Устройство для съема деталей

(088.8) ао делам нзооретенкй к открытий(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СЪЕМА ДЕТАЛЕЙ 1Изобретение относится к технологическому оборудованию для съема и укладки полупроводниковых кристаллов и предназначено для производства полупроводниковых приборов.Известно устройство для подачи мелких деталей, в частности полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее инструмент присоску, выталкиватель и прижимной элемент, выполненный в виде соединенной с приводом возвратно-поступательного движения рамки с отверстием по форме кристалла, снабженной фланцем, высота которого превышает толщину кристалла на 0,3 05 мм Г 13Недостатком устройства является егоРсложность за счет введения дополнительной рамки с приводом возвратно-поступательного движения, а также возможность 20 повреждения соседних периферийных кристаллов при захвате основного кристалла.Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому усявляется уст 2ройство для съема деталей, преимуцественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее присоску, опорный столик для эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненным в опорном столике, и выталкиватель.В известном устройстве механизм перемещения вытапкивателя механический 123,Недостатком этого устройства являегся то, что устройство ненадежно в работе,а именно, и отсутствии зависимости меж-.ду подъемом выталкивателя и прижимомэластичной диафрагмы к поверхности опорного столика, Отсутствие такой зависимости приводит к тому, что подъем выталкивателя может производиться, когдаэластичная диафрагма не прижата вакуумом к опорному столику. А это, в своюочередь, приводит к смешению и отрывуот эластичного носителя соседних кристаллов и следовательно, к увеличениюбрака, 983837Цель изобретения - повышение надежности работы.Поставленная цель достигается тем,что в устройстве для съема деталей, преимущественно полупроводниковых кристал-5лов с эластичной липкой пленки, содержащем присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненными в опорном столике, и выталкиватель, выталкиватель закреплен на дневакуумной камеры.Причем вакуумная камера выполнена ввиде сильфона.На фиг, 1 изображено предлагаемое 15устройство, общий вид; на фиг, 2 - то же,в рабочем положении.Устройство для объема мелких деталей содержит присоску 1, опорный столик2 для размещения эластичной липкой пленоки 3, на которой расположены кристаллы4 и общую вакуумную камеру 5, Опорныйстолик 2 снабжен каналами 6, от которого отходят сквозные отверстия 7, Каналы6 сообщаются с обшей вакуумной камерой 255, через полость которой проходит выталкиватель 8. Он закреплен одним концомна днище вакуумной камеры 5 и снабженпружиной 9. Вакуумная камера 5 служитодновременно для присасывания диафрагмыЗои перемещения выталкивателя 8,Устройство работает следующим образом.Разделенная на кристаллы 4 полупроводниковая пластина закрепляется на элас 35тичной липкой пленке 3. При объеме кристаллов пленки 3 перемешается относительно опорного столика 2, снабженного вакуумными отверстиями 7. После совмещения оси кристалла 4 с осью выталкивате 4 оля 8 на кристалл опускается инструментприсоска 1. При этом торец инструментаприсоски не доходит до поверхности кристалла. В этот момент в полость камеры 5и в отверстия 7 опорного столика 2 подается вакуум. При наличии надежногоприжима диафрагмы с кристаллами к поверхности опорного столика 2 камера 5 сжимается и поднимает выталкиватель 8, Если же пленка 3 не прижата к опорному столику, то при подаче вакуума воздух будет через отверстия 7 отсасываться из атмосферы, а камера 5 сжиматься не будет и не будет подниматься выталкиватель 8, т. е. выталкиватель 8 и сжатие камеры 5 возможно только при хорошо прижатой пленке к опорному столику.Кристалл, находящийся над выталкивателем поднимается и захватывается присоской Затем вакуум отключается, камера 5 и выталкиватель 8 возвращается в первоначальное положение под действием пружины 9. После этого производится ориентация следующего кристалла. Цикл повторяется.Использование предлагаемого устройс - ва повышает надежность работы и исключает брак, Выход годных кристаллов на. операции съема увеличился с 99,5% до 99, 9%.формула изобретения1. Устройство для съема деталей, преимущественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами,выполненными в опорном столике, и выталкиватель, о т л и ч а ю щ е е с я тем,что, с целью повышения надежности работы, выталкиватель закреплен на дне вакуумной камеры.2. Устройство по и. 1, о т л и ч а -ю ш е е с я тем, что вакуумная камера выполнена в виде сильфона.Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Авторское свидетельство СССР562884, кл. Н 01 21/68, 20.04.75.2, Патент Швейцарии548112,кл. Н 01 Ь 7/66, опублик. 11.04,74.983837 Составитель 3. ЯшТехред МЛадь Корректор Н. Коро Редактор А, Шанд исное 5 Тираж 761 По ИИПИ Государственного комитета по делам изобретений и открытий 035, Москва, Ж, Раушская н з 9939/6 д ал ППП "Патент", г. Ужгород, ул, Проектн