G02B 27/44 — системы с дифракционными решетками; системы с зонными пластинами

Номер патента: 533992

Опубликовано: 30.10.1976

Автор: Рутковский

МПК: G02B 27/44, G12B 3/00

Метки: вращательных, движений, двух, независимых, оптических

...любого известного привода,Устройство работает следующим образом.В исходном положении в ход лучей введена одна из решеток 1, причем ее положение относительно оси ее вращения зафиксировано роликом 24, вошедшим в соответствующую прорезь 26 диска 25. При этом между буртиками 12 штока 13 и упорами 11 гильзы 10 имеются зазоры.Сканирование спектра осуществляется поворотом основания 5 вокруг вертикальной оси 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 4вместе с гильзой 10 и всеми элементами, расположенными на основании 5. Этот поворот осуществляется с помощью кулачкового механизма, содержащего рычаг 8 и кулачок 9. Поскольку шток 13 расцеплен с гильзой 10, то при повороте основания шток 13 вместе с винтом 16 и корпусом 7 остается неподвижным.Для...

Номер патента: 672598

Опубликовано: 05.07.1979

Авторы: Елкин, Митина, Михеев

МПК: G02B 27/02, G02B 27/44

Метки: двойного, изображения, оптическая

...изображена предлагаемая системаСистема включает прозрачные дифракцион.ные решетки 1 и 2, плоские зеркала 3 и 4, расположенные параллельно одно другому на противоположных гранях стеклянного параллепипида,Преимушество предлагаемой системы передизвестной заключается в том, что в этой системе удается избежать потерь энергии при формировании дифракционного изображения. Действительно, свет от светящегося удаленного обьекта,попадая на решетку 1, дифрагирует в интерфе672598 Формула изобретения антор Корректо овинская Подписноеого комитета СССРи открытийаушская наб., д. 4/5 Тираж 587 . ЦНИИПИ Государственн по делам изобретений 113035, Москва, Ж, РЗаказ ал ППП "Патент", г. Ужгород, ул, Проектная,3ренционные порядки т = О, 1 1,2., которые...

Номер патента: 608364

Опубликовано: 15.03.1981

Автор: Якимовмч

МПК: G02B 27/22, G02B 27/44

Метки: времени, изображения, масштабе, реаль-hom, синтезирования, сцены, трех-мерного

...на.поверхности диффузионного рассеивателя, а соответствуквще им точки А, А 2,А располагаются с некоторым. шагом на отрезке А Алуча зрения, проведенного от наблюдателя через область пространства, в которой синтезируется изображение сцены, Толщина Фотоматериала выбирается такой, что при создании на поверхности диффузионного рассеивания лучом лазера любого 16 точечного источника света О происходит кодирование восстановление только одного .соответствующего ему точечного источника А.Устройство работает следующим об разом.. Дефлектор 4 отклоняет луч лазера по поверхности диффузионного рассиеваиия вдоль прямой 00. Световая волна от образованного лучом лазера точеч- ;у ного источника О ввиду угловой селективности объемной решетки дифрагирует...

Номер патента: 1067461

Опубликовано: 15.01.1984

Авторы: Аблеков, Дмитриев, Колядин, Фролов

МПК: G02B 27/00, G02B 27/44

Метки: высоким, изображений, оптическая, разрешением, формирования

...оптическая система формирования изображений с высоким разрешением, содер. 40 жащая транспарант с периодической дифракционной структурой и объектив. В этом устройстве укаэанная структура транспаранта выполнена в виде дифракционной решетки, введе ние которой позволяет передать через объектив несколько различных участков поверхности сферической волны. Это дает дополнительную информацию о радиусе кривизны волнового Фронта,. а следовательно, приводит к увеличению разрешения изображения объекта. В данном случае происходит синтез апертуры, что эквивалентно увеличению относительного отверстия оптичес кой системы 23, 55Однако указанная система также обладает недостатками, которые заклю" чаются в том, что для увеличения раз. решения необходимо,...

Номер патента: 1171744

Опубликовано: 07.08.1985

Авторы: Саамова, Стрежнев

МПК: G02B 27/44, G02B 5/18

Метки: диспергирующее

...соответствующих решеток 1 и 2. Кроме того, решетка 2 имеет возможность перемещения(2) 3),%=4,4 д,з 1 п ус соз 6 где (6 - угол блеска первой решетки 1;%- коротковолновая граница 25области пропускания устройства.Другая часть падающего излчения с Ъ с % ), будет дифрагировать в спектральные порядки 10 решетки 1. Для того, чтобы на вторую решетку 2 пада ло излучение только нулевого порядка 9 спектра решетки 1, решетку 2 смещают вдоль прямой 5 до тех пор, пока расстояние между центральными35 штрихами решеток не окажется равным величине г, соответствующей выражению (1), и поворачивают по дуге 6 окружности с радиусом г вокруг оси 3 на угол 6, = 29 . Угол др образо, ван входной ветвью 7 оптической оси устройства и прямой 5, Затем решетку 2...

Номер патента: 1254402

Опубликовано: 30.08.1986

Автор: Бобров

МПК: G02B 13/14, G02B 27/44

Метки: объектив, проекционный, симметричный

...ее плоскости сходящийся, который ограничивается апертурной диафрагмой 5 и фокусируется плосковыпуклой линзой 6 и мениском 7 в плоскости изображения 8.Для обеспечения симметрии объектива апертурная диафрагма 5 выполняется на стеклянной подложке, идентичной35 подложке дифракционной линзы.Предложенный объектив, имеющий те же разрешение и габарит, что и прототип: разрешение Э мкм на длине волны 441,6 нм (апертура 0,09), габарит40 810 мм, имеет поле высококачественного изображения (волновая аберрация не превышает Ъ /4) около 80 мм в диаметре, что в 4 раза больше, чем у прототипа. Допустимая ширина спектра освещения составляет 10 нм в осевой точке и уменьшается до 5 нм на краю рабо 50 чего поля (у = 40 мм), что на 3 порядка больше,...

Номер патента: 1275354

Опубликовано: 07.12.1986

Авторы: Клишина, Кравцов, Телешов, Шац

МПК: G02B 27/44

Метки: голографических, линз, матрицы

...столбца, второй строки и второгостолбца, третьей строки и третьегостолбца, четвертой строки и первогостолбца,П р и м е р, Рисунок зонной пластинки Френеля программировался наЭВМ - "Электроника - 100 М" и вводился в устройство вырезки оригиналовв КПЛ. Затем выбирались прозрачные зоны Френеля и оригинал снималсяс уменьшением в 10 раз на редукционной камере ЗМ. В результатеэтой операции получался фотошабпонединичной зонной пластинки Френеля сразмерами 36 х 36 мм. На этот шаблоннакладывали маску, которая делилаего на 4 строки и 4 столбца, пропуская лишь четвертый столбец в первойстроке, второй - во второй строке,третий - в третьей строке, первыйв четвертой строке, а остальныемаскировала, и снимали копию наустановке контактной...

Номер патента: 1283523

Опубликовано: 15.01.1987

Авторы: Белоусов, Бердников, Вайнберг, Воробьев, Овечкис, Пустыльников, Семочкин

МПК: G01B 11/24, G02B 27/44

Метки: вогнутых, зеркал, сферических

...источника используется лазер5. Объектив 6 служит для фокусирования пучка на отверстие в экране 7На экране 7 со стороны зеркала 1 на- З 0 несена измерительная сетка, например,в виде концентрических окружностей.Две голографические дИФракционные решетки 8 и 9 установлены вплотную кэкрану 7 по разные стороны от него 35 и преобразуют излучение лазера 5 вп расходящихся из единого центра пучков, попадающих на различные участки контролируемого зеркала 1. Числои равно количеству контролируемых 40 участков на поверхности контролируемого зеркала 1 и определяетсяусловиями записи голограмм. Для контроля типичных зеркал авиационных тренажеров целесообразно исполвзовать 45 голограммы с и = 9-25.Измерения производятся...

Номер патента: 1302233

Опубликовано: 07.04.1987

Авторы: Голуб, Карпеев, Прохоров, Сисакян, Сойфер

МПК: G02B 27/44, G02B 5/23, G03H 1/02 ...

Метки: излучения, монохроматического, фокусировки

...при записи голограммы, причем особенно сложно создать объект 1 с нужным распределением свечения по объему,.Наиболее близким по технической сути к предлагаемому является спо-. соб фокусировки монохроматического излучения, заключающийся в том, что волновой фронт излучения формируют путем фазовой модуляции волны при помощи фазового элемента2.1.Однако задача фокусировки решается при помощи фазовых зонных пластинок Френеля, обладающих малым весом, но дающих много фокусов, что снижает их коэффициент полезного действия и ведет к потере мощности излучения. Зонная пластинкатакже не позволяет варьировать распределение энергии в фокусе. Цель изобретения - достижение полной концентрации энергии в заранее определенной области пространства с...

Номер патента: 1303960

Опубликовано: 15.04.1987

Авторы: Гончарский, Данилов, Попов, Сисакян, Сойфер, Степанов

МПК: G02B 27/44, G02B 5/10

Метки: варианты, его, излучения, оптического, отрезок, прямой, фокусировки

...4, перпендикулярную отраженному лучу; Х - Функция, определяемая соотноше- нием 2 бг(1 - ехр(- в ; цг 25 г 2 б ог 11 г е его -- -оО 26 г Кб - параметр гауссова распределения интенсивности фокусируемого пучка 2, в котором О 4интенсивность излучения нарасстоянии г от центра пучка пропорциональнаггехр( дг)1(г) - функция, описывающая распределение интенсивности сфокусированного излучения и удовлетворяющая условиюХс1 ( с) г=1;1Б; +йяпвХсояй+Ч, я 1 пс(соя 8где Х -Х - длина отрезка 3, в кото 2 1рый происходит фокусировка.При использовании монохроматического, излучения (второй вариант) оптический элемент 1 выполнен в виде фазовойотражающей зонной пластинки, Формаи рельеф зон которой описывается выражениемГГп 2 сор+чг уЕЙ Ч)--- . ---...

Номер патента: 1303961

Опубликовано: 15.04.1987

Авторы: Гончарский, Данилов, Попов, Сисакян, Сойфер, Степанов

МПК: G02B 27/44, G02B 5/10

Метки: варианты, его, излучения, кривую, линию, оптического, фокусировки

...ся выражением+у,(Ж,Вчем),где 2 Й,Ч) - высота рельейа зон опти -ческого элемента в точке- длина волны падающегомонохроматического излучения, выражение 1 А)означает дробную частьчисла А. Устройство работает следующим образом.Криволинейное зеркало (фиг. 1), уравнение поверхности которого дается выражением где ( (Б,Ч) - эйконал излучения, обеспечивающего требуемую фокусировку в точках на поверхности оптического элемента, фокусирует излучение в заданную кривую линию.Для определения функции с,(Ц,Ч) отметим, что задание функции Ц)(Б,Ч) в плоскости фокусирующего элемента (фокусатора) определяет отображение области фокусатора в фокальную плоскость 2=К по формулам хШ,Ч) =Б+й(1)М,Ч), УЫ,Ч) =Ч+й(р,й, Ч) .Использование (2) позволяет доказать,...

Номер патента: 1303977

Опубликовано: 15.04.1987

Авторы: Гончарский, Данилов, Попов, Сисакян, Сойфер, Степанов

МПК: G02B 27/44

Метки: маркировки

...на элемент пучка; .=1,2И - номер точки в марке;И - число точек в марке;7агсС(ц,ч) ц ч; угол между осью Оц и радиус-вектором точки (ц, ч), измеренный в радианах и находящийся в интервале (О, 2 Т);1ц =ц соз 8;расстояние от .-й точки марки до плоскости оптического элемента; координаты проекции .-й точки марки на плоскость оптического элемента;ш=1,2М - натуральное число;- длина волны излучениялазера 1;1 А - дробная часть числа А.Установка работает следующим образом.Луч лазера 1 направляется на фазовую отражающую зонную пластинку 2 и отражается от нее на маркируемое изделие 3, На зонной пластинке волновой фронт излучения формируется так, что после отражения от пластинки на маркируемом изделии создается изображение в виде требуемой марки 4....

Номер патента: 1312512

Опубликовано: 23.05.1987

Авторы: Афанасьев, Шлишевский

МПК: G02B 27/44

Метки: диспергирующая

...Кулиса 7 установленаперпендикулярно рычагу 6 в постоянномконтакте с рычагом 3 и с возможностьюпоступательного перемещения вдоль рычага б. Точка контакта кулисы 7 ирычага 3 расположена на постоянномрасстоянии г от рычага 6, Кулиса 8установлена перпендикулярно рычагу 3и жестко с ним связана, Камень 9 кулисы установлен с, возможностью перемещения вдоль кулисы 8, Камень 10 кулисы установлен с возможностью перемещения вдоль кулисы 7. Камень 9кулисы шарнирно связан с камнем 10кулисы, причем ось шарнира жесткосвязана с ползуном 5.Устройство работает следующим об 55разом,Пучок света направляется на дифракционную решетку параллельно направлению перемещения ползуна 4 и дифрагирует в направлении зеркала 2 параллельно рычагу 6. Тогда угол падения Ч...

Номер патента: 1314291

Опубликовано: 30.05.1987

Авторы: Гончарский, Данилов, Попов, Сисакян, Сойфер, Степанов

МПК: G02B 27/44, G02B 5/10

Метки: варианты, его, излучения, интенсивности, оптического, прямоугольник, равномерным, распределением, фокусировки

...с равномерным распределе- соотношением (2) при ц(Н,Ч)= ч(Б,Ч) нием интенсивности сфокусированного излучения будем искать в виде: х(Н,Ч)=х(Н,Ч)+ х Я,ч);Условие постоянства интенсивности сфокусированного излучения в прямоугольник -Ьх 4 Ь; -ауа запишется в виде: у(О,Ч) =у (О,Ч) + р у (Н,ч), х 1(Н,Ч)= 4 аЬТ(Б,Ч). (5)у (Нтч) у" (О Ч) 55Учитывая члены первого порядка по 7 Отгде КЫ) =2 1(Б,Ч) сч / Ь р получим, что 21 ШЧ) у": ----- ТЫ Ч)= --- д о(о Ч)КШ)5 131Задание функции / (О,Ч) в плоскости фокусатора определит отображение области фокусатора в фокальную плоскость Е=Й (задание функцииЙ,Ч) определяет как пойдет луч света из точки Й,Ч) фокусатора) по формуламх = х (О,Ч) = О + й; у =у Ж,ч) =Ч+Ю,. (2) Наибольший интерес для практики...

Номер патента: 1335910

Опубликовано: 07.09.1987

Автор: Бобров

МПК: G02B 27/44

Метки: высокоапертурный, объектив, фокyсирующий

...дифракционной линзы.При расположении рефракционной линзы выпуклой поверхностью к изображению (фиг. 1) дифракционную линзу оказывается возможным поместить в плоскость, проходящую через действительное изображение центра этой выпуклой поверхности. В этом случае кроме сферической аберрации и комы компенсируется также и астигматизм объектива, поэтому поле изображения в этом варианте предлагаемого устройства больше. С другой стороны, при таком расположении рефракционная линза обладает очень большой сферической аберрацией и компенсация последней в объективе требует сравнительно высокочастотной дифракционной линзы. ПриФормула изобретения Высокоапертурный фокусирующий объектив, содержащий дифракционную линзу на плоскопараллельной...

Номер патента: 1527612

Опубликовано: 07.12.1989

Автор: Ильин

МПК: G02B 27/44

Метки: величины, дифракционной, оптической, регистрации, решетки, смещения

...3 разлагает монохроматический свет на три плоскиеволны с нулевыми, +1-м и - 1-м порядками дифракции.Устройство работает следующим образом,Пучок монохроматического излучения от лазера 1 преобразуется в нерасходящийся большего диаметра посредством телескопической системы 2 иосвещает дифракционную решетку 3.Этот пучок лучей дифрагирует на решетке с образованием трех пучков-1-го, О-го и +1-го порядка дифракцин. Пучок - 1-го порядка направляет 55ся на первое зеркало 4, которое устанавливают под углом Ы, = 1/4 + Ч,/2исходя иэ значений углов дифракции ,выделяемых порядков. При этом угол дифракции определяется иэ соотношениявЦ агсз 1 п- - ,где ш - порядок дифракции;7 - длина волны;Й - постоянная решетки.Пучок +1-го порядка дифракциинаправляется...

Номер патента: 1597822

Опубликовано: 07.10.1990

Автор: Бобров

МПК: G02B 27/44, G02B 5/32

Метки: высокоапертурный, объектив, фокусирующий

...две одинаковые рефракционные линзы с радиусами сферической поверхности 5,44 мм и толщиной 2,17 мм, которые изготовлены из стекла ТФ 4. Подложка дифракционной лин. зы изготовлена из того же стекла и имеет толщину 2,38 мм, причем она расположена со стороны изображения, а воздушные промежутки в объективе отсутствуют. Для рефракционной линзы, расположенной со стороны сфокусированного изображения расстояние от сферической поверхности до дифракционной линзы составляет 0,84 радиуса поверхности, а для второй линзы аналогичное расстояние равно 0,40 радиуса.При работе с бесконечно удаленным объектом предлагаемый объектив обеспечивает поле высококачественного изображения диаметром 0,56 мм, При выходной апертуре 0,50 объектив обеспечивает...

Номер патента: 1605140

Опубликовано: 07.11.1990

Авторы: Гингис, Новиков

МПК: G01B 11/02, G02B 26/12, G02B 27/44 ...

Метки: размера, структуры, топологической, элементов

...по шкале,Способ реализуют следующим образом.Пучок света от лазера (через поворотную призму 2 и формирующееустройство 3) Фокусируется на объекте измерения (топологической структуре типа дифракционной решетки)под углом 9 , дифрагирует и череззеркало 5 попадает на барабан 6 сотражательным экраном 7 и шкалой 8,Вращением барабана переключаютшкалы и на экране наблюдают половинудифракционного спектра, начиная отнулевого пучка.Для определения размера элементатопологической структуры вращениембарабана подводят ту грань, котораясоответствует порядковому номерусчитываемого минимума огибающей дифракционного спектра (наблюдаемогона экране 7 визуально). На каждойшкале грани барабана 6 с номероми = 1, 2 3, ч, 5, 6 значения размера Ь...

Номер патента: 1620973

Опубликовано: 15.01.1991

Авторы: Сисакян, Смолович, Сойфер

МПК: G02B 27/44

Метки: излучения, фокусировки

...пути между соответствукщими зонами 3 и б пластинки 4 О1. Фазовый оптический элемент 1 иступенчатый оптический элемент 2 могут быть выполнены на противоположных сторонах одной подложки (фиг.2),В случае выполнения пластинки 1 пропускающей, а элемента 2 отражающим высота. Ь ступеньки 4 (то же, что расстояние между рабочими плоскостями ступенек 4 и 5) должна удовлетво О рять соотношению: где а - величина скачкообразного изменения высоты рельефа на границе между зонаьы 3 и б зонной пластинки 1;и - показатель преломления мате-риала пластинки 1. Ступенчатый оптический элемент 2может быть изготовлен, например, настанке с числовым программным управлением, Полученная высота ступенек может быть измерена, например, интерферометрическими методами,...

Номер патента: 1686400

Опубликовано: 23.10.1991

Автор: Кособурд

МПК: G02B 27/44

Метки: изображения, когерентном, объектов, свете, свечением, собственным

...под углом уп к решетке на расстоянии йп от нее позволяет получить в одном из дифракционных порядков резкое изображение за счет того, что в оптической схеме с наклонной решеткой существует плоскостьсопряженная исследуемому обьекту,Существование сопряженной плоскости в предлагаемом устройстве можно доказать с помощью расчета поля в плоскости набюденя.Получив точное выражение для поля на произвольном расстоянии Р от решетки в параллельной ей плоскости через частотную характеристику свободного пространства, а затем перейдя к квадратичному приближению по ма: ому параметру- ширине спектра обьекта, получимЕв,),) б 01 бОгц 0(0102) ехрГ 101 ++ г 101 х ехрЯГ 202 + т 2023.где 90 (0102) = 3 Х Охс 4 У 0 Хо (хоуо) ехр(-(01 хс, + + 02 уо -...

Номер патента: 1697041

Опубликовано: 07.12.1991

Авторы: Голуб, Данилов, Досколович, Сисакян, Сойфер, Харитонов

МПК: G02B 27/44

Метки: гауссова, интенсивности, прямоугольник, пучка, равномерным, распределением, фокусировки

...С РАВНОМЕРНЫМ РАСПРЕДЕЛЕНИЕМ ИН ТЕНСИВНОСТИ57) Изобретение относится к оптике и может быть использовано в установках, предназначенных для освещения или обработки различного рода иэделий пучками сконцентрированного лазерного излучения. Цель изобретения - псвышение равномерности распределения интенсивности в фокусируемом прямоугольнике. Устройство выполнено в виде фазового оптического элемента 1 - отражающей зонной пластинки с микро- рельефом 2. Приведено соотношение для определения высоты микрорельефа зон пластинки, обеспечивающее повышение равномерности распределения интенсивности в фокусируемом прямоугольнике. 2 ил.1697041 Составите ль В, аниловКорректор В.ГирнякТехред М,МоргенталРедактор В.Бугренкова Подписноениям и открытиям при...

Номер патента: 1697042

Опубликовано: 07.12.1991

Авторы: Голуб, Данилов, Досколович, Сисакян, Сойфер, Харитонов

МПК: G02B 27/44

Метки: гауссова, интенсивности, прямоугольник, пучка, равномерным, распределением, фокусировки

...микрорельефсм, высотаЬ (Ор,. Чр) которого определяегся соотноше- ЗпниемА Ь(ОР,ЧР) = -- - кпсс,; х2 Ссб д Я,сов" д+Ч,ггъЙ 1 его (б,го)О, се- д х(э Ор сов дега - : - "- - Ь Ч ег(Ч уДоя, 2 , О СовО,Г) +ер (1",-) - 2), Где Ор, Чр " декзргОвые кОординйты в плО- скости ОптическоГО элемента 1:Л - длина волны пздзгоще; о;:.инэхрсматического излучения 3;д - угол между о тичес.оа осью .;-О ройства и нормалью к плоскости оптического элемента 1;род(х) фу 1 кр, я р вчач нзимень мему положительному остатку деления х на ОА; гп - заданное целое число; 1 - заданное фокусное расстояние оптического элемента 1;у параметр гзуссовз пучка; хег:(х) ==3 е бт;л о2 б - размер стороны оптического элемента 1,2 а, 2 Ь - заданные размеры сторон фокусируемосо...

Номер патента: 1737399

Опубликовано: 30.05.1992

Авторы: Голуб, Карпеев, Сисакян, Сойфер

МПК: G02B 27/44, G02B 27/48

Метки: излучения, лазера, оптическая, полупроводникового, преобразования

...а также низкая 35эффективность преобразования световойэнергии, обусловленная бинарной функцией фазового пропускания элемента,Целью изобретения является коллимация излучения полупроводникового лазера 40и повышение эффективности преобразования световой энергии.Изобретение обладает "с,лее широкимифункциональными возможностями по сравнению с известными оптическими системамй за счет симметричной .формысколлимированного пучка, Оптическая силакиноформного элемента меньше, чем у прототипа, что позволяет увеличить число уровней квантования и, следовательно,повысить эффективность с 20 - 30% у прототипа до 70 - 80.Цель достигается тем, что в оптическуюсистему, содержащую последовательно установленные полупроводниковый лазер и, киноформный...

Номер патента: 1748127

Опубликовано: 15.07.1992

Авторы: Бородин, Красов, Чернов

МПК: G02B 27/44, G02B 27/48

Метки: лазерного, преобразования, пучка, структуры, фазового

...толщину напыленного слоя,Высоту щтриха решетки выбирают иэусловия подавления аберраций преобразуемого пучка и обеспечения максимальногодиапазона изменения формы огибающейраспределения интенсивности при измене нии пср,Выбор ширины штриха решетки осуществляют исходя из условия равенства диаметра облучаемой площади мишени икружка рассеяния, образованного при дифракции излучения-на размере шириныштриха решеткй. Для того, чтобы размерыкружка рассеяния от отдельных зон неодно родности были равны, период решетки выбирают вдвое большим ширины штриха,Дополнительная пластина 4 изготовлена из оптически прозрачного материала, например стекла или кварца, и с помощью манжеты 8 образует с подложкой 1 герметичную емкость. В исходном состоянии...