Способ получения вольфрамовых покрытий на металлических поверхностях

Номер патента: 291995

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Емель, Королев, Мосалков, Соловьев, Стол

МПК: C23C 10/06

Метки: вольфрамовых, покрытий

...попе- ременным чередованием осаждения и пассивации подложки, Пассивацию подложки можно осуществлять путем выдержки в среде одного из компонентов газовой смеси при температуре осаждения или путем выдержки в среде инертного газа при этой же температуре.Предложенный способ заключается в следующем. После осаждения вольфрама на толщину 80 - 120 лк подложку выдерживают в среде инертного газа или одного из компонентов газовой смеси, например водорода, в течение 5 - 10 мин. После этого опять наносят слой вольфрама.Вольфрамовые покрытия, полученные по предложенному способу, имеют микроструктуру, обуславли нающую повышение предела прочности на растяжение.Например, осадки, полученные из с ксафторида вольфрама с б мол. % а при температуре 550-С,...

Номер патента: 570658

Опубликовано: 30.08.1977

Авторы: Королев, Соловьев

МПК: C23C 11/02

Метки: вольфрамовых, покрытий

...температуре подложки, р авной 700 - 1000 С, и содержании 30 - 60 мол. % гексафторида вольфрама в тазовой смеси, пропускаемой вдоль подложки. По истечении 1 - 10 мин, не прекращая процесса, температуру поверхности подложки снижают до 400 - 600 С, а содержание гексафторида вольфрама в газовой смеси уменьшают до 5 - 25 мол. %, причем температуру снижают со скоростью 10 - 100 С/мин при уменьшении содержания тексафторида вольфрама 1 - 3 мол. % на каждые 20 С, после чего продолжают процесс до получения покрытия требуемой толщины,П р и м е р. Вольфрамовое покрытие наносят на молибденовую трубку диаметром 20 мм и длиной 700 мм, которая нагревается изнутри нихромовым нагревателем. Вдоль трубки, нагретой до 750 С, пропускают со скоростью 20 моль/ч...

Номер патента: 647359

Опубликовано: 15.02.1979

Авторы: Барабошкин, Виноградов-Жабров, Молчанов

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамовых, покрытий

...Приоритет Изобретение относится к областизлектролитического получения покрытий иэ расплавов солеи, в частности кполучению вольфрамовых покрытий.Известен способ получения вольфрамовых покрытий электролизом хлоридно-вольфраматных расплавов при катодных плотностях тока 0,05-0,3 А/сми температурах 900-1050 С 11 .Наиболее близким к описываемомуизобретению является способ получения вольфрамовых покрытий электролизом расплава, содержащего хлоридвольфрама и хлорид цезия, итодной плотности тока 0,02 и температуре 750-800 С 12),Однако известные способы не и ээволяют получать покрытия с текстурой110 и полученные покрытияимеют текстуру111,Предложенный способ отличаетсяот известного температурой процессаи определенным соотношением температуры и...

Номер патента: 663764

Опубликовано: 25.05.1979

Авторы: Барабошкин, Бычин, Заворохин, Косихин

МПК: C25D 3/66

Метки: вольфрамовых, покрытий, расплав, электроосаждения

...видно, что при использовании предлагаемого расплава осаждение можно осуществлять не толькопри более низкой температуре, но ипри более высоких плотностях тока,что позволяет вести процесс болееинтенсивно.5уменьшение содержания трехокисивольфрама в расплаве ниже 20 при-водит к понижению предельного токавыделения вольфрама, а при увеличенииее содержания более 33 на катоденачинается образованиЕ Вольфрамовыхбронз,При содержании окиси цинка в расплаве менее 14 Ъ на катоде также начинают соосаждаться совместно с воль фрамом вольфрамовые бронзы. Повышение содержания окиси цинка в расплаве приводит к повышению температурыплавления расплава, что технологически нецелесообразно. 20Параметр решетки осадков, полученных в расплаве при условиях,...

Номер патента: 1497274

Опубликовано: 30.07.1989

Автор: Касаткин

МПК: C23C 16/08

Метки: вольфрамовых, нанесения, покрытий

...стали с внутреннимдиаметром 90 мм, длиной 420 мм, фланцы 2-5, наружную электрическую печь 6мощностью 3,5 кВт, один из коллекторов 7 водяного охлаждения фланцев итехнологической оснастки, экраны .8,21; опору 9; покрываемые изделия10,11 (цилиндрические втулки с внутренним диаметром 37 мм и высотой28,3 мм, помещенные в гнездо обоймы12),фиксирующие кольца 13 изделий соснасткой и между собой, втулки 14,18, конусныйвкладыш 15, экран 16;корпус 17 коллектора с 6 отверстиямичерез 60 , гайку 19; полый стержень20, в нижней части которого выполнено ряд отверстий для подачи ПГС перпендикулярно поверхности осаждения,иатрубок 22 для подачи ПГС (соотноыение гексафторида вольфрама к водородув примере 1:9,6) патрубок 23 для подачи водорода (15-687....