу охлаждают до 120 С ивводят 0,05 г гидрохинона (0,02% от весапопиэфира). Перемешивают при этой температуре в течение 0,5 ч. Затем массу охлаж.одают до 60 С и загружают при перемешивании 68,3 г стиропа, 27,3 г метакрило-.вой кислоты, 54,6 диметиакрипового эфиратриэтипенгпикопя (попиэфир ЧТМ) и2,11 г метипового эфира бензоина (0,5%от веса...

Номер патента: 572746

Опубликовано: 15.09.1977

Авторы: Белицкая, Белов, Вишнякова, Миляшкевич, Новожилова, Ратовская, Розанцев, Сускина, Шапиро, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...в композицию вводят в качестве фотоинициатора 0,05 г (0,3 вес. % в расчете на 20 олпгомср) К,К-ди- (2,2,6,6-тетраметил-оксил -шшсридипмстил) -бпсазометина. В дальнейшсм всс операции проьодят так, как описано в примере 1.При введении стабильных пминокспльпых 25 радикалов улучшается качество форм без операции кондиционирования. Так, угол у основания печатающего элемента в формах со стабильными иминоксильными радикалами в качестве фотоинициатора равен 70; для до стихкения такого угла в формах с использованием известной композиции необходимо дополнительное кондиционирование в углекислом газе в течение 6 ч. Полученные на основе предлагаемой фото полимеризующейся композиции фотополпмер. ные печатные формы обладают высокой разрешающей...

Номер патента: 575607

Опубликовано: 05.10.1977

Авторы: Забуйский, Лазаренко, Мервинский, Слывко, Токарчик

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, светочувствительная

...к одному из которых прикреплен негатив, ограничителей толщины и растекания композиции, экспонируют с обеих сторон люминеснентными лампами тина ЛУФна расстоянии 50 мм в течение 40 сек для формирования основы и в течение 4 мин для образования печатных элементов (соответственно 1,5 и 10 мин при наличии в композиции 15 вес.Ъ метилметакрилата). После экспонировании незанолимернзованную жидкую часть композиции сливают, раму демонтируют и полимерную печатную форму очишают 2%-ным водным раствором карбонатаонатрия нри 60 С.,5 10 0 О 12,5 состав композиции введен метилметакрил еж об ретен м соотноше формулаЖидкая светоч ция ,для изготовл чающая мономер сибилизатор и д. лат вствитель ивклю.сентилен омпоз 10-200,5-1,5 ения печатных форм криловог,...

Номер патента: 577505

Опубликовано: 25.10.1977

Авторы: Викторова, Глембоцкий, Гранчак, Дилунг, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...подложке клеевым составом,45 Па поверхность пластины помецдают фотшаблон и облучают УФ-светом набора лампЛУФв течение 20 минна расстоянии5 см. Изображение на пластине получают вымыванием в ироявочной установке необлученных участков пленки спиртовым растворомроданидв аммония. После проявления изображения, промывки в спирте и высушивания получают типоофсетную печатную форму с хорошей передачей всех элементов модельнойфотоформы,р и м е р 2 89 вес д раствора полиамида Св этиловом спирте (концентрция 30 вес.о) смешивают с раствором 0,19вес.ч, гидрохннона, 0,17 вес.ч, 4-оксибензсгфенона и 0,28 вес,ч, бензоинв в 10 вес,ч,спирта, в затем с 5,8 вес.ч. акриловой килоты и 4,2 вес.ч. этиленгликольдиметакрилата. После тщательного...

Номер патента: 582491

Опубликовано: 30.11.1977

Авторы: Гольник, Зильберман, Казанцев, Луценко, Орлов, Пугачевская, Раецкий, Трояновский

МПК: G03C 1/68

Метки: печатных, проявления, рельефных, состав, форм, фотополимерных

...в количестве 3 вес. % и, в качестве неионогенного повсрхностно-активного вещества, окспэтилированный спирт синтетических жирных 5 кислот С 12 - С 1 в (синтанол) в количестве3 вес. %, Раствор наносят ручным или механическим способом, и протирают поверхность копии губкой (поролон) или щеткой. Обработку проводят при температуре водного рас твора 25 С. Такие условия очистки обеспечивают образование устойчивой эмульсии жидкой композиции, удаляемой с пробельных участков копии в водной среде. Перевод незаполимеризовавшейся композиции в состоя ние эмульсии обеспечивает очистку поверхности фотополимерной формы без нарушения сформированного в результате экспозиции профиля печатающих элементов на фотополимерной копии, что повышает качество...

Номер патента: 584279

Опубликовано: 15.12.1977

Авторы: Акоева, Гординский, Перепечкина, Турчиева, Тхостова

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...на прозрачной для Уф-лучей подложке, и проявлении растворителем для фотополимеризующейся композиции под прозрачными участками фотоформы получают рельефное изображение оригинала, а неизменившийся под непрозрачными участками слой фотополимеризующейся композиции растворяют и удаляют.11 оэтому предлагаемые фотополимеризующие 5 ся композиции можно использовать для изготовления печатных плат негативным и позитивным способами, для изготовления различных изделий путем травления или гальванопластики, печатных форм.10 П р и м е р 1. К 100 г 63/, -ного раствора вметилэтилкетоне метакрилатфталата эпоксидной смолы ЭД, соответствующего приведенной выше общей формуле, в которой в=1,25,т=2, К= - СН, К"=О - С,Н 4, добавляют15 12,6 г эфира...

Номер патента: 593177

Опубликовано: 15.02.1978

Авторы: Барвинченко, Великохатная, Егорова, Канарейцева, Орлов, Сыромятников, Цепенюк, Чорна

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...Изд.237 Тираж 585 Подписное НПО Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 3Способ приготовления фотополимеризующейся композиции,В смеситель определенной емкости загружают сополимер стирола, метакриловой кислоты и малеинового ангидрида, при интенсивном перемешивании приливают ацетон. После полного растворения сополимера вводят последовательно мономер и инициатор. Краситель растворяют отдельно в небольшом количестве ацетона и в растворенном виде вводят в композицию. Композицию тщательно перемешивают до получения гомогенного раствора,Полученную светочувствительную композицию поливают на металлические подложки (например, алюминиевые,...

Номер патента: 593178

Опубликовано: 15.02.1978

Авторы: Батлан, Виленский, Гафт

МПК: G03C 1/68

Метки: литографических, останавливающий, раствор

...ак- анавливаюа (вес. %): 10 Недостатком известнораствора является такжраствора, Так, останавлдержащий в качествеборниленгликоль,:плохо14 дней в нем выпадаетгтационные свойства ухго, норборниленгликольчественной;промышленнЦель изобретениявающего раствора длятериалов, позволяющегоприимчивость печатных навливаюих матери- получения афин.створ для лючающий ссоциации ую или гли- фобизатор- енгликоль р, Фотографический енный для получения мнем способом, после э тывают в щелочном р затем в одном из ос ров следующего соста иколь формулы 1,2593178 Формула изобретения 20 25 Составитель А. Круглов Техред И, Михайлова Редактор Н. Потапова Корректор В. Гутман Заказ 97623 Изд.188 Тираж 585 НПО Государственного комитета Совета Министров СССР по...

Номер патента: 596901

Опубликовано: 05.03.1978

Авторы: Броневский, Кваша, Любарский, Ференбок

МПК: G03C 1/68

Метки: витражей, диапозитивов, прозрачных

...применять, например, нафи- различных выставках или в виде витринй Эти изделия легко хранить и переоны, 1 в возить, не боясь. за качество и проч"з- ность. Они незаменимы там, где трених буется долговечность и б 1 опасностьэтих изделийг в школах-; больницах,детсадах, учебных заведениях.ат- ЯО Изображение в этих изделиях полуго чается четким и контрастным, соверо- : шенно неискаженным по сравнению соригиналом (цеэаделанной кинофотопленкой) .596901 Формула изобретения Составитель Л. ИвановаРедактор Т. Шарганова Техред. М,Борисова Корректор Ь. Лакида Заказ 1134/44 Тираж 564 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул....

Номер патента: 596902

Опубликовано: 05.03.1978

Авторы: Беляев, Варакин, Красов, Марин, Мартыненко, Стрижков

МПК: G03C 1/68

Метки: покрытия, удаления, фоторезистивного

...В оптимальных условиях проведения проЦесса в реакторе-резонаторе образуется каксимальное количество возбужденных атомов и ионов из молекул окислитель- ного газа. Постоянное магнитное поле при этом действует на плазму ионов (эффекты магнето-плазменного и циклотронного резонансов), существенно увеличивая частоту их соударений с покрытием.20Более высокие подвижность и реакционная способность возбуждаемых атомов и ионов окислительного газа, по сравнению с этими же характеристиками его молекул, обуславливают высокую ф 5 скорость образования летучих окислов деструктирукйаегося в условиях ЭПР полимерного покрытия.П р и и е р 1. В вакуумируемый до давления 0,5 мм рт, ст. реактор-резо- ЗО натор сверхвысокой частоты помещают диск кремния с...

Номер патента: 596903

Опубликовано: 05.03.1978

Авторы: Гавриш, Матюшов, Матюшова, Синицкий, Тремут

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...-фталат-МГФ,сС,сд - метакрил" -(бисдиэтиленгликоль) -фталат-МДФ, и др, Ненасыщенным спиртом служат продукты конденсации полиолов с акриловой или метакриловой кислотой.Макродиизоцианаты представляют собой продукты конденсации простого или сложного олигоэфира с концевыми гидроксильными группами с диизоцианатами общей формулы ОС я Я Н СО.5В качестве ненасыщенного мономера используют акриловую или метакриловую кислоту или их производные, а также стирол, винилацетат и т.д.В качестве оптического фотосенси билизатора применяют бензоин или его производные и др.П р и м е р 1. В 13,5 г олигоэфиракрилата добавляют 5,4 г монометакрилового эфира этиленгликоля и 27 г 25 макродииэоцианата, полученного конденсацией 34 г(0,042 моль)...

Номер патента: 615446

Опубликовано: 15.07.1978

Авторы: Ивина, Свириденко, Хорт

МПК: G03C 1/68

Метки: полиметилметакрилатных, проявитель, рельефов, фотополимерных

...СССРпо делам изобретений и открытий113035 Москва ЖРаушская наб. д. 45 филиал ППП Патент, г. Ужгород, Ул. Проектная, 4 ростью необлученныеучастки фотополимерных слоев, а также по-разному воздействуют на облученные сшитые участки Фотополимеров.Четыреххлористый углерод практически не воздействует на сшитые участки полметилметакрилатных фото- полимеров, в то время как необлученные участки медленно растворяет.Трихлорэтилен быстро растворяет необлученные участки, но в то же время разрушает и сшитые (заполимеризованные).Изменяя количество трихлорэтилена, добавляемого к четыреххлористому углероду, можно регулировать избирательную растворяющую способность проявителей.П р и м е р. Проводят сравнительные испытания проявляющей способности...

Номер патента: 615447

Опубликовано: 15.07.1978

Авторы: Гусарская, Зеленцов, Лебедева, Меликова, Олейник, Треушников

МПК: G03C 1/68

Метки: защитных, негативных, помощью, рисунков, сухих, фоторезистов

...нтрахннона с образованием макрорадикалов ПММА;2) собственно реакция привитой сополимеризации триакрилатментаэритрита на ГАММА, включающая в качестве первого шага передачу .свободной валентности с ПММА на одну из двойных связей ТАПЭ.Было также, найдено, что со второй стадией конкурирует реакция взаимодействия кислорода с макрорадикалами ПММА, Эта реакция блокирует привитую сополимеризацию. Если температура при экспонировании ниже 40 - 50 С, то образующиеся макрорадикалы реагируют преимущественно с растворенным в пленке кислородом, что и обуславливает низкую светочувствнтельность сухих негативных фоторезистов. Светочувствительность этих резистов резко возрастает, если экспонирование проводить прн температурах пленки 60 в100 С, В...

Номер патента: 615448

Опубликовано: 15.07.1978

Авторы: Гусарская, Лебедева, Меликова, Олейник, Треушников

МПК: G03C 1/68

Метки: защитных, негативных, пленочных, помощью, рисунков, сухих, фоторезистов

...Формула изобретения Редактор Л. Емельянова За каз 3907/37 ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и. открытий 113035, Москва, Ж 35, Раушская наб. д. 4/5 Филиал ППП кПатентэ, г. Ужгород, ул. Проектная, 4том лавсановой пленкой, появление диффе. ренцнрованной прочности сцепления облученных и необлученных участков возникает только в том случае, если после экспонирования, не позднее, чем через 4 - 5 мин фо. торезистивные пленки, прикрепленные к под ложке, подвергнуть термообработке при .60 - 100 С в течение 3 - 0,5 мин. Проведение такой термообработки способствует резкому увеличению прочности сцепления облученных участков пленки с подложкой, В этом случае необлученные участки пленки легко удаляются...

Номер патента: 615449

Опубликовано: 15.07.1978

Авторы: Зеленова, Олейник, Померанцева, Треушников, Фролова

МПК: G03C 1/68

Метки: изображений, материалах, рельефных, фотонеактивных

...только из фотонеактивногослоя и новьзсить эдгезию фотонеактнвногослоя к иодложке, то облученные участки светочувствительного слоя можно удалить нагззевэннем (фнг, 26. Необлученные участкисветочувствительного слоя прн нагреваниине удаляются. При нанесении фотоиеактивиого слоя Возникает ситуация, изображен- фбиая на фиг. 2 в, После прнкатывания лентыс клеевым слоем и ее отделении образуетсярельефное изображение из фотонеактивногослоя (поз. 2 г), Зто изображение так же каки в первом случае является негативным, ане позитивным, Отличие состоит лишь втом, что между подложкой и фотонеактивным слоем нет светочувствительного слоя.Пример I,1) На алюминиевую подложку центрифугированием наносят слой композиции полиметилметакрилата (ПММА) с...

Номер патента: 618064

Опубликовано: 30.07.1978

Авторы: Джеймс, Панайотис

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, облучению, чувствительная

...частей наполнителя, 0-200 частейсвязующего и 0-10 частей или более кра "45сителя, ингибитора полимеризации, -исходных продуктов красителя, кислородныхочистителей и так далее, которые могутбыть необходимы для использования определенного фотополимеризуемого состава. 50Преимущественно на 100 частей полимериэующихся соединений используется1-7,5 частей фотоинициатора.С оответствующие инициированные свободные радикалы, дополнительно вводимые полимериэуемые соединения с разветвленной цепью, с этиленовыми ненасыщенными связями включают алкилен -или полиалкиленгликолевые диакрилаты,например этиленгликольдиакрилат, диэтиленгликольдиакрилат, глицериндиакрилат, глицеринтриакрилат, этиленглик ольдиметакрилат, 1,3-пропандиэтилметакрилат,...

Номер патента: 622035

Опубликовано: 30.08.1978

Авторы: Гук, Душина, Ельцов, Орлова, Юрре

МПК: G03C 1/68

Метки: негативный, фоторезист

...состава Ж 1, 3 проявитель О-ксилол; для % 2 - ацетон,ф Содержание апоксигрупп 3,5 ь45 Таблица 2 Разрешающая способность,лин/смАдгезия,к различнымподложкам 400 1 50-200 Фотолитография на ЭО, 80, 5 - поли- рованный Возможна фотолитография на Диэлектрическая прони, цаемость пленки 20-2,5 3вать полупроводниковую ( 6( нли М ) подложку мышьяком для создания Р- переходов в полупроводнике, поэтому в обработке полупроводниковых пластин исключается операция травления, дчющая наибольший процент брака при иэготовле- нии полупроводниковых элементов.Способ получения состава фоторезиста заключается в следующем. Полимер, испольауемый в качестве30 пленкообраэующей компоненты фоторезиста, растворяют при перемешивании в светочувствительном растворителе...

Номер патента: 622036

Опубликовано: 30.08.1978

Авторы: Бурыкина, Былина, Григорьев, Зятьков, Сагайдак

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, негативная, светочувстивтельная

...4Травление алюминия проводят горячей (85 С) ортофосфорной кислотой. Композиция проявляет удовлетворительнуюстойкость к травителю в течение 8-1 Оман,получены вытравленные рельефы.Предлагаемая композициа обладает,- -светочувствительностью 110 лк счто на порядок выше светочувствительио- сти композиции-прототипа.Кроме того, предлагаемая композиция иО обладает хорошей вдгезией к алюминиюи хорошей стойкостью к ортофосфорной и- кислоте, может использоваться в качестое. ве негативного фоторезиста при производстве печатных плат, и микросхем. золе н высаждвют 5-6-кратным избытком метилового спирта. Сополнмер сушадо постоянного веса,Выход сополимера 1,84 г (76%)С 6 подимер представляет собой белыйаморфный порошок. Содержание...