Бульбутенко

Номер патента: 1286344

Опубликовано: 30.01.1987

Авторы: Белов, Бульбутенко, Донюков, Зернов

МПК: B23K 3/00

Метки: пайки, радиационная

...и крышки; вертикальная стенка из кварцевого стекла установлена с зазором крышки относительно днища и крышки.Радиационная установка работает следующим образом.Нагреваемая деталь 7 помещается в зону нагрева внутри камеры 1. Затем включаются нагреватели 6 и облучатели 3. После окончания процесса нагрева облучатели 3 и нагреватели 6 отключаются.Зазоры от 1 до 10 мм обеспечивают протекание ламинарного потока воздуха около ве)тикальных стенок камеры и не допускают тем самым попадание паров паяльных флюсов (при использовании установки для флюсовой пайки) и других за. грязнений на прозрачные стенки из кварцевого стекла. Если зазор меньше 1 мм, то не обеспечивается защита вертикальных ст:- нок от попадания на них паров и загрязнений. При...

Номер патента: 1227908

Опубликовано: 30.04.1986

Авторы: Белов, Бульбутенко, Коробко, Кущ, Пятигорский

МПК: F21V 7/04

Метки: облучательная

...включает в себя протяженный источник 1 длиной 21, расположенный вдоль оптической оси концентрирующего отражателя 2 круглосимметричной или цилиндрической формы. На расстоянии г 1 от центра источника излучения 1 вдоль оптической оси прибора расположена зона облучения 3. Для получения максимальной концентрации лучистой энергии в зоне облучения необходимо, чтобы каждый элемент поверхности отражателя создавал пучок излучения, центр которого совпадал бы с центром зоны облучения, что соответствует обеспечению прохождения биссектрисы отраженного пучка через центр зоны облучения. Для определения уравнения, описывающего указанный профиль отражателя, можно воспользоваться известным дифференциальным уравнением профильной кривой осесимметричного...

Номер патента: 1081605

Опубликовано: 23.03.1984

Авторы: Белов, Бульбутенко

МПК: G02B 5/10

Метки: локального, облучения

...х,у координаты точки профиля;1. - дли на протяженного источникаизлучения;Н расстояние от центра источникаизлучения до центра зоны облучения;- угол излучения источника, прикотором его яркость максимальна,и для второго участка По своей форме отражатель может быть осесимметричным или цилиндрическим.На фиг. 1 изображен профиль отражателя предлагаемого устройства с членением по шести участкам; на фиг. 2 - экспериментально полученная индикатриса излучения источника со спиралевидным телом накала.Устройство для локального облучения содержит протяженный источник 1 излучения с центром в точке О, и концентрирующий отражатель 2. Профиль отражателя построен с учетом угловой неравномерности яркости источника излучения таким образом, чтобы от каждой...