G02B — Оптические элементы, системы или приборы

Номер патента: 1075218

Опубликовано: 23.02.1984

Авторы: Димитров, Русинов

МПК: G02B 27/10

Метки: зрачка, расширения

...на фиг. 3 и 4 - варианты исполнения устройства.Устройство для расширения зрачка состоит из двух групп идентичных полупентапризм 1 и 2 с касающимися входными гранями, линия касания которых лежит а плоскости, содержащей оптическую ось, вторая группа состоит из двух идентичных полупентапризм 3 и 4 (на фиг. 3 показана оптическая схема устройства, вторая группа призм которого состоит из двух призм Шмидта 5 и 6), при этом входные грани первой группы и выходные грани второй группы лежат в параллельных плоскостях, перпендикулярных оптической оси, а подвижная часть выполнена в виде куба 7 или правильной восьмигранной призмы 8 (фиг. 3) и помещена между двумя группами указанных призм, ось ее вращения перпендикулярна плоскости главного...

Номер патента: 1076739

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Бернштейн, Воробьев, Потапов, Смирнова, Хирунцев

МПК: G01B 11/00, G02B 27/42

Метки: линейного, перемещения

...5, на электрический вход которого поступает сигнал от генератора б. Ультразвуковая волна в модуляторе распространяется в направлении,перпендикулярном плоскости цертежаот наблюдателя, Далее следует оптический блок 7, выполненный в видесветоделителя-компенсатора 8, установленного по ходу. светового пучка, зеркала 9 и призмы 10 Дове,установленных по ходу отклоненногосветового пучка, измерительныйрастр 11 и фотоприемное устройство12, в состав которого входят линзы(конденсоры) 13, 14 и фотоприемники1, 16. Крестиком и точкой в световых пучках 17 и 18 обозначены направления движения акустооптического растра перпендикулярно плоскости чертежа от наблюдателя и кнаблюдателю соответственно,Устройство работает следующимобразом.,Свет от...

Номер патента: 1076855

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Левитин, Решетин

МПК: G02B 5/12

Метки: двусторонний, световозвращатель

...Оправе 3. 1 аружная входная поверхность 4 элементов 1 и 2 - плос кая прозрачная, Внутренняя сОстОит из двух участков: катадиогтрического Отражающего 5 и плоского прозрачного б. Катадиоптрическая поверхность образована множеством плоских граней 7, имеющих Форму прямоугольников, об щие стороны которых образуют границы и ребра 8 ячеек, Каждая ячейка представляет собой трехгранный прямой угол, образованный тремя смежными гранями., и является либо закр:;той 9, обращенной раскрывом внутрь материала Оптического элемента (а нершиной во вне), либо открытой 10, обращенной раскрывом во Вне элемента.Грани 7 Одной и той же закрытой (Открытой)ячейки принадлежат трем разным открытым ( закрытым )ячейкам, гри зтО РебРа 8 зс-;кРытых...

Номер патента: 1076856

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Волнухин, Козлов

МПК: G02B 7/00

Метки: оптических, элементов, юстировки

...в устройстве для юсткровки оптических элементов, включающем в себядержатель оптического элемента к механизм поворотов с регулировочнымивкнтамк с одной стороны и опорнымивинтами с зазоровыбирающими пружинами обратного хода к. подвкжными толкателями с другой, подвижные толкатели снабжены выступами в виде кольцевого буртика, взаимодействующего сопорными винтами.Предлагаемое устройство более надежно в эксплуатации за счет исклю чения действия зазоровыбирающих пру-,жин после процесса юстировки, чтопревращает всю конструкцию в жесткую систему, не реагирующую на различные механо-климатические воздействия к обеспечивающую требуемую неподвижность оптического элемента.На фиг. 1 изображено устройстводля юстировки оптических элементов,разрез; на...

Номер патента: 1076857

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Градобоева, Добросердова, Стефанский

МПК: G02B 15/14

Метки: афокальная, насадка, широкоугольная

...афокальная насадка, состоящая из двух компонентов, первый из которых отрицательный, а второй положительный 1. 15Недостатком данной насадки является сложность ее изготовления за счет наличия асферических поверхностей.Известна широкоугольная афокаль О ная насадка, содержащая два компонента первый иэ которых - отрицательный, состоит иэ одиночного отрицательного мениска, обращенного вогнутостью и иэображению, и двухсклеенной линзы, выполненной из двояковыпуклой и двояковогнутой линз, а второй - положительный, выполненный из склеенных отрицательной и положительной линз Г 23Известная. насадка обеспечивает достаточное увеличение, однако имеет значительные габариты, недостаточно высокое качество изображения и малое поле зрения. 35Цель...

Номер патента: 1076858

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Ефремов, Павлюшенко

МПК: G02B 17/08

Метки: зеркально-линзовый, объектив

...оси11 сгожность ко:." грукции вследстт,еРЫГОЛНЕНИЯ тОМЕНСатОРсс сбегаНИдвуХХ(ОМТОНЕ.:тХс 1,Цель изобрсгех 5 т - у КзлигениО з днегО 1 окальОГО ОтРРзе(с., УтООЩЕиеКОНСТ 1 ЭуКц 1 И 1 уЛучЕЕИ Р КНЧЕ ЗсИ З Обрса)Е 1 Я,ПОСТсЗВЛЕНая 1 ЕЗтв тОСИГПЕТСЯТЕМ, ЧТО Р ЗЕТЭслЦО-.1 ИЦЗОВОМ 06 Ъ"- ЕХ( т И В С (-; ОДЕРКаЩЕ 1 О" Ет 01 П У 0 ПОЛО 1"- тельную линзу, отэ 1 ц -.техвхый менискОбращенный Вогнутость 0 к П 1 эддме;у,с отражаюим 101 рвгк;ет 1 ца периФерийноЙ части вьгуклой 1 озеэххост 1, зеркалоо с ару)хем От 1 аже нем г на О(. е цНСЕ Еа ЦР Етрса)вЕЛО 10 С Т Х В Орой ПОвс рхн ости положительной ле зь, икомпенсатор саб)ерэацетй положительная линзд. ВыГОлненд. В ВЕтдР менискаобращенного выуктостью к предмету,а компенсатотэ д.беРРсэт.т " в...

Номер патента: 1076859

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Коломиец, Кривошлыков, Остафьев, Румбешта, Тымчик

МПК: G02B 27/42, G05B 19/00

Метки: процессом, резания

...между указанными инструментом и Фотоприемным Уст ройством, введены целевая узкопольная диафрагма и опорная полуплоскость, причем последняя размещена в одной плоскости с вершиной режущего клина инструмента, центр проекции щелевой узкопольной диафрагмы на укаэанную плоскость совмещен с центромщели, образованной опорной полуплоскостью и упомянутой вершиной,большая сторона этой проекции ориен-.тирована по нормали к рабочей кромке спорной полуплоскости, обращеннойк вершине режущего клина инструмента, источник излучения выполнен когерентным, а входная апертура Фотоприемного устройства совмещена с задней фокальной плоскостью объек 1 ива,На чертеже представлена оптическая схема предлагаемого устройства.Устройство управления...

Номер патента: 1076860

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Борисов, Ковалев, Федоров

МПК: G01J 3/06, G02B 26/10

Метки: кругового, обзора, сканирующее

...полой осью, связанной с корпусом 45через подшипники, оправу с зеркалом,закрепленную па установленной в стойках Вилки Осир привод ИО азимутув Виде электропвигателя с редуктором,установленный на корпусе и взаимо-5действую;ций с осью вилки, и механизм наклона зеркала с электроприводом,последний обРазован дополнительновведееным кОльцом с Двумя Опорнымиторцами, установленным соосно осивилки с Воэможностью возВратно-поступательного перемещения, рычагом,кенематически связанным с кольцоми с электродвигателем, при этом одиниэ опорных торцов кольца кинематически связан с оправой зеркала, адругой - (. кулачком, расположеннымФна валу электроприводй.Ог:рава с зеркалом снабжена кронш-тейном с роликом, фрикционно связанным с первым опорным торцом...

Номер патента: 1076861

Опубликовано: 28.02.1984

Авторы: Елисеев, Контиевский

МПК: G02B 27/30

Метки: автоколлиматор

...окулярный микрометр 8 и окуляр 9. Светоделитель 4 и двугранный отражатель 7 расположены симметрично по разные стороны оптической оси автоколлиматора. Отражающие грани отражателя 7 обращены к объективу 5, а его ребро расположено в одной плоскости с оптической осью и центром марки и имеет по меньшей мере одну общую точку с плоскостью Р автоколлимационного изображения.Плоскость Р на фиг, 1 и 2 совпадает с фокальной плоскостью объектива 5, а на фиг.3 и 4 сопряжена с передней плоскостью Р, совпадающей с центром кривизны вогнутого сферического зеркала.В зависимости от удаления зеркала 6 от объектива в автоколлиматоре возникает виньетирование. Чтобы отражатель 7 не вызывал дополнительного виньетирования или чтобы виньетирование было...

Номер патента: 1078393

Опубликовано: 07.03.1984

Авторы: Анитропова, Иванов, Никифорова, Русинов

МПК: G02B 11/34

Метки: входным, вынесенным, гидрообъектив, зрачком

...фокального .отрезка и выноса входного зрачка, но Ьн не удовлетворяет по качеству изображения.Целью изобретения является улучшение качества изображения эа счеткоррекции кривизны изображения, пспевой сферической аббррации, астигматизма и полевой комы.Поставленная цель достигается тем,40 что в гидрообъективе с вынесенным входным зрачком, содержащем пять компонентов первый иэ которых - отрицательный мениск, обращенный вогнутос.тью к предмету, склеенный иэ положи- .45 тельного и отрицательного менисков, второй - двояковыпуклая линза, третий - склеенный йз отрицательного мениска и двояковыпуклой линзы, а пятый - плосковогнутая линза, обращенная плоскостью к иэображению, четвертый компонент выполнен в виде положительного мениска,...

Номер патента: 1078394

Опубликовано: 07.03.1984

Авторы: Аладагов, Валеев, Кибец, Мельников, Хуторянский, Шпак

МПК: G02B 26/12

Метки: зеркальный, многогранник, развертывающей, системы

...расстоянии от оси вращейия многогранника, при этом области сегментов со стороны меньшего основания усеченной пирамиды с прорезями выполнены с уменьшенными толщинами, а каждый сегмент снабжен регулирующими элементамиВ усеченной пирамиде со стороны 50 рамида выполнена упругогибкой и имеется регулирующее устройство, нафиг. 2 - вид А на фиг. 1, на фиг. 3и 4 - сечение верхней усеченной пирамиды с кольцеобразной проточкой сверху или снизу соответственно; на. фиг. 5 " вид Б на фиг. 3 на фиг.бсечение зеркального многогранника,на фиг. 7 - многогранник, видсверху.Зеркальный многогранник для развертывающей системы (фиг. 1) состоит из верхней усеченной пирамиды 1и нижней усеченной пирамиды 2, которые соединены друг с другом (соединительные элементы...

Номер патента: 1078395

Опубликовано: 07.03.1984

Авторы: Ивакин, Кицак, Лазарук, Рубанов

МПК: G02B 27/48

Метки: изображения, формирования

...картина практичес ки не отличается от картины, образованной волнами при отсутствиитурбулентного слоя 2 .Недостатком известного способаявляется ухудшение качества изобра жения в том случае, когда, турбулентный слой имеет большую протяженностьпо глубине или находится далеко отобращающей ячейки, поскольку приэтом сигнальная волна и первая волна накачки проходит через различныеучастки этого слоя. Кроме того, способ позволяет регистрировать толькоте объекты, которые имеют бликукщиеповерхности.Цель изобретения " улучшение ка чества изображения и расширение класса регистрируемых объектов. 45 50 55 60 65 Поставленная цель достигаетСя тем, что согласно способу формирования изображения, включающему облучение объекта...

Номер патента: 1080106

Опубликовано: 15.03.1984

Автор: Кариженский

МПК: G02B 26/10

Метки: сканирующая

...ас ок си овка. держащая объектив, линейку приемников излучения, установленную в плоскости иэображения объектива, и качающееся зеркало, установленное между объективом и линейкой приемников излучения, снабжена несколькими дополнительными линейками приемников излучения, установленными в фокальной плоскости объектива на расстоянии друг от друга, симметрично относительно оси объектива,На чертеже изображена предлагаемая сканирующая система.Сканнрующая система состоит из объектива 1, качающегося зеркала 2, нескольких линеек приемников 3 излучения ( 1 - расстояние между линейками)., при этом 4 - фокальная плоскость объектива, положение которой соответствует положению зеркала 2, обозначенному сплошной линией.Сканирующая система работает...

Номер патента: 440942

Опубликовано: 15.03.1984

Авторы: Корнев, Федоров, Чудесников

МПК: G02B 27/10

Метки: оптический, отклонения, потока, светового, фокусирования, элемент

...45 и вершиной внутри диска,На фиг. 1 изоная схема измери бражена принципиальтельного устройства,1 состоящего из пятиких элементов; наэлемент для отклонсветового потока.Устройство представляет собой ц линдр, собранный из оптических элементов 1 и промежуточных колец 2, укрепленных на штанге 3. Поможет крепиться на подвижновысотное положение которогоопределить.Если требуется определить с обьекта от створа, фотогриемное устройство располагают горизонтальнОптический элемент представляет собой диск 4, изготовленный из материала, прозрачного в видимой области спектра, в центре которого расположе конус 5.Лучи, падающие на боковую поверхность диска параллельно основанию, фокусируются на коническую поверхность, отражаются от нее, проходят...

Номер патента: 1081604

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Елисеев, Контиевский

МПК: G02B 5/04

Метки: двойного, изображения, призменная

...призм, а угол, образуемый гравным сечением каждого блока с главным сечением отражательных призм, равен 135.На фиг. 1 приведена призменная система двойного изображения и ход лучей, об 55 луч отражается от грани 8 призмы 6 и, попадая на светоделительную катетную грань 7, частично отражается от нее и выходит из призменного блока 2, Второй луч, отразившись дважды в призме 3 от катетных граней 9 и 10, выходит из нее и попадает в призменный блок 2. Проходя щий вид; на фиг. 2 - фронтальная проекция призменной системы двойного изображения; на фиг. 3 - то же, вид сверху; на фиг. 4 - то же, вид сбоку.Призменная система двойного изображения содержит два одинаковых призменных блока 1 и 2 и две одинаковые прямоугольные отражательные призмы...

Номер патента: 1081605

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Белов, Бульбутенко

МПК: G02B 5/10

Метки: локального, облучения

...х,у координаты точки профиля;1. - дли на протяженного источникаизлучения;Н расстояние от центра источникаизлучения до центра зоны облучения;- угол излучения источника, прикотором его яркость максимальна,и для второго участка По своей форме отражатель может быть осесимметричным или цилиндрическим.На фиг. 1 изображен профиль отражателя предлагаемого устройства с членением по шести участкам; на фиг. 2 - экспериментально полученная индикатриса излучения источника со спиралевидным телом накала.Устройство для локального облучения содержит протяженный источник 1 излучения с центром в точке О, и концентрирующий отражатель 2. Профиль отражателя построен с учетом угловой неравномерности яркости источника излучения таким образом, чтобы от каждой...

Номер патента: 1081606

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Духопел, Мышкина, Орлова, Симоненко

МПК: G02B 5/32

Метки: голографических, линз, формирования, цилиндрических

...содержащемгде К- 51 п Ъ, - радиус кривизны цилиндрической поверхности пробного стекла;- угол между направлением образующей и сигнальным пучком.источник когерентного излучения, коллиматор, систему для образования интерференционной картины, в которой расположена цилиндрическая поверхность, проекционную систему и регистрирующую среду, система для образования интерференционной картины выполнена в виде двух дифракционных решеток, расположенных перпендикулярно к оптической оси коллиматора и цилиндрической поверхности, установленной между ними и параллельно оптической оси.На чертеже представлено предлагаемое устройство,Устройство содержит источник 1 света (одномодовый газовый л азер), коллиматор 2, прозрачные дифракционные решетки 3 и 4 с...

Номер патента: 1081607

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Керская, Русинов

МПК: G02B 9/64

Метки: объектив, ортоскопический, широкоугольный

...отрицательной линз, две положительные линзы с диафрагмой между ними, двухлинзовый блок, склеенный из отрицательной и положительной линз, и плоскопараллельную пластину, установленнуюперед фокальной плоскостью, положительные линзы выполнены склеенными из поло 45жительной и отрицательной линз, причемповерхности склеек обращены выпуклостьюк диафрагме, их радиусы составляют неменее 0,9 фокусного расстояния объектива, разность показателей преломления положительной и отрицательной линз не превышает 0,1, а оптические силы склеенныхположительных линз связаны соотношением( фъ с 1 18фгде ф 1 - оптическая сила склеейной поло 55жительной линзы, расположеннойдо диафрагмы; 2ф - оптическая сила склеенной погложительной линзы, расположенной после...

Номер патента: 1081608

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Исаева, Лимина, Стефанский, Шпякин

МПК: G02B 15/00

Метки: объектив, панкратический, репродукционный

...при изменении масштаба расстояние между плоскостями предмета иизображения остается неизменным,что способствует определенному упрощению конструкции копировальногоаппарата Г 21,2Однако конструкция этого объек"тива не позволяет достигнуть высокого качества изображения, необходимого объективам для микрофильмирующихустановок. Величина аберрационногокружка рассеяния в, центре поля зрения достигает 0,025 мм, следовательно разрешающая способность объекти" .ва не превышает 40 лин/мм, Крометого, объектив при изменении масштаба изображения перемещается вдольоптической оси на значительное расстояние (350 мм), что усложняетконструкцию копировального аппарата.Целью изобретения является улуч-,шение качества изображения и обеспечение неподвижности...

Номер патента: 1081609

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Инюшин, Мамаева, Поротикова, Чемена

МПК: G02B 15/16

Метки: объектив, переменным, расстоянием, фокусным

...(1:5-1:17) и полю зрения 2 у = 43 мм), является объектив с переменным фокусным расстоянием, состоящий из пяти компонентов, первый из которых положительный неподвижный, второй отрицательный и третий установлены с возможностью перемещения вдоль оптической оси, а четвертый и пятый компоненты - оборачивающая система, при 30 этом первый компонент состоит из одиночных положительной линзы, двух отрицательных и положительного менис.,ов, два последних из которых обращены вогнутостью к изображениюф 35 а второй компонент состоит из четырех последовательно чередующихся положительной и отрицательной линз, первая из которых - мениск, обращенный вогнутостью к изображению, вторая линза двухсклеенная двояковогнутая, третья и четвертая - мениски...

Номер патента: 1081610

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Андреев, Руничева

МПК: G02B 21/02

Метки: микроскопа, объектив

...полевых и хроматических аберраций. Он имеет сравнительномалое поле.Известен объектив 30 0,65, состоящий из одиночного положительногомениска и двух двойных склеенных20линз - ОХП и ОХП 1. 2 3Объектив имеет неудовлетворительную коррекцию полевых аберраций исравнительно малое поле,Известен объектив микроскопа, содержащий фронтальную линзу, склеенную из плосковыпуклой линзы и отрицательного мениска, афокальный ахроматический компенсатор, склеенныйиз плосковогнутой и выпукло-плоскойлинз, и двухсклеенную положительнуюлинзу 33.Этот объектив имеет сравнительномалую числовую апертуру (0,5) и невполне удовлетворительную коррекциюаберраций, особенно аберраций широко-З 5го наклонного пучка.Целью изобретения является увеличение числовой...

Номер патента: 1081611

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Седов, Урывский

МПК: G02B 23/00

Метки: координатно-чувствительное

...т.е. отношение сигнал/шум фотоприемников 11 2зависит,от положения луча по другой оси. Устройство требует особо точного изготовления вершины пирамиды, а также точной установки ее в центре фокальной плоскости, что сказывается на погрешности измере-ния и обуславливает сложность при его эксплуатации.Целью изобретения является повышение точности и упрощение конструкции устройства.Эта цель достигается тем, что в координатно-чувствительном устройстве, содержащем светоделитель и фотоприемники, светоделитель выполнен в виде четырех светоделнтельных пластин с коэффициентами отражения светового потока соответственно 0,25;0,33; 0,5 и 1,0 последовательно установленных по ходу светового потока, а между этими пластинами и фотоприемниками по ходу...

Номер патента: 1083144

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Агафонов, Васильева, Герчиков, Федин, Яковлев

МПК: G02B 1/11, G02B 5/28

Метки: интерференционное, покрытие, просветляющее

...выполнен из веществас низким показа- телем преломления, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью снижения коэффициента отражения в спектральной области (0,75-1,25)30,. и упроще ния конструкции, покрытие выполнено из четырех- слоев, оптические толщины которЪи, считая от воздуха, выбраны из соотношенияА = 0,455 в д = 3,76 "Ид= = 3,76п 01 = 0,253где п 11, п;0,1- показатели преломле1083144К 8 ЛФ 7 БФ 16 ТФЗ Сорт стекла Показательпреломления 1,578 1.671 1,518 1,717 Интегральныйкоэффициент остаточногоотражения, Х 0,30 0,32 0,35 0,35 р ег 0 07 Из этих графиков фиг. 3 следует, что спектральная характеристика покрытия при варьировании показателей преломления слоев в заданных пределах изменяется незначительноГ Как видно иэ приведенных...

Номер патента: 1083145

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Свердлов, Фурашов

МПК: G02B 5/28

Метки: варианты, его, полосовой, субмиллиметровый, фильтр

...от решетки 2. Суммарный поток излучения В в общем случае эллиптически поляризован, благодаря разности фаэ о" между колебаниями электрических векторов потоков излучения В 1 и Вгр ФЛ 1 соз аЪгде- расстояние между решетками2 и 3о - угол падения потока излучения В на решетки;Л - длина волны.Длина полуосей 1. и . эллипса поляризации потока йзлучейия В опре" деляются соотношениями=Ь, сов нУг;= Ь з 1 а("/г .Проекции полуосей . и о эллипса поляризации потока излучения В наплоскость решетки 6 соответственно перпендикулярны и параллельны ее штрихам. Решетка б пропускает часть потока излучения В, проекция электрического вектора которого на плоскость решетки 6 перпендикулярна ее штрихам, и отражает часть потока излучения В, проекция...

Номер патента: 1083146

Опубликовано: 30.03.1984

Автор: Йоахим

МПК: G02B 5/30

Метки: деполяризатор

...недостаток этого устройства состоит в том, что оно может работать только с монохроматическим светом.В другом известном устройстве используют комбинацию призм из право- вращающего и левовращающего кварца, которую вводят в ход лучей оптического устройства так, чтобы оптическая ось устройства совпадала с опти. работы только с монохроматическимсветом, это устройство пригодно лишьдля относительно узких пучков параллельных лучей света (Калитеев-:ский Н.И. Волновая оптика. И.,"Наука", 1971, с, 118). 1 ОЦель изобретения - обеспечениеврзможности деполяризации как монохроматического, так и полихроматнческого излучения при увеличении числовой апертуры деполяризуемых пучкови упрощении конструкции устройства,Поставленная цель достигаетсятем, что при...

Номер патента: 1083147

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Голованов, Самолин, Фадеев

МПК: G02B 7/00

Метки: оптических, элементов, юстировки

...содержит основание с прикрепленной через беэлюфтовые упорные центры 2 подвижной рамкой 3, на, которой установлен регулировочный микрометрический винт 4 с цангой 5 и шарнирно установлен безлюфтовый рычажный механизм б с упорным роликом 7, замкнутый через пружину 8 с подвижной рамкой, при этом к подвижной рамке на шарнире 9 подвешен подвижной фланец 10 с закрепленным на нем юстируемым элементом 11, а сама подвижная рамка снабжена регулировочмым винтом 12 грубой подачи и пружиной 13, замыкающей ее с основанием устройства, при этом регулировочный винт грубой подачи снабжен контр- винтом 14 и сферическими шайбами 15, опирающимися на основание устройства.При выставке юстируемого элементав вертикальное положение устройствоработает...

Номер патента: 1083148

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Карамушко, Широких

МПК: G02B 7/00

Метки: юстировки

...скрепленными . на концах элементом фиксации, в кон сольных участках плит выполнены соосно по одному отверстию, на цилиндри ческих образующих которых выполнены пазы под углом 120 один к другому относительно вертикальной оси оснавания, при этом в каждом пазу размещено по шару, а юстировочный элемент состоит из двух кронштейнов, установ" ленных на консольном участке июаей плиты основания и выполненных с соосО ными пазами, юстировочного шара, установленного в пазы между двумя кронштейнами и контактирующего с наружной поверхностью переходника, и ограничителя, установленного на высоте, пре- д вышающей радиус переходника, соединенного с основанием и контактирующего с наружной поверхностью переходника, при этом посадочное место под...

Номер патента: 1083149

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Ган, Комар, Негинская, Ольхина, Фирсова

МПК: G02B 13/08

Метки: моноанаморфотная

...коэффициентом анаморфирования.Известна моноанаморфотная системасодержащая сферический объектив,по обеим сторонам которого расположеныцилиндрические компоненты, и диафрагму, при этом цилиндрический компонент, расположенный перед объективом, включает одиночную положительную и отрицательную линзы, а цилиндрический компонент, расположенный после объектива, - две положительные линзы, вторая из которых одиночная. Данная система имеет коэффициент анаморфирования 2, а относительное отверстие в главных сечениях1:1,74 и 1:2,38 Г 21.К недостаткам известной системыотносится невозможность увеличениякоэффициента анаморфирования, так какэто приводит либо к большим габаритам, либо к недопустимому уменьшению40заднего отрезка. Кроме того, эта...

Номер патента: 307697

Опубликовано: 30.03.1984

Авторы: Корнилов, Моргунов

МПК: G02B 21/36

Метки: двухпольная, совмещения, экспонирования

...потоки для освещения участков полупроводниковой подложки поступают в эпископы с осветительных блоков 7. Луч света 8 проходит через тепловой фильтр 9, конденсатор 10, светофильтр 11 и, отразившись от зеркала 12, попадает в спаренные конденсаторы 13 эпископа, Для увеличения светового потока используются отражатели 14.Эпископы направляют световые лу 55 чи на фотошаблон и полупроводниковую подложку. Затем световые потоки, несущие информацию, поступают во входные зрачки спаренных объективов 6. В предлагаемой установке используются проекционные объективы с большим полем зрения, большим увеличением и со значительной глубиной резкости,Так, например, в макете используется объектив с полем зрения2,4 мм 1,75 мм, увеличением 200, .глубиной...

Номер патента: 1084711

Опубликовано: 07.04.1984

Авторы: Валиев, Великов, Душенков, Леонтьева, Митрофанов, Прохоров, Сидорук

МПК: G02B 5/20

Метки: тонкопленочных, фильтров

...деструкции молекул полиме" ра при поглощении квантов электромагнитного излучения. Время облучения ф определяют но экспериментальной кривой фототравления в зависимости от заданной остаточной толщины 1 пленки-подложки 2. При этом указанная толщина может равняться нулю, что соответствует полному стравливанию подложки, но может иметь и небольшое коневое значение. В поспеднем случае ультратонкое полимерное покрытие 2 предохраняет пленку фильтра 131084 от коррозии, различных. загрязнений и ТеДеВид экспериментальных кривых фототравления 5 и 6 соответственно для полиметилметакрилата и полипропи лена при начальной толщине цо подложек из .этих материалов равной 500 нм представлен на фиг,3. Если требуется оставить на пленке фильтра 1...