H05H 1/10 — с использованием только внешнего магнитного поля

Номер патента: 155571

Опубликовано: 01.01.1963

МПК: H05H 1/10

Метки: 155571

...выгнутыми внутрь образующими с концами 2 в виде раструбов. Труба закрыта с обоих концов крышками 3, выполненными также в виде раструбов. Иа трубе и крышках расположены токонесущие обмотки 4 и б, создающие внутри ловушки встречно направленные магнитные поля с силовыми линиями б и 7. Магнитные силовые линии, внутри ловушки всюду имеют положительную кривизну, что обеспечивает отсутствие дрейфовых неустойчивостей. Предложенная ловушка обеспечивает возможность значительного увеличения отношения объема ловушки к поперечным сечениям крышек, так как длина трубы 1 может быть во много раз сольше ее диаметра, что позволяет увеличить время существования заряженных частиц в ловушке, При определенных размерах ловушки, ьеличине напряженности...

Номер патента: 356979

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Йсьос, Пькйтш, Самойленко

МПК: H05H 1/10

Метки: плазмы, удержания

...отклонении плазменногошнур а от оси разрядной каме 1 ры изменяется магнитный поток сквозь токопроводящий контур, индуктивно связанный с плазменным шнуром. Через токопроводящий контур и активный двухполюсник протекает наведенный ток, усиленный двухкаскадным усилителем постоянного тока и упрежденный по фазе за счет действия корректирующей индуктивности, корректирующего сопротивления и цепочки 20 обратной связи с индуктивностью и сопротивленнем, Наведенный ток создает вторичное магнитное поле, взаимодействие которого с током плазмы создает восстанавливающую силу и опережающий импульс, что демпфнрует возмущение (в данном случае относительно вертикальной плоскости) . На вертикальные отклонения плазменного шнура реагирует аналогичная...

Номер патента: 631037

Опубликовано: 30.03.1981

Авторы: Егоров, Новиков, Путько

МПК: H05H 1/10

Метки: профилем, струи, энтальпииплазменной

...Радиальный размер областинахождения разряда может быть характеризован эквивалентным радиусомразряда (т.е. радиусом цилиндра), в 20 объеме которого процессирует дугапод действием вращающегося магнитного поля. При протекании газовогопотока через разрядную камеру, где .таким образом осуществлен разряд,на выходе получают плазменную струюс профилем энтальпии, зависящим отэквивалентного радиуса разряда.Принебольших скоростях, порядка3Ф 631037 Формула изобретения Составитель Ю. ЛевитанРедактор М. Кузнецова Техред Н.Келушак Корректор М. Коста Тираж 889 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Заказ 1586/47 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,4 заполняет...

Номер патента: 1053729

Опубликовано: 30.05.1984

Авторы: Бурдиашвили, Войтенко, Киров

МПК: H05H 1/10

Метки: магнитная

...устройстве силы, действующие на внутреннюю поверхность соленоида, частично компенсируются силами со стороны магнитного поля между25 соленоидом и электромагнитным экраном. При этом форма экрана выбирается так, чтобы скомпенсировать разрывающие усилия на обмотки соленоида 23.Однако эту систему нельзя использовать для создания тороидальных магнитных полей большой напряженности, необходимых для создания магнитных систем термоядерных установок.Цель изобретения - расширение области применения магнитной системы 35 за счет формирования тороидального магнитного поля.Цель достигается тем, что в магнитной системе, содержащей соленоид, закпк 1 ченный в электромагнитный экран, 40 соленоид выполнен в виде многозаходной ленточной спирали, намотанной...

Номер патента: 1672919

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Ляшенко, Скворцов, Церевитинов

МПК: H05H 1/10

Метки: металлических, плазмоимпульсной, цилиндрических

...проводящего кожуха б, расположенного на наружной поверхности изоляционного корпуса 1, и, например, коаксиальных кабелей 7.г о =10 7 г и2(2) Изоляционный корпус выполнен из фарфора, Электроды 2 запитываются от импульсного источника питания, например 10 конденсаторной батареи (на чертеже не указана), посредством указанных тоководов.Обработка металлических деталей импульсной плазмой производится следующим образом, 15Через одно из технологических отверстий 3 с помощью зажимных элементов обрабатываемая деталь 5 устанавливается во внутреннюю полость корпуса 1, Указанное отверстие 3 вакуум-плотно закрывается и 20 производится откачка воздуха из полости корпуса 1 через другое технологическое отверстие 3 до достижения как минимум форвакуума,...