Способ получения оловосодержащих сополимеров

Номер патента: 948879

Опубликовано: 07.08.1982

Авторы: Атабаев, Белов, Кузьмина, Лифсон, Овчинников, Семина, Султанова, Яковлев

МПК: C01B 25/20

Метки: кислоты, процессом, термической, фосфорной, фосфорсодержащих, шламов

...2. Подачашлама осуществляется его передавливанием водой. Расход воды изменяется и поддерживается регулятором 3. Одновременнов форсунку подается сжатый воздух.Воздух, необходимый на горение шлама, подается в циклон от воздуходувки8879 6 5 94но расположенных в верхней зоне циклона.Расход его регулируется регулятоом 4.В трубопроводе подачи шлама в циклонустановлены кольцевой кондуктометричеокий датчик 5 и измеритель 6 плотности,Сигнал, поступающий с датчиков 5 и 6,преобразуется в электрические сигналы,например напряжение, соответствующеетекущему значению концентрации и плотности шлама. оВ вычислительном устройстве 9 выбирается сигнал, соответствующий величине расхода шлама, чтобы общая нагрузка по фосфору была постоянной,Допустим, что...

Номер патента: 1499419

Опубликовано: 07.08.1989

Авторы: Евстигнеев, Елесин, Опенов

МПК: H01L 39/00

Метки: перехода, пленок, плоских, сверхпроводящего, температуры, тонких

...тока.Сигнал с термометра 10 регистрируется графопостроителем 7 по координате Х. В результате перечисленных операций на графопостроителе 7 получаютзависимость ЭДС индукции в катушке 4индуктивности от температуры.Малость диаметра и длины катушкииндукзивности, являющейся источникоммагнитного поля, и малость расстоянияот нее до пленки приводит к тому, чтомагнитное поле, в котором находитсяисследуемая пленка, является неоднородным.Характерный масштаб неоднородности магнитного поля .в областирасположения, пленки равен расстояниюот катушки индуктивности, являющейсяисточником магнитного поля, до плен.ки. Экранирование неоднородного магнитного поля сверхпроводящвй пленкойпри Ь(Т)йюопределяется параметром1 с 1/Лф(Т), где 1 - характерный...

Номер патента: 1578124

Опубликовано: 15.07.1990

Авторы: Берман, Данилов, Задорский, Мартынов, Милицин, Стрельцова, Шкуро

МПК: C07C 67/08, C07C 69/773

Метки: ароматических, карбоновых, кислот, одноядерных, сложных, эфиров

...кислоты - 141,12 г (1,44 моль).Смесь. кипятят в течение 2 ч,отгоняя спирт и воду, десорбированную им, и одновременно непрерывно подавая свежие порции спирта. После отгонки избытка метанола, промывки про дукта водой и его вакуумной разгонки получают 144 г (выход 96,00% от теоретического) метилового эфира о-толуиловой кислоты с т,кип. 97 99 С/15 мм рт.ст.15П р и м е р 12. 136 г (1 моль) о-толуиловой кислоты, 800 г (25 моль) метилового спирта и 88,2 г (0,9 моль) концентрированной сернойокислоты нагревают до 53 С и выдерживают при этой температуре и перемешивании в теч.ение 2 ч, затем разгружают еще 480 г (15 моль) метанола и 52,92 г (0,54 моль) серной кислоты . Общее содержание метанола на 25 второй стадии процесса этерификации 1 280 г (40...

Номер патента: 1583408

Опубликовано: 07.08.1990

Авторы: Алексеев, Дзумедзей, Каковкина, Кустов, Шологон

МПК: C07C 67/10

Метки: аллиловых, карбоновых, кислот, эфиров

...перемешивают до полного растворения, добавляют 1,5 г (0,015 моль) СцС 1. и пропускают над реакционной массой пары деканола. Прикапывгют 77 г (1 моль) хлористого аллила в течение 1,5 ч при температуре среды 45 С, охлаждают,1добавляют 4 г сульфида натрия для связывания ионов меди, отфильтровывают осадок СЕЕТЕ, Фильтргт подкисляют оляной кислотой до рН 2, вь;павший осадок дигллилизоциануратг (БАИЦ) отфильтровывают и промывают водой. После сушки на воздухе получают 75,2 г ДАИЦ. Выход 71,4% в пересчете на циа,онуровую кислоту, Т,пл, 141 С.П р и м е р 11 (к о и т р о л ьн ы Й), Опыт проводят в условиях при мера. 10, но без паров деканола, К раствору соли циануровой кислоты, полученной при растворении 65 г (0,5 моль) циануровой кислоты в...

Номер патента: 1718302

Опубликовано: 07.03.1992

Авторы: Корешков, Красницкий, Петрашкевич, Сарычев, Турцевич, Химко

МПК: H01L 21/318

Метки: кремния, нитрида, пленки, формирования

...в аммиаке не позволяет существенно уменьшить уровень механических напряжений в пленках и улучшить их зарядовые характеристики, что обуславливает снижение качества нитрида кремния. При толщине подслоя более 200 нм не удается провести выравнивание свойств пленки по всей толщине, т.е. примыкающий к подложке слой обогащен 31, следовательно, ухудшаются диэлектрические свойства: снижается электрическая прочность (уменьшаются пробивные напряжения), ухудшаются зарядовые характеристики при повышенных механических напряжениях, В конечном итоге указанные пленки характеризуются низким качеством.При осаждении подслоя из смеси 9 Н 4 - МНз - Иг при соотношении меньше, чем 1: 4; 15, наблюдается осаждение пленок с повышенным содержанием оборванных...