G03C 1/68 — G03C 1/68

Страница 7

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 830284

Опубликовано: 15.05.1981

Авторы: Заболотная, Тымчишин, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...заливают в кассету, состоящую из двух плоско- параллельных пластин и ростовой рамки толщиной 1,75 мм, и облучают на расстоянии 150 мм от излучателя, состоящего из панели трубчатых люминисцентных ламп ЛУФв течение времени (0) с каждой плоскости кассеты. Испытания отвержденных образцов на твердость проводят на твердо- мере ТН(ГОСТ 2 б 3-58), а испытания на разрывную прочность и удлинение при разрыве на установке для испытания резин (ГОСТ 270-б 4, тип. 842)Результаты приведены в табл, 2,Результаты исследований показывают, что печатные формы с хорошими деформационно-эластическими свойствами получают при введении оксиэтиллированных алкилфенолов соединений формулы (1) в количестве 5-20 вес.ч. на 100 вес.ч....

Жидкая светочувствительная композиция

Загрузка...

Номер патента: 830285

Опубликовано: 15.05.1981

Авторы: Забуйский, Лазаренко, Мервинский, Токарчик, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, светочувствительная

...из приведенных данных, печатные формы, полученные из предлагаемой фотополимеризующейся ком позиции, характеризуются высокой разрешающей и выделяющей способностью, позволяют получать оттиски значительно большей оптической плотности за счет улучшения восприятия и отдачи краски печатающими элементами и обладают более высокой, по сравнению с известной, светочувствитель-. ностью, что значительно сокращает технологический процесс изготовления печатной формы. 40 ормула изо етениявительная комения ФотополиЖидкая светочувстпозиция для изготовл 0,5 -5 П р и м е р 1. Приготавливают фотополимеризующуюся композицию следующего состава, вес.Ъ:Триэтиленгликольдиметакрилат (ТГМ) 10Метиловый эфирбензоинаОлово двухлористоес И)-Метакрил-ди(диэтиленгликоль)...

Электронорезист

Загрузка...

Номер патента: 701324

Опубликовано: 23.06.1981

Автор: Мартынова

МПК: G03C 1/68

Метки: электронорезист

...травления фреонами.Затеи защитную маску снимают с помощью ионного травления в аргоне.Сравиительйые данные известногоэлектронного резиста и заявляемого,известного способа электронолитографин и заявленного приведены 1. табл, 1, 2. 20 3 7013Подложками служат окнсленные шайбы кремния 60 к 60, Толщина окисла по.рядка О, мкм. Температуру испаревияизиеняют от 30 аС до 160 С в следующем режиме:ЗОфс - 5 мнн50-150 С - 10 мин150-1600 С - 5 минПолучены глянцевые пленки, равномерные по толщине. Толприну пленки 1 Оопределяют на эллипсометре. Она сос-.тавляет 0,2 мкм.Полученную пленку чувствительногослоя затем экспонируют электронамина электронно-лучевой установке "Элуврнеподвижным расфокусированным лучомпри следующих параметрах:диаметр...

Жидкая светочувствительнаякомпозиция

Загрузка...

Номер патента: 840785

Опубликовано: 23.06.1981

Авторы: Лазаренко, Мервинский, Токарчик, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, светочувствительнаякомпозиция

...заливают в полость формируюше-копировальной рамы, состоящей из стекла, к которому прикреплен негатив, и армирук- шей основы, в качестве которой применяется мемлпическая подложка с адгезионно-противоревльным споем, Композицию экспонируют со стороны негатива люминесцентными лампами ЛУфнв расстоянии 60 мм для образования печатающих элементов в течение 15 мин, После экспонирования незвпопимеризоввнную жид-. кую часть композиции спивают, раму де- З 0 монтируют и полимерную печатную форму очищают 2%-ным водным раствором карбоната натрия при 60 С. Как видно из таблицы, печатные формы, полученные из светочувствитепьной компо 55 зиции, в которую введен сернистокислый натрий, изготавливают при значительно меньшем времени экспонирования. Это...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 855598

Опубликовано: 15.08.1981

Авторы: Абаренкова, Бляхман, Корбуш, Шильников

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...все оттиски соответствуют уста"новленными нормам по качеству печати.Разрешающая способность копировального слоя составляет не менее 150 линйй/см. Рабочие свойства печатной формы сохраняются в течение года.П р и м е р, 4. Приготовляют композицию 24,0 метакрилатфталата смолыЭД, соответствующего общей Формуфр леО-В-бОО-Нг бнбНД-00-б=бНг( 1ОК 3 где В = бН ,для изготовления печатных форм, включающая ненасыщенный эпоксидный олигоэфир, инициатор фотополимеризации ирастворитель, в качестве ненасыщенного эпоксидного олигоэфира содержит (мет-) акрилированный эпоксидный олигомер общей формулы ответствующего формуле 1, где й=Н, п=0,85; молекулярная масса 560, растворенного в 100 вес .ч . ацетона, добавляют раствор, состоящий из вес.чд...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 855599

Опубликовано: 15.08.1981

Авторы: Бабенкова, Белицкая, Дроб, Межов, Раевская, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...ЗОг 70) и смесь полимеров хорошо перемешивают, В полученный раствор вводят г(вес.чд: диметиламинэтилметакрилат 2,0 (11,6), полиэтиленгликоль в 0,1 мл этанола 0,5 (2,8), метиловый эфир бензоина 0,03 (0,16), ионол 0,003 (0,0166). Композицию гомогенизируют; обеспузыривают 24 ч в темном ме 8 те при комнатной температуре и поливают на пластинку размером 10 х 10 см. После сумки при комнатной температуре 30-36 ч получают пленки толщиной 0,5-0,7 мм, которые крепят на стальные или лавсановые подложки,Готовую светочувствительную пластину облучают через тестнегатив ультрафиолетовой лампой на расстоянии6 см 2-3 мин под вакуумом через полиэтиленовую пленку. Незаэкспонированные участки удаляют вымыванием водопроводной водой при 20-30 фС 3-5 мин.В...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 883846

Опубликовано: 23.11.1981

Авторы: Анисимова, Дудяк, Лазаренко, Петрова

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...этаноле сополиконденсата адипинатгексаметилендиамина и Е - капролактама в соотношении1;1 100 Акриловая кислота 12 Диметакрилат этиленгли коля 9 Бензоил 0,4 -ухлористое олово 0,7 Нигрозин 0,02 Далее как в примере 1 только время экспонирования ФП пластин при получении формы составляет 7 мин,П р и м е р 3 Приготавливают фотополимеризующуюся композицию следующего состава, вес, ч.:25 -ный раствор в25753-ном этаноле сополиконденсата адипинатгексаметилендиамина и-капролактама в соотношении 1:1Акриловая кислотаЗоДиметакрилат этиленгли коля 10Бензоин 0,5Двухлористое оловс 1Нигрозин 0,03Далее, как в примере 1, тсльковремя экспонирования ФП п.-асины приполучении формы составляет 7 мин.Полученные фотополимерные печатные 40формы на основе...

Композиция для шелкотрафаретной печати

Загрузка...

Номер патента: 890353

Опубликовано: 15.12.1981

Авторы: Галстян, Дноян, Карганян, Маркосян, Мовсисян, Овсепян, Петросян

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печати, шелкотрафаретной

...шаблон добавляют бихромат.калия (аммония),и фильтруют.Технология изготовления шелкотрафаретного шаблона с предлагаемым составом следующая. Сополимер винилацетата с винилпирролицоном в соотношениях: 4На рамку (деревянную, алюминиевую,стальную) с натянутой нейлоновой сеткой с обратной стороны в горизон,тальном положении в темноте или при красном свете, флейцом ровным слоем наносят фотоэмульсию и высушивают в темноте. После сушки раму экспонируют на свету (искусственный, мощность 150-250 Вт) методом фотофильмопечати 10 в течение 20-30 мин, В темноте илипри красном свете производят промывку в теплой воде (50-60 С) до полного удаления неполимеризованных участков фотоэмульсии. Затем производят 15 промывку рамы холодной водой и полученный...

Адгезивная композиция для изготовления металлической подложки фотополимерных печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 892405

Опубликовано: 23.12.1981

Авторы: Остапчук, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: адгезивная, композиция, металлической, печатных, подложки, форм, фотополимерных

...алеин ат 20-100С ополимеризующийся виниловый мономер 10-50Органический растворитель 10-100 405 4Все компоненты тщательно перемешивают до гомогенного состояния и полученную композицию фильтруют через слоЯ бязи.Для изготовления модельных форм дляопределения адгеэии печатающих элементов к подложке применяют установку ФЛ- -48 кассетного типа, снабженную излучателем - люминесцентными лампами ЛУФ- -80, На базовой стеклянной пластине ниж ней полукассеты монтируют модельныйтест-негатив, содержащий точки циаметром 430, 550, 820, 1600, 1800, 2000, 3000, 4000 мкм. Расстояние между точками 10 мм. Негатив защищают тон кой полиэтилентерефталатной пленкой топшиной 8-10 мкм, фиксируемой вакуумом, На верхней магнитной полукассете монтируют...

Адгезионная композиция для фотополимерных печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 892406

Опубликовано: 23.12.1981

Авторы: Бабкова, Вайнер, Вершинин, Михайличенко, Остапчук, Шабатура, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: адгезионная, композиция, печатных, форм, фотополимерных

...Оптимальная продолжительность отверждения определяется по методу "карандаша". Толщина отвержденного слоя 20-25 мкм.Б. Для изготовления модельных печатных форм готовят жидкую фотополимеризующуюся композицию следующего состава, вес.ч.:Олигодиэтиленгликольмалеинатфталат(полиэфир ТГМ-.З) 15,0Стирол 25,0Метакриловая кислота 15,0Метиловый эфир бензоина 1,0Все компоненты композиции тщательно перемешивают и полученную композицию фильтруют через слой бязи. В. Изготовление модельных печатных форм выполняют на установке ФЛкассетного типа, снабженной излучателем - люминесцен ными лампами ЛУФНа базовой стеклянной пластине нижней полукассеты монтируют модельный тест-негатив, содержащий девять прозрачных круглых элементов диаметром 430, 550, 820, 1000,...

Состав для удаления фотополимерного покрытия с поверхности подложки

Загрузка...

Номер патента: 898377

Опубликовано: 15.01.1982

Авторы: Кущак, Лазаренко, Мервинский, Токарчик

МПК: G03C 1/68

Метки: поверхности, подложки, покрытия, состав, удаления, фотополимерного

...ОстальноеП р и м е р. 1. Приготавливают 103-ный водный раствор надсернокислого аммония. В полуценный раствор погружают печатную форму на 24 ц с использованием в печати фотополимерным покрытием следующего состава, вес, 4Триэтиленгликопьдиметакрилат (ТГИ)Иетиловый эфирбензоина 1-5Эпоксидная смола(ЭД)30Этиловый спиртРодамин СЖс 6 - метакрилди-диэтиленгликоль"фталат (ИДФ) 79,9-66,6 фф Затем тампоном протирают пластину до полного удаления Фотополимерного покрытия (не более 1-2 мин. ). После промывки и сушки алюминиевой пластины на нее наносят новый копировальный слой и после экспонирования под негативом получают качественную пе 4чатную форму. После печатания с нее,операции могут быть повторены неменее 3 раз,П р и м е р 2....

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 900243

Опубликовано: 23.01.1982

Авторы: Белов, Гаврилюк, Дацко, Жаринская, Максимова, Назарова, Поддубный, Пущина, Топольницкая, Ушомирский, Холод, Шевчук

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...и бессеребряных вторичных Фотоформ на их основе осуществляется согласно приведенным примерам.П р и м е р 1. 5 вес,ч. сополимера метакриловой кислоты и бутилакрилата (40(-ной мольной кислоты) растворяют в 90 вес,ч. этилового спирта,добавляют при перемешивании 3 вес.ч.триэтиленгликольдиметакрилата (ТГИ),1,5 вес.ч, метилового эфира бензоина0,06 вес.ч. монохлоргидрата диэтиламина, 0,1 вес.ч, красителя Бордо-"С".;Смесь тщательно перемешивают и получают Фотополимеризующуюся композициюс вязкостью по ВЗ11 с, Композициюнаносят на лавсановую пленку, сушати экспонируют через диапозитив подультрафиолетовой люминесцентной лампой типа ЛУФ1 мин,затем проявляют в 2-ном растворе бикарбонатанатрия в воде, промывают водой и об"рабатывают...

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 900244

Опубликовано: 23.01.1982

Авторы: Дацко, Липатов, Магдинец, Рудько, Чайко

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся

...Тщатель" но перемешанную смесь, не содержащую 1 пузырей воздуха, помещают в копировально-Формующий пакет и облучают через негатив лампой ЛУФ, находящейся на расстоянии 15 см от облучаемой поверхности 40 мин. Печатную в форму проявляют растворителем, сушат и подвергают термообрабатке при температуре 110 С в течение 4 ч..П р и м е р 2. Смешивают,37,5 мас олигоуретанакрилата, упомянутого И в примере 1, 3,5 мас.ч диановой смолы ЗД), 25 мас,ч. метйлметакрилата, 20 мас.ч метакриловой кислоты, 0,6 мас,ч метилового эфира бензоина, 0,5 мас,ч. наполнителя-аэросила. Пе- зр чатную форму получают, как указано в примере 1, при облучении 30 мин и термообработке при 120 С в течение 3 ч 44 фформу получают, как указано в примере 1, при облучении 40...

Фотополимеризующаяся пластина

Загрузка...

Номер патента: 911442

Опубликовано: 07.03.1982

Авторы: Белицкая, Дроб, Золотухин, Раевская, Хуторсков, Царев, Шибанов

МПК: G03C 1/68

Метки: пластина, фотополимеризующаяся

...метилвиолета. Полученную композицию хорошо пвремешива" ют и обеспузыривают в течение 24 ч в темном месте при комнатной температуре, Затеи из этой композиции методом отлива получают фотополиме" ризующийся слой (размер 10 х 10 см и толщина 0,6-0,7 мм), который крепят к подложке.Приготовление композиции адгезионного Фотополимеризующегося слоя.5 г (21,6 вес,ч.) сополимера дивинила (ДВ) с акрилонитрилом (АН) и метакриловой кислотой (МАК) (мольное соотношение ДВ:АН:МАК ж 45:20:35) растворяют в 15 мл этанола, добавляценному раствору полимера добавляют 0,56 г (0 89 вес.ч,) глицидилмет",. акрилата, 1,12 г (1,78 вес.ч.) триэтиленгликольдиметакрилата,0,05 г (0,079 вес.ч.) й,й-тетраоксипро-, пилендиамина, 0,56 г (0,89 вес.ч.) полиэтиленгликоля в...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 911443

Опубликовано: 07.03.1982

Авторы: Абрамова, Бедова, Егорова, Орлов, Паскаль, Сиромятников, Филипченко, Цепенюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...в количестве 0,07 вес.ч. растворяют отдельно в 8 вес.ч. ацетона и в растворенном виде вводят в композицию.Композицию тщательно перемешиваютдо получения гомогенного раствораП р и м е р 2. Способ приготовления композиции по примеру 1 при следующем соотношении компонентов,вес.ч.:Модифицированныйсополимер стирола, метакриловой кислоты ималеинового ангидрида (30 аллиловых групп) 6М-Ацетиламинофенилакрилат .12Бутиловый изобутиловый эфирбензоинэ 5Родамин 6 Ж КДИ 0,09Ацетон 78П р и м е р 3 Способ приготовления композиции по примеру 1 приследующем соотношении компонентов,вес.ч.:Иодифицированныйсополимер стирола,метакриловой кис-,лоты и малеинового ангидрида(404 аллиловыхгрупп) 7В-Ацетиламино.- фенилакрилат 13Бутиловый изобутиловый эфирбензоина...

Адгезивная композиция для изготовления полиэфирной подложки фотополимерных печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 911444

Опубликовано: 07.03.1982

Авторы: Бабкова, Белов, Остапчук, Ушомирский, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: адгезивная, композиция, печатных, подложки, полиэфирной, форм, фотополимерных

...мономеры),фотоинициатор, в основном из классовпростых эфиров бензоина, и термоингибитор, обычно из классов фенолов, 1 Охинонов или нитросоединений. В качестве других компонентов жидкие фотополимеризующиеся композиции могутсодержать ди- и полиакрилаты (метакрилаты) простых и сложных олигоэфиров, наполнители, красители и т.д.П р и м е р. 1. А,Готовят адгезивную композицию, смешивая компонентыв необходимых соотношениях до получения гомогенного прозрачного раствора,На обезжиренную .полиэфирную пленку толщиной 0,1 мм при помощи лабораторной валковой машины наносят полученную адгезивную композицию и помещают в термостат, где происходитотверждение адгезивного слоя; Толщина отвержденного адгезивного слоя10- 15 мкм.Б Готовят...

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления оригинальной печатной формы

Загрузка...

Номер патента: 917712

Опубликовано: 30.03.1982

Авторы: Таданори, Такезо, Юкиказу

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, оригинальной, печатной, формы, фотополимеризующаяся

...тиолы ( например, тиофенол, пара-тиокрезол, пара-метокситиофенол). Инициатор фотополимеризации добавляется в количестве 0,1 - 11 вес. ч.Кроме того, предлагаемая композиция содержит ингибитор тепловой полимеризации, который выбран из группы, состоящей из гидрохинона, метилгидрохинона, 1-бутилкатехола, пирагаллола, 2,6- -ди--бутил-пара-крезола и т,пл в количестве 0,01-1,0 вес.ч. Оригинальная печатная форма можетбыть изготовлена из предлагаемой фотополимеризующейся композиции следующим образом.Вышеуказанные компоненты смешиваются для поучения фотополимеризующейся композиции, которая наносится на подложку на нужную толщину соответственно с глубиной рельефа, а затем облучается светом, например ультрафиолетовой лам пой или...

Подложка для фотополимерных печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 934439

Опубликовано: 07.06.1982

Авторы: Мартынюк, Матюшова, Тремут

МПК: G03C 1/68

Метки: печатных, подложка, форм, фотополимерных

...марки ПФЛ-30,олифу марки ГКФ, касторовое масло, сиккатив, наполнитель, растворитель и пигмент. Ппастину белой жестигрунтуют эмалью марки АС, которая содержит эпоксидную смолу ЭД и акриловый сополимер марки 5 Б, двуокись титана, пигмент или красительи смесь органических растворителей.Толщина противоореольного грунтового покрытия в обоих случаях составляет 5-6 мкм, 20Затем сушку грунтового слоя производят в трехсекционном сушильномустройстве ( секция - 100 оС, П секция 120 С, 1 И секция - холодный обдув)0в течение 20 мин, На предварительно 25загрунтованные листы жести наносятадгезионный слой.В состав слоя входит эпоксиднаясмола, обработанная акриловой илиметакриловой кислотами формулы . щОбработка смолы ненасыщенными кислотами ведется...

Сухой пленочный фоторезист

Загрузка...

Номер патента: 941918

Опубликовано: 07.07.1982

Автор: Кузнецов

МПК: G03C 1/68

Метки: пленочный, сухой, фоторезист

...Фотохимической реакции, затем удаляют (отслаивают) полиэтилентереФталатную пленку и светочувствительный слой проявляют 23-ным водным раствором карбоната натрия 60 с на струйной установке. 18 6тания. Защитный рельеф также стоек в сернокислотном электролите гальванического осаждения меди и борфтористом электролите гальванического осаждения сплава олово-свинец (при последовательном гальваническом покрытии, по 60 мин выдержки в каждом из электролитов). Известный сухой пленочный фоторезист выдерживает гальваническое покрытие по 30 мин в каждом иэ электролитов, после чего наблюдается местное разрушение защитного рельефа.П р и м е р 2. В состав сухого пленочного фоторезиста (пример 1) дополнительно вводят 10 вес.ч, фото- инициатора -...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 948300

Опубликовано: 30.07.1982

Авторы: Льюис, Ринальдо, Рудольф

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...прибора (модель РРС/Я, С-процессор) с ультрафиолетовой лампой мощностью 80 Вт/см. После отверждения пластины выдерживают в течение получаса в нормальных климатических условиях, а затем определяют твердость по маят- никовому прибору по Кенигу. В табл,6 приведены измеренные значения твер-дости в зависимости от скорости транспортировки пластин под лампой. Полученной таким образом печатной краской набивают специальную бумагу с помощью пробного печатного набора..кип. Маслянистая жидкост КрО 150т,кип. бн,О СН 6+он 1400т.кйп,Э Н т.кип,Кр)1 т.кип. Печатная краска,г/м 1 2Набивное давление, кгс/м25Скорость набивки, м/с 2Пробы облучают Уф-лучами ( мощность лампы 80 Вт/см, расстояние от,лампы 11 см ), время облучения варьируют изменением...

Фотополимеризующийся состав для изготовления защитных покрытий на металлических печатных формах

Загрузка...

Номер патента: 951222

Опубликовано: 15.08.1982

Авторы: Бойко, Лазаренко, Машляковская, Николаев, Новикова, Сысюк

МПК: G03C 1/68

Метки: защитных, металлических, печатных, покрытий, состав, формах, фотополимеризующийся

...лак, представляющий собой 50-ный раствор полиуретанэпоксидноноволачного лака в смеси бутил" ацвтата и этилцеллозольва 1 г 1). З 5 Экспонируют в течение 1-2 мин для пленкообразования, а затем термоотверждают при 160 ОС в течение 30 мин., П р и м е р 2. Изготавливают композицию следующего составаг 40Полиэфируретанэпоксидноноволачный лак 150-ныйраствор в смеси этилцеллозольва и бутилацетата1:1) 54,5Триэтиленглккольдиметакрилат 35Метиловый эфир бензоина 9Уротропин 1,5-ный раствор в гидролизном спирте) 1,5 Приготовление и нанесение аналогично примеру 1. П р и м е р 3, Изготавливают композицию следующего состава:Полиэфируретанэпоксидноноволачный лак50-ный раствор всмеси этилцеллозольва и бутилацетата(1 г 1) 37Триэтиленгликольдиметакрилат...

Светочувствительная композиция для сухих пленочных фоторезистов

Загрузка...

Номер патента: 957153

Опубликовано: 07.09.1982

Авторы: Вайнер, Гуров, Дюмаев, Ерофеева, Эрлих

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, пленочных, светочувствительная, сухих, фоторезистов

...Димер- О -хлорфенил,5-диметоксифенил имидазолила 2,4 БензофенокКетон Михлера 0,7 1,2 1,5 1,1 0,7 07 1,2 1,5 0,6 0,1 2,0 Диацетат триэтиленгликоля Пластификатор 2,2 -2,2 Бутилбензилфталат 2,5 -2,8 Бисалкофен Ингибитор термической палим еризацин 0,01 - 0,1 0,05 0,0 1 То же и -Монометиловый эфир гидрохинона"Виктория" чистоголубой 008 0,04 0,03 - 003 0,02 Краситель Родамнн ЖТрихлорэтилен 0,08 Осталь,7 Остальное ное Осталь,7 ное Растворитель Метиленхлорид Остальноеное ное П р и м е ч а н и я. Логарифмическую приведенную вязкость всех трех образцовМполиметилметакрклата определяют для 0,5%-ного раствора полимера в хлороформе щи 20 оС." " Технический полиметилметакрилат марки ЛСОМ.Приготовленную таким образом свето-80 ОС, Тсипщпи...

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления рельефных печатных форм, проявляемых водой

Загрузка...

Номер патента: 957154

Опубликовано: 07.09.1982

Авторы: Белая, Весоловский, Куновская, Пугачевская, Савоськин, Сысоева, Тучапский, Шур

МПК: G03C 1/68

Метки: водой, композиция, печатных, проявляемых, рельефных, форм, фотополимеризующаяся

...грМ-нитрозо-п-толуолсульфамид, и -дини.тробензол и другие. Эти соединения могут быть введены в композициюкак в отдельности, так и в смеси.Примерами фосфатов, применяемых в гзсоставе Фотополимеризующейся компози"ции, являются; трибутилфосфат, р -хлорэтилдиметилфосфат, р -хлорэтилдибутилФосфат, 1 -бромэтилдибутилфосфат, триоктилфосфат, три д-бутилоксиэтил- зрфосфат, трифенилфосфат, три-о-крезилфосфат, дифенил-и-крезилфосфат дифенил-п-третбутилфенилфосфат, Фенилдиоктилфосфат.П р и м е р А, В трехгорлую колбу, снабженную мешалкой, термометром,обратным холодильником, соединеннымс колбой через ловушку Дина-Старка,трубкой для подачи инертного газазагружают 53 вес.ч. (0,5 И) диэтиленгликоля, 45,6 вес,ч, (0,6 И) 1,2-пропиленгликоля, 30...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 960714

Опубликовано: 23.09.1982

Авторы: Александрова, Дрягилева, Липатов, Сухов, Трифонов, Фабуляк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...способом при давлении200 т/см при 12 П С в течение 20 мин.Результаты испытаний приведены в таблице,П р и м е р 3. Смешивают, мас.ч.:ненасыщенный полиэфир 100 по примеру 2,стирол 20, аллилуретан 1 Формулы( 1 )при 60 С, затем смесь охлаждакт доКак видно из таблицы результатов испытаний, использование предлагаемых композиций в качестве связующих при получении бумажных труб с предварительным фотооблучением на бумажной подложке и с последующей термообработкой при .120 С позволяет в 2-3 раза увеличить когезионную прочность, что имеет больное значение при контактном йормовании цилиндрических изделий, и в 1,3-2 раза увеличить адгезионную прочность, что свидетельствует об увеличении эластичности,5 9607 комнатной температуры и,...

Светочувствительная композиция для изготовления печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 974326

Опубликовано: 15.11.1982

Авторы: Абрамова, Богомольный, Литвинова, Мейя, Розенберг, Филиппова, Эмдин

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, светочувствительная, форм

...композицию наносят на пластины центрофугированием, после чего сушат при 40-70 10-15 мин, Толщина полученного светочувствительного копировального слоя составляет 310, 5 мкм.Для изготовления печатной формы полученную предварительно очувствленную пластину экспонируют через диапозитив метвллогвлогенной лампой при освещенности 5 - 10 тыс. люкс, проявляют водой 30-60 с, в результате чего удаляются участки копировапьного слоя, соответствующие непрозрачным участкам диапозитива, Проявленную пластину сушат, после чего проводят химическое травление хрома на незвщюценных копировальных слоем участках раствором, содержащим хлористый магний, ортофосфорную кислоту и фосфорноввтистокислый натрий, Копировальный слой удаляют раствором на...

Жидкая светочувствительная композиция для изготовления печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 974327

Опубликовано: 15.11.1982

Авторы: Гранчак, Лазаренко, Токарчик, Шерстюк

МПК: G03C 1/68

Метки: жидкая, композиция, печатных, светочувствительная, форм

...следующего состава, вес.%:с,о -метакрилдидиэтиленгликольфталат (МДФ) 81.,0Тризтипенгликольдиметакрилат (ТГМ) 15,04,4 -Дихлорбензофенон 1,0Диметилан илии 3,0Далее, как в примере 1, но время экспонирования композиции составляет 35 мин.Полученные фотополимерные печатные формы на основе предложенных композиций имеют технологические характеристики, представленные в таблице.Иэ приведенный данных следует, что предложенная жидкая светочувствительная композиция имеет более высокую светочувствительность, а полученные на ее основе печатные формы обладают улучшенными физико-механическими характеристиками. 93,9 27,510 По приме- .Фотоу 1 Ката 4 0,11 30 фото-р,5 32,5Ката-р,0 пр 40 9106 Ф т р,0ата-р,0 По приму 3 15 Метнлметакрилат,5 3 974327...

Фотополимеризующаяся композиция

Загрузка...

Номер патента: 1008692

Опубликовано: 30.03.1983

Авторы: Берестнев, Ганич, Лазаренко, Левин

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...фталат 75,0Остальное, как в примере 1.П р и м е р 10 прототип) . Готовят композицию следующего состава,вес.%:Метиловыйэфир бензоина . 1,0Триэтилен 35 гликольдиметакрилатд-Нетакрил-ди-(диэтиленгликоль) Фталат 84,040 Остальное, как в примере 1.П р и м е р 11. Готовят композицию следующего состава, вес.Ъ:Метиловыйэфир бензоина 0,5Высокомолекулярный эластомерформулы 1 И 0,1Триэтиленгликольдиметакрилат 10,050 с,И-Метакрил-ди-(,диэтиленгликоль) фталат 89,4Остальное, как в примере 1.П р и м е р 12. Готовят композицию следующего состава, вес.Ъ:Метиловыйэфир бензоина 1,0Высокомолекулярный эластомерф рму Ш 160 Триэтиленгликольдиметакрилат 15,0Ф,Я-Метакрил-ди-(диэтиленгликоль) фталат 8,365 Остальное, как в примере...

Фотополимерная печатная форма

Загрузка...

Номер патента: 1020792

Опубликовано: 30.05.1983

Авторы: Руднева, Тищишина, Турик, Шепельская, Шкуренко

МПК: G03C 1/68

Метки: печатная, форма, фотополимерная

...фотополимернойпечатной формы. 6На предварительно обезжиреннуюстальную пластину в центрифуге илис помощью фильеры с регулируемымзазором наносят адгезионно-противоореольный слой, приготовленный по методике, описанной в п.2 и высушивают при температуре 80-90 ОС в течение 20 мин. Толщина слоя - 0,015 мм,На адгеэионно-противоореольныйслой наносят слой фотополимеризующегося.состава аналогичного составу,используемому в последующем для образования печатающего рельефа Формы. Толщина слоя 20-30 мкм. При облучении Уф-светом осуществляют отверждение .слоя фотополимериэующейся композиции.Жидкую Фотополимеризующуюся композицию, приготовленную по методике, описанной в примере 1, наносят на . подготовленную вышеуказанным спосо- бом...

Электронорезист

Загрузка...

Номер патента: 1056123

Опубликовано: 23.11.1983

Авторы: Игнашева, Калошкин, Корчков, Мартынова

МПК: G03C 1/68

Метки: электронорезист

...и толщины защитной маски,Наличие сурьмы в полученных защитных масках и их высокая термостабильность открывает новое Функциональное назначение резиста - возможность использования его в ка- . честве истоцника диффузанта сурьмы в полупроводниковую подложку и менять тип ее проводимости.П р и м е р 1, Получение защитной маски негативного типа и р- п перехода.Пленку чувствительноГо слоя наносят на установке УВНР 2, для чего 0,2 г (винил,стибин) силсес" квиоксана помещают в испаритель тигельного типа и напыляют на холодную подложку кремния Р -типа, расположенную над испарителем на расстоянии 20 смРабочий вакуум в камере 10 мм рт,ст , время испарения вещества 2 мин. Температуру испарителя изменяют от 20 до 150 С в следующем режиме:;30-140 С...

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм

Загрузка...

Номер патента: 1062190

Опубликовано: 23.12.1983

Авторы: Белицкая, Белицкий, Вайнер, Влязло, До, Колесников, Трахтенберг

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

...сопротивление печатающих1 со0,15 ъ-ным водным раствором гидрооки- элементов сдвигу 29 МПа.си натрия в течение 8 мин для удале- П р и м е р 4. Готовят фотополиния неэкспонированных участков, пос- меризующуюся композицию аналогичноле чего сушат полученную фотополи- примеру 2, используя в качестве фотомерную печатную форму в естественных инициатора 1 г (мас.ч.) трет-гексиусловиях и исследуют профиль получен пероксиметилового эфира антрахинонных печатающих элементов (точек диа- -карбоновой кислоты. Угол у основанияметром 200 мкм с помощью часового печатающего элемента полученной фозопроекто а ЧП.Нар - . пластине, изготов- полимерной печатной формы составляетленной по известной композиции, по- З 0 71 , разрешающая способность 100 смлучен...