Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 884498
Авторы: Герасименко, Кибалина, Придачин
Описание
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят электронами с энергией 5 - 10000 кэВ.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят протонами с энергией 10 - 2500 кэВ.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что облучение проводят ионами с энергией 15 - 1000 кэВ.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят фотонами с энергией E в диапазоне Eg < E < 104Eg, где Eg - ширина запрещенной зоны диэлектрика.
Заявка
3215251/25, 12.12.1980
Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирский государственный университет
Герасименко Н. Н, Кибалина Н. П, Придачин Н. Б
МПК / Метки
МПК: H01L 21/423
Метки: отжига, полупроводник-диэлектрик, структур
Опубликовано: 10.11.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-884498-sposob-otzhiga-struktur-poluprovodnik-diehlektrik.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик</a>
Предыдущий патент: Способ создания силицидов металлов
Следующий патент: Материал для светозвукопроводов акустооптических дефлекторов
Случайный патент: Свободно-поршневой нагнетатель