Патенты с меткой «дифракционной»

Номер патента: 1515137

Опубликовано: 15.10.1989

Авторы: Брайнин, Евдокимов, Иоаннисиани, Киргетов, Кратыш, Фильченко

МПК: G03C 1/72

Метки: голографической, дифракционной, решетки

...интерферометрии в одномодовом режиме3=457,9 нм, Е=0,12 Дж/см )на ультравиброгасящей плите весом2,5 т.Проявление осуществляют на автоматической установке методом электромеханической пульверизации (факелраспыления диаметром 200 мм на расстоянии 400 мм от сопла при расходереагентов 0,75 мл/с) на образец,вращающийся эксцентрично в вертикальной плоскости со скоростью 20 аб/мин,Проявление осуществляют при комнатной температуре путем автоматической последовательной подачи четырехрастворов: водно-щелочного проявите. -ля; закрепителя, содержащего лимонную кислоту 1,5 г/л и ди-этилгексилфосфорную кислоту 0,5 г/л; промывного раствора, содержащего динатриевую соль этилендиамин-Б,11,11,Ы -тетрауксуснай кислоты 1,2 г/л гидроксидаммония 11 г/л,...

Номер патента: 1527612

Опубликовано: 07.12.1989

Автор: Ильин

МПК: G02B 27/44

Метки: величины, дифракционной, оптической, регистрации, решетки, смещения

...3 разлагает монохроматический свет на три плоскиеволны с нулевыми, +1-м и - 1-м порядками дифракции.Устройство работает следующим образом,Пучок монохроматического излучения от лазера 1 преобразуется в нерасходящийся большего диаметра посредством телескопической системы 2 иосвещает дифракционную решетку 3.Этот пучок лучей дифрагирует на решетке с образованием трех пучков-1-го, О-го и +1-го порядка дифракцин. Пучок - 1-го порядка направляет 55ся на первое зеркало 4, которое устанавливают под углом Ы, = 1/4 + Ч,/2исходя иэ значений углов дифракции ,выделяемых порядков. При этом угол дифракции определяется иэ соотношениявЦ агсз 1 п- - ,где ш - порядок дифракции;7 - длина волны;Й - постоянная решетки.Пучок +1-го порядка дифракциинаправляется...

Номер патента: 1205103

Опубликовано: 07.10.1990

Авторы: Горелик, Коваленко, Турухано

МПК: G02B 27/32

Метки: аттестации, дифракционной, линейности, решетки

...фазовой модуляции светового пучка по периодическому закону, Фотоприемники Ь и 7 расположены в плоскости, перпендикулярной направлению 5 одного из порядков дифракции выше нулевого (см. выражение 1), причем они установлены на прямой, перпендикулярной биссектрисе угла между штрихами решеток, т.е, параллельно 10 муаровым полюсам. Это позволяет осуществить измерения разности фаз независимо от изменения их периода.Таким образом, неточности изготов ления направляющих (м до 100 мкм/м), 15 в которых перемещается аттестуемая решетка 11, приводящие к изменению угла между решетками при их взаимном перемещении, а следовательно, к изменению периода муаровых полос, 20 не оказывают влияния на результат измерений. Вследствие такой установки...

Номер патента: 1613996

Опубликовано: 15.12.1990

Авторы: Васильев, Демирчян, Лощилов, Поляков, Танетова, Татаренков

МПК: G03H 1/00

Метки: голограмм, дифракционной, тонких, эффективности

...интенсивности соответствуют попаданию на апертуру фотоприемника излучения первого и более высоких порядков дифракции. Высота скачка равна удвоенной интенсивности излучения соответствующегопорядка дифракции, Дифракционная эффективность для первого и эффективность для более высоких порядков дифракции определяют по формуле, 1 им 1 о+ 1 к 1-к фгде о1 - интенсивность нулевого25порядка дифракции; п=1,2, в , порядок дифракции;1 п - интенсивность падающего наголограмму лазерного излучения;1 зч - измеренная интенсивность30 иъм ,1 -прошедшего через голограмму излучения, соответствующая и му н му ПОрядку дифр акции;- интенсивность излученияв 1-м порядке и -К-м порядке дифракции,Применение изобретения позволяет существенно упростить процесс...

Номер патента: 1629930

Опубликовано: 23.02.1991

Авторы: Вишневская, Лысенко, Первеев

МПК: H01L 21/467

Метки: дифракционной, решетки

...ввода-вывода излучения идифракционных решеток.Целью изобретения является повышение качества решетки путем увеличения отношения глубины штриха к перду этой решетки,Для изготовления дифракционнойрешетки на поверхности образца из арсенида галлия методом фотолитографиипредварительно Формируют защитнуюмаску из двуокиси алюминия, послеэтого образец подвергают ионнохимическому травлению в газовой смеси,изготовления ицтегрально-оптич эл емецтов ввода-вывода и злуч ец дифракционцых решеток. Цель из ция - повышение качества решет состоящей из 95+0,5 об,Е ксеноца и5+0,5 об,Е паров воды при энергииионов 1-1,5 кэВ и плотности ионноготока 1-2 мА/см . Использование водородсодержащей газовой смеси приводитк образованию легколетучих гидридовмышьяка,...

Номер патента: 1644066

Опубликовано: 23.04.1991

Авторы: Гази, Парышев, Шаленная, Шибаев

МПК: G02B 7/02

Метки: дифракционной, решетки, юстировки

...основание 2 имеет цилиндрическую выступающую часть 4 сфасками Д, На подвижном основании 2 выполнены два диаметрально расположенных 25выступа 5, в которые установлены регулировочные винты 6, входящие своими резьбовыми рабочими частями в соответствующиерезьбовые отверстия, выполненные в неподвижном основании 1. 30Конструктивное исполнение регулировочных винтов 6, их соединение с подвижным основанием 2 и контакт с неподвижнымоснованием 1 могут быть различными.Устройство работает следующим обраэом,Устройство устанавливается в подвижном основании 2, Для выставления штриховдифракционной решетки 3 в заданное положение необходимо предварительно выставить штрихи дифракционной решетки Эвручную с максимально возможной точностью, это...

Номер патента: 1805445

Опубликовано: 30.03.1993

Авторы: Кочмала, Кувшинский, Павлов, Сенченко

МПК: G03H 1/18

Метки: голограмм, дифракционной, эффективности

...бутилглицидилового эфира (ЭПК+ 5 мас.БГЭ), сенсибилизированного 3 мас, тринитрофлуорендианометилена (ТНФДЦМ), нанесенная на стеклянную подложку 3, размером 40 х 40 х 4 мм с токопроводящим покрытием из двуокиси олова Яп 02, сопротивление которого В = 25 Ом.Управление регистрацией информации осуществляют с помощью последовательно соединенных блоков 6 зарядки пленки в коронном разряде, блока 7 экспонирования, блока 8 проявления, блока 9 считывания, приемное устройство которого расположено в непорядке дифракционной картины восстанбвленного изображения, блока 10 стирания. Выходы блока проявления 8 и блока 10 стирания имеют связь со входом на включение нагрева ключевого коммутатора 11.Фотоприемное устройство 12 располагают в О-м порядке...

Номер патента: 1807445

Опубликовано: 07.04.1993

Авторы: Стринадко, Тимочко

МПК: G03H 1/22

Метки: восстановления, дифракционной, картине, объекта

...вторичной дифракционной картины от структуры первичной дифракционной картины 7, который оптическисвязан с блоками 8 анализа и восстановле- .ния объекта по а,с, М 466798 и блоком анализа и определения ориентации объекта 10,Блок 8 информационно связан с блокоммоделирования рассеивающего объекта 9,который оптически связан через блоки 4,5,7 с блоком 10,Способ осуществляется следующим образом.Удаленный объект 2 подсвечивают лазерным излучением от источника 1, Поле, отраженное обьектом, прошедшее телескопическую систему Т, расчепляется полупрозрачным зеркалом 3 на две части, Одна часть попадает на фотопластинку 5.1, а вторая попадает на фотопластинку 5,2 после отражения от кривого зеркала 4, Фотопластинки 5,1 и 5.2 расположены в плоскости...

Номер патента: 1297624

Опубликовано: 28.02.1994

Авторы: Барачевский, Бурменко, Гвоздовский, Гудзере, Задонцев, Камардин, Карнаух, Кислица, Козенков, Маслакова, Нерозник, Осташкова, Передереева, Санчугова, Стрежнев

МПК: G03F 7/004

Метки: дифракционной, копии, решетки

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОПИИ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ, включающий последовательное нанесение на стеклянную матрицу маннита, алюминия, моноокиси кремния и олигомерной композиции, содержащей олигомер, стирол и фотоинициатор, наложение на слой олигомерной композиции стеклянной подложки, обработанной метакрилоксиметилтриэтоксисиланом, отверждение композиции ультрафиолетовым светом и отделение подложки, отличающийся тем, что, с целью сокращения времени изготовления копии решетки и повышения ее климатической устойчивости, в качестве олигомера используют олигоуретанакрилат формулы(CH2= CH- -O-CH2-

Номер патента: 1099747

Опубликовано: 19.06.1995

Авторы: Гордеев, Турухано

МПК: G02B 5/18

Метки: дифракционной, записи, радиальной, решетки

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЗАПИСИ РАДИАЛЬНОЙ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ, содержащее осветительную систему, диск со светочувствительным слоем, установленный с возможностью поворота вокруг своей оси, и неподвижную диафрагму, установленную с зазором параллельно поверхности этого диска, отличающееся тем, что, с целью повышения точности и быстродействия, осветительная система выполнена в виде двух точечных когерентных источников света, расположенных между осью вращения диска и диафрагмой симметрично относительно плоскости, проходящей через эту ось и центр диафрагмы, а отверстие в диафрагме выполнено в виде кольцевого сектора.

Номер патента: 1641105

Опубликовано: 20.08.1995

Авторы: Гордеев, Турухано, Христачев

МПК: G02B 5/18

Метки: дифракционной, записи, радиальной, решетки

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЗАПИСИ РАДИАЛЬНОЙ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ, включающее диск со светочувствительным слоем, установленный на валу, выполненном с возможностью вращения, оптическую систему формирования в светочувствительном слое диска массива радиальных интерференционных полос, включающую двухлучевой интерферометр, отличающееся тем, что, с целью повышения качества и быстродействия записи, в него введены модулятор светового потока на базе оптически сопряженных радиальных дифракционных решеток измерительной, установленной на валу, и неподвижной индикаторной, фотоприемник, блок формирования пилообразных электрических импульсов, модулятор разности оптических длин плеч двухлучевого интерферометра, а также плоскопараллельная стеклянная пластина,...

Номер патента: 1835966

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Дикаев, Миргородская

МПК: H01L 21/312

Метки: дифракционной, монокристалла, поверхности, решетки

Способ изготовления дифракционной решетки на поверхности монокристалла, включающий формирование на поверхности монокристалла фоторезистивной решетчатой маски с равной шириной полосы и промежутка голографическим методом, анизотропное вытравливание через маску канавок трапециевидного или треугольного профиля и удаление маски, отличающийся тем, что, с целью получения дифракционной решетки с удвоенной пространственной частотой, перед удалением фотомаски на структуру напыляют металлическую маскирующую пленку толщиной не более полуширины полосы фоторезистивной решетчатой маски, после удаления маски проводят повторное анизотропное вытравливание канавок аналогичного профиля в открытых от...

Номер патента: 1588084

Опубликовано: 20.08.1999

Авторы: Брайнин, Савушкин, Соколова, Старцев, Тверитинов, Фильченко

МПК: G01J 3/18

Метки: голографической, дифракционной, решетки

Устройство для получения голографической дифракционной решетки, содержащее оптически связанные источник когерентного излучения, светоделитель, первый оптический канал, включающий первое поворотное зеркало, первый микрообъектив и первую точечную диафрагму, второй оптический канал, включающий второе поворотное зеркало, второй микрообъектив и вторую точечную диафрагму, заготовку вогнутой дифракционной решетки, рабочая поверхность которой покрыта светочувствительным слоем, установленную так, что нормаль к рабочей поверхности заготовки вогнутой дифракционной решетки размещена под углом к оптической оси первого оптического канала...