Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик

Номер патента: 884498

Авторы: Герасименко, Кибалина, Придачин

Описание

1. Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик, включающий операцию импульсного облучения подложки с нанесенной на нее диэлектрической пленкой, отличающийся тем, что, с целью предотвращения повреждений структур, облучение проводят излучением, равномерно поглощающимся и в пленке, и в подложке.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят электронами с энергией 5 - 10000 кэВ.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят протонами с энергией 10 - 2500 кэВ.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что облучение проводят ионами с энергией 15 - 1000 кэВ.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят фотонами с энергией E в диапазоне Eg < E < 104Eg, где Eg - ширина запрещенной зоны диэлектрика.

Заявка

3215251/25, 12.12.1980

Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирский государственный университет

Герасименко Н. Н, Кибалина Н. П, Придачин Н. Б

МПК / Метки

МПК: H01L 21/423

Метки: отжига, полупроводник-диэлектрик, структур

Опубликовано: 10.11.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-884498-sposob-otzhiga-struktur-poluprovodnik-diehlektrik.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик</a>

Похожие патенты