G03F 7/004 — светочувствительные материалы

Номер патента: 237589

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Глембоцкий, Глушко, Исследовательного, Киевский, Новак, Сопова, Тремут, Шаповал

МПК: G03F 7/00, G03F 7/004

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

...мономером; в качестве инициатора фотополимеризации применяют динитрил азодиизомасляной кислоты; в качестве стабилизатора применяют хинон, Содержание 25%-ного раствора полиамидного лака в этиловом спирте составляет 1000 вес. ч.; содержание динитрила азодиизомасляной кислоты - 2 - 3 вес. ч., содержание хинона - 1 - 1,5 вес. ч. Приготовляют фотополипозицию, содержащую, г:раствор полиамидного60/40 в этиловом спиртемономерыазодиизомасляной кислоть После нанесения прцготовцци на печатный цилиндр скрытием методом пульверцзанця полученного слоя при т35 С на него можно копироварафиолетового света штриховвые фотоформы для последуния фотополимерных формпечати.О 1. Фотополцмеризующаяся композиция дляизготовления фотополимерных печатных форм,...

Номер патента: 242788

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Иностранец, Иностранна, Соединенные

МПК: B41M 5/26, B41M 5/30, G03F 7/00 ...

Метки: репродукций, сносов, фототермографических

...при температуре 120 С. Получают контрастную копию оригинала.Обработанную пропилгаллатом бумагу получают погружением листа гладкой документной бумаги в раствор 2 вес, ч. пропилгаллата в 00 вес. ч. ацетона.Пример 3. 8 вес. ч. сополиэфира, приготовленного из 50 мол. о/о 1,5-пентандиола, 18,75 мол. /о диэтил-и-фенилендиакрилата и 31,25 мол. /, диэтилового эфира азелаиновой кислоты, растворяют в 73,6 вес. ч. теплого этилацетата. Раствор фильтруют, затем к нему добавляют 0,04 вес. ч. фталоцианинового пигмента, смесь размалывают на шаровой мельнице. Раствор 0,02 вес. ч. перхлората 4-(а-н-аминооксифенил) - 2,6 - бис - г -этоксифенил)-тпапирилия прибавляют к полученной дисперсии и смесь наносят для получения сухого слоя в количестве 0,1...

Номер патента: 261906

Опубликовано: 01.01.1970

МПК: G03F 7/004, G03F 7/10

Метки: фотополимеризующихсякомпозиции

...гую смолу о т взятого моно ОН 1.И; КО зоинфор- оличестве Г 1 о авт. св,197402 гизвестен способ получения фотополимеризующихся комлозиций для изготовления фотополимерных форм плоской печати, заключающийся в том, что в качестве иинициатора фотополимеризации используют бензоинформальдегидную смолу.Этот способ нс позволяет добиться положительных стабильных результатов прп получении копировальных слоев, толщина которых не превышает 5 лк. Так, офсетные пластиныпокрытыс таким слоем, малочувствп,- гельны, а из-за нестаб 1 ильностп результатов нельзя разработать промышлен 1 ную техноло- ГИ 1 О ИХ ПОЛУЧЕНИЯ.ПО предлагаемому способу получения фотополимерггзующих 1 ся композицгий бензоггнформальдепидную .смолу берут в количестве 40 - б 0% от...

Номер патента: 272814

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Коваленко, Кравчук, Лазаренко, Николайчук

МПК: G03F 7/004, G03F 7/10

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...состава (в мл): ози 1 Е- бил улучрныхя.дораотопол В СЛР,ери 1 ИД под по РИ/ -ме- эти- фо- ензо- ста- "1 СО- криОЛИПИс/о-ном Известна фотополимеризующаяся компция, состоящая из водорастворимого полра, сшивающих агентов, инициаторов н стизатора.Предложенная композиция позволяетшить качество получаемых фотополимеформ и удешевить процесс их изготовлвниЭто достигается тем, что в качестве востворимого полимера применяют полипипзинэтилендигликольамид,Сущность способа приготовления фмеризу)ощейся композиции состоитющем.В качестве основного полимерного матала,применяют водорастворимый полнаСшивающими агентами, образующимидействием актиничного света совместно слиамидом трехмерную структуру, служат аловые соединения: акриловая кислота,...

Номер патента: 275739

Опубликовано: 01.01.1970

Автор: Адбретеии

МПК: G03F 7/00, G03F 7/004

Метки: изображений, композиция, рельефных, фотополимеризующаяся

...ясин. Затем через стеклянный негатив ртутно-кварцевой лампой производят экспонирование слоя в течение 5 псин прц освещен ности 20000 лк. Полученную копию проявляют в смеси органических растворцтелей, например, бутцлацетат, ацетон ц толуол в соотношении 1: 2: 7 об, ч. в течение 3 иин с последующей душевой промывкой водой для 30 удаления остатков растворенного слоя и275739 Полпхлорвпппловая смола, г Сенспбилизатор, гЦпклогексанон, лл 100,5 - 1100 Перхлорвиниловая смола, гСенсибилизатор, гХлорбензол, ялТолуол, ял 100,5 - 13070 Составитель Э. Рамзова Редактор О. Филиппова Корректор Т. А, Абрамова Эаказ 30 7/4 Тираж 480 ПодписноеЕ 1.ИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д, 4/5...

Номер патента: 283100

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Иностранец, Иностранна, Федеративна

МПК: G03F 7/00, G03F 7/004, G03G 13/22 ...

Метки: печатных, форм

...натрия свободные радикалы способствуют полимеризации И-диметилвинилкарбазола, благодаря чему слой фотопроводника приобретает способность не растворяться в растворе следующего состава:метасиликат натрия, г 5метанол, мл 40гликоль, мл 35глицерин, мл 20вода, мл 100В этот состав погружают пластину на 2 мик,после чего ее протирают губкой для полногоудаления с пробельных участков остатков незаполимеризовавшегося фотополупроводникового слоя.Полученную офсетную печатную форму можно использовать для печати качественныхизображений тиражом 30 50 тыс. экз.П р и м е р 2. На очищенную цинкову 1 опластину наносят фотополупроводниковыйслой следующего состава, г:2-винил(о-хлор фенил) -5- (одиэтиламинофенил) -оксазол 10,5неотвержденная фенольнаясмола...

Номер патента: 322754

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Бернацек, Дуд, Лазаренко, Стиранка

МПК: G03C 1/40, G03F 7/00, G03F 7/004, G03F 7/16 ...

Метки: жидких, композиций, печатных, форм, фотополимеризующихся

Номер патента: 351395

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Гюнтер, Иностранна, Иностранцы, Калле, Федеративна

МПК: G03F 7/004

Метки: печати, плоской, форлу

...слой следующего состава, г:Поливинилацетатцая смола 0,12,3,4-Тргг-гидроксибензофецогговыйэфир нафтохинеон-(1,2) -диазцд(2) -5-сульфоцовой кислоты 2 3 Неитралшгая фенольная смола новолачного типа 5Моггохгетиловый эфир этггленглцколя 92,1При этом температура размягчения полцвцнцлацетатцой смолы находится в интервале 140 - 160 С, вязкость ес 20 о-ного раствора при температуре 20 С составляет 110 - 150 сиз, а температура плавленця нейтральной фецольной смолы находится в интервале 108 - 118 С.П р имер 2. Алюхгиниевуго фольгу обрабатывают в электролцтической ванне до получения окисной пленки толщиной 0,0002 ль 1 г. После этого фольгу погружают на 30 сек в ванну, содержагцую 1,5 г полцвинцлфосфоцовоц кислоты, 0,2 г вцнцлфосфоцовой кислоты ц 98...

Номер патента: 406183

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G03F 7/004

Метки: бфонд, знсиертоеполиграфин

...лформастигается тем, что ержит 1 - 1,2 вес. ч Изобретение относится к одному из разделов полиграфии, а именно к,корректуре офсетных,печатных форм на предварительно очувствленных пластинах с применением све точувствительных хинондиазидов. При осуществлении, известного способа корректуры офсегных,печатных форм после проявления копию промывают водой, удаляют ,избыток воды, сушат, затем устраняют дефекты нанесением тонкого слоя щелочного состава, сгущенного натриевой солью карбоксиметилцеллюлозы с добавлением органического растворителя. По окончании корректуры сосгав удаляют водой.Вследствие травящего действия щелочи, содержащейся в составе, возможно повреждение печатающих элементов, Кроме того, этот состав для корректуры, имеет замедленное...

Номер патента: 362269

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Акоева, Гординскии

МПК: G03F 7/004, G03F 7/10

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...мономера или олигомера, например триэтиленгликольдиметакрилата, инициатора фотополимеризации, сополимера ненасыщенной кислоты и нейтрального мономера с этиленовыми связями и растворителя.Полученные из предложенной фотополимеризующейся композиции копии воспроизводят оригинал с большой графической точностью, не обладают липкостью. Разрешающая способность фотослоя составляет 500 лин/слг. Тиражеустойчивость сеточного трафарета зтримерно в 5 раз выше, чем у обычных трафаретных форм. Светочувствительный слой в высушенном состоянии может храниться передэкспонированием в течение длительного времени (более 1 года).Пр имер.А. Получение сополи мера мета криловой кислоты с бутилметакрилатом. Смесь 86,1 г метакриловой кислоты, 142,2 г...

Номер патента: 373973

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G03F 7/004, G03F 7/10

Метки: 373973

...10 5 гк диаметрог 1, получают распылением водных растворов водорастворимых веществ при одновременном выпаривании растворителя (распылптельное высушивднис) . Раствор, который нужно распылить, должен иметь вязкость б - 10 спуаз при 20 С. Полученные приблизительно шарообразные частицы дабавляют в таком количестве в раствор для нанесения, чтобы они на носителе копировального слоя соприкасались. Частицы со средним диаметром 10 гк гораздо больше, чем плотность собственного светочувствительного слоя, При использовании материала для приготовления форм для офсетной печати, который содержит в качестве светочувствительного соединения о-хинондиазид, частицы имеют плотность 2 - 5 лк. Вследствие чего их можно легко удалить растворением из...

Номер патента: 379110

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Акрилаты, Акрп, Амиды, Атом, Бутадиен, Винилгалогениды, Винилкетоны, Виниловые, Груп, Дивинилбензол, Долговечности, Известен, Изобутилен, Изопрен, Или, Которые, Малеино, Мета, Например, Органический, Повышени, Предлагаемые, Присоединенными, Производные, Смешанные, Содержащий, Способными, Сти, Стирол, Хлор, Этилен, Эфиры, Ютс

МПК: G03F 7/004, G03F 7/039

Метки: материала1, светочувствительного

...кислоты (0,1%) при сильном перемешивании. Полимерный материал фильтруют, промывают неоколько раз водой и сушат на воздухе при комнатной температуре.П р и м е р 8. Положительно заряженная литографская печатная пластина.Готовят следующий состав:Сополимерный и-аминостирол-стиролсульфамид нафтохинондиазид - 5- сульфохлорида г 1,25Циклогексанон, мл ,50 Ацетон, мл 50Состав наносят вихревым способом на анодированную алюминиевую подложку, обработанную карбоксиметилцеллюлозой со скоростью 78 об/мин в течение 15 мин, затем еще в течение 2 мин струей теплого воздуха и еще в течение 10 мин при 40 С. Пластину с нанесенным покрытием подвергают экспозиции на расстоянии 152,5 см от дуговой лампы (95 а) в течение 2 - 3 мин.После экопозиции пластину...

Номер патента: 427906

Опубликовано: 15.05.1974

Авторы: Винославский, Каменский, Макаров, Михайловский, Мозжухин, Никольский, Новожилов, Райнов

МПК: G03F 7/004

Метки: негативный, фоторезист

...олигомеров по ряду характеристик превосходит известные фоторезисты.Олигомеры получают из доступного сырья(фурфурол, ацетон и формальдегид) просты ми спосооами. Таблица Негативный фоторезист Свойства На основе На основе Синтез кетоноформальдегидных олигомеров осуществляют на установках для получения фенолформальдегидных смол путем кон девсации соотвепст 1 вующего кетона (1 моль)и формальдегида (1 - 3 моля) в среде изопропилового спирта в течение 4 - б час при температуре 60+5 С и рН среды 9,5 - 10,0. ФКф ПВЦ Разрешающая способность, лин/м я 200 в 3 400 Адгезия к нитр иду крем- ния Неудов- летвори- тельная:орошая 40 20 54 Стойкость в 0%-ном растворе щелочи, мин Неустончив 45 20 26 Максимальная концентрация фоторезиста,35 - 40 15 50...

Номер патента: 440951

Опубликовано: 15.09.1974

Авторы: Бабич, Бернацек, Коваленко, Лазаренко, Лыско, Мервинский, Смыслова, Тищенко

МПК: G03F 7/004

Метки: жидкая, композиция, фотополимеризующаяся

...и этилацетата) печатных форм флексографской 20 печати с высокими репродукционно-графическими свойствами и, в том числе, с более пологим профилем печатающих элементов.Это достигается введением в состав жидкой фотополимеризующейся композиции жид кого каучука, например полисульфидного, пиридииового, полиуретаиового.В качестве олигомеров используют, например, олигоэфиракрилаты, олигоэфирмалеинав качестве мономеров - эфиры метакрикислоты, в частности метилметакрплат,фотосенсибилизации композиций примебензоин и другие соединения. После удаления пузырей композицию заливают в полость формующе-копировального устройства из двух стекол (к внутренней стороне одного из них прикреплен негатив), резиновых ограничителей растекания композиции и...

Номер патента: 440952

Опубликовано: 25.09.1974

Авторы: Дудяк, Коваленко, Кравчук, Лазаренко, Розум

МПК: G03F 7/004

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...ГКЖ0,15 - 0,20.Фотополимеризующиеся пластины, изготовленные известными способами на основе этой композиции, характеризуются повышенной гладкостью и блеском, Фотополимерные печатные формы, изготовленные из таких пластин путем экспонирования;под негативом люминесцентными лампами УФ - свечения ЛУФв течение 10 - 15 мин и,растворения пробелов в холодной или теплой воде, характеризуются высокой гибкостью, высокой разрешающей способностью (свыше 150 лин/см), высокой выдел яюш,ей способностью (менее 60 мкм), требуемым профилем печатающих элементов. Определение угла смачивания,поверхности фотополимеризующихся пластин из водорастворимых сополиамидов и фотополимерных печатных форм из .них показало, что без введения в массу композиции...

Номер патента: 440953

Опубликовано: 25.09.1974

Авторы: Анисимова, Демков, Дудяк, Коваленко, Лазаренко

МПК: G03F 7/004

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся

...Они обладают повышеиной термостойкостью, После выдержки в термокамере при 120 - 140 С в течение часа не обнаружено явления термополимеризации, в то время как контрольные образцы фотополимеризующихся пластики, изготовленные из такой же композиции, не содержащей нигрози на, полностью теряют способность к растворению.Образцы фотополимеризующихся пластин, выдержанных в термокамере, экспонируют люминесцентными лампами УФ-свечения типаЗаказ 9506 Изд. Мо 405 Тираж 506 Подписное Ц 11 ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушская наб д. 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 ЛУФв копировальной раме с пленочным (полиэтилесвым) покрытием под ъсдельным негативом в течение 20 мин. После...

Номер патента: 1672406

Опубликовано: 23.08.1991

Авторы: Гавенко, Крикуненко, Лазаренко, Шаблий

МПК: G03F 7/004

Метки: жидкой, композиции, мелкорельефных, основе, печатных, форм, фотополимеризующейся, фотополимерных

...в нее предорошковый полимер, или карбоксильные е осуществляют элекв течение 1,5-3,0 м и и.1672406 Таблица 1 между валками устройства, предназначенного для прокатки негатива к системе подложка - фотополимериэующаяся композиция с порошковым полимером.П р и м е р 1, Металлическую пластину - основу будущей формы - сталь марки 08 КП толщиной 0,25 мм помещают в камеру в качестве анода, В камере находится фотополимеризующаяся композиция состава, мас,:Монометакриловый эфирэтиленгликоля и фталевойкислоты 80 Триэтиленгликольдиметакрилат 1 Фотоинициатор 5 и порошковый полимер с амино- или карбоксильными группами дисперсностью 10- 20 мкм 57; по отношению к массе основной композиции, находящийся во взвешенном состоянии в результате...

Номер патента: 1688223

Опубликовано: 30.10.1991

Автор: Васин

МПК: G03F 7/004

Метки: глубокой, печати, форм, фотополимерных, цилиндрических

...формирование печатающих и пробельных элементов со стороны фотоформы 4 и основы - со стороны лампы 2,Формула и з о б р е т е н и я Составитель А.НосыреваРедактор А,Маковская Техред А,Кравчук Корректор М.Самборская Заказ 3708 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР. 113035, Москва, 3-35, Раушская наб. д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г,Ужгород, ул. Гагарина,101 Изобретение относится к полиграфической промышленности и может бытьиспользовано в формных процессахи оборудования для изготовления печатных форм из жидких фотополимериэующихся композиций,Целью изобретения является иовы,шение качества форм,На чертеже представлено схемати,ческое иэображение...

Номер патента: 1786464

Опубликовано: 07.01.1993

Авторы: Бусыгина, Гомон, Дацко, Канафоцкая, Карпенко, Лазаренко, Луцив, Маслюк, Старченко, Юрре

МПК: G03F 7/004

Метки: композиция, офсетных, печатных, светочувствительная, форм

...задержки, твердых схем с высокой разрешающей способностью, в радиотехнике и микроэлектронике. Но при использовании этого состава композиции в полиграфии, где для офсетных печатных форм применяют Слой толщиной 3-5 мкм, разрешающая способность слоя составляет 120 - 180 лин/см. Кроме того, технологический процесс с ее использованием включает операцию термообработки, которая должна проводиться в узком интервале температур при создании условий равномерного прогрева всей поверхности формной пластины. 6 ли зость рабочей температуры прогрева к интервалу термического разложения производных о-нафтохинондиазида, а также большие форматы офсетныхпластин выдвигают дополнительные требования к точности проведения процесса термообработки, которая в...

Номер патента: 1817861

Опубликовано: 23.05.1993

Авторы: Глыбина, Гуров, Девяткина, Звонарева, Каленова, Крюковский, Мальцева, Перова, Сидякина, Смеловская, Холмянский, Шалаев, Эрлих

МПК: G03F 7/004

Метки: негативный, фоторезист

...мкм.о Микронеровность пленки составляет 100 А; при этом клин проявления 1,0 мкм. Примеры получения фоторезиста и егохарактеристики представлены в табл. 1 и 2, В зависимости от массовой доли сухого остатка композиции, формирование пленки проводят при частоте вращения 4000-1000мин, остальные стадии фотолитографического процесса проводят аналогично примеру 1,5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 Фотолитографические характеристикиоценивают по следующим параметрам: толщина фоторезистивной маски, светочувствительность, микронеровность, разрешающаяспособность, клин проявления,Стабильность фоторезиста при храненииопределяют продолжительностью сохранения беэ изменений фотолитографических характеристик. При этом контролируют такжепоявление посторонних...

Номер патента: 1297624

Опубликовано: 28.02.1994

Авторы: Барачевский, Бурменко, Гвоздовский, Гудзере, Задонцев, Камардин, Карнаух, Кислица, Козенков, Маслакова, Нерозник, Осташкова, Передереева, Санчугова, Стрежнев

МПК: G03F 7/004

Метки: дифракционной, копии, решетки

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОПИИ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ, включающий последовательное нанесение на стеклянную матрицу маннита, алюминия, моноокиси кремния и олигомерной композиции, содержащей олигомер, стирол и фотоинициатор, наложение на слой олигомерной композиции стеклянной подложки, обработанной метакрилоксиметилтриэтоксисиланом, отверждение композиции ультрафиолетовым светом и отделение подложки, отличающийся тем, что, с целью сокращения времени изготовления копии решетки и повышения ее климатической устойчивости, в качестве олигомера используют олигоуретанакрилат формулы(CH2= CH- -O-CH2-

Номер патента: 1618157

Опубликовано: 27.10.1998

Авторы: Арефьев, Гильманов, Запорожец, Паутов

МПК: B41C 1/14, B41N 1/24, G03C 1/72 ...

Метки: сеткотрафаретного, экрана

Способ получения сеткотрафаретного экрана, включающий приготовление пленочного материала путем полива водной композиции на основе полинивилового спирта и полимерного наполнителя на полиэтилентерефталатную основу и сушки, накатывание полученного пленочного материала на сетку, предварительно смоченную водным раствором бихромата аммония с последующей сушкой, экспонирование и проявление водой, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности экрана и улучшения качества изображения, в качестве полимерного наполнителя используют водную дисперсию сополимера винилацетата с 2 - 50 мол. % диалкилмалеината с числом углеродных атомов в алкильном радикале от 2 до 8 или с 2 - 95 мол.% этилена при следующем соотношении компонентов водной...