Патенты с меткой «объемному»
Устройство для деления теста на куски по объемному принципу
Номер патента: 194687
Опубликовано: 01.01.1967
Авторы: Конструкторский, Неймарк, Рахимштейн, Украинский
МПК: A21C 5/04, G01F 11/04
Метки: деления, куски, объемному, принципу, теста
...тяжести, частично увлекаемое лопастяыи ротора 5, При движении лопасти непосредственно за ней образуется разрежение, в результате чего тесто затягивается в камеру.Вначале делительный барабан 12 находится в положении карыан закрыт, а клапан 7открыт, Происходит прогон теста через камеру 2 обратно в приемную воронку. При этомиз камеры удаляются в первую очередь газы,скопившиеся в порции теста, увлеченной лопастью. Далее клапан закрывается, В камереостается относительно плотное тесто, Барабанповорачивается и останавливается в положении Карман открыт, Мерный карман 13 заполняется тестом. Поршень, перемещаясь поддавлением теста, выталкивает второй стороноц ранее отмеренную дозу.При том же положении барабана тесто уплотняется до заданного...
Способ маркирования участка поверхности полупроводникового кристалла, соответствующего объемному микродефекту
Номер патента: 728183
Опубликовано: 15.04.1980
Авторы: Бродская, Вдовин, Мильвидский, Моргулис, Освенский, Шифрин
МПК: H01L 21/263
Метки: кристалла, маркирования, микродефекту, объемному, поверхности, полупроводникового, соответствующего, участка
...участка из всех отмаркированных участков того же типа.Цель изобретения - обеспечение универсальности способа и защиты микродефекта от воздействия на него при маркировке,Цель достигается тем, что по предлагаемому способу экспонируют электронным пучком участок поверхности кристалла над обнаруженным микродефектом, а затем проводят травление. Экспонирование электронным пучком участка поверхности кристалла проводят при токе электронного пучка 10 6 - 10А, вакууме 5 10- 5 10торр и продолжительности 1 - 1000 с. Травление кристаллов после экспонирования проводят в известном для каждого материала полирующем травителе.При экспонировании электронным пучком поверхности кристалла в точке пересечения ее с электронным пучком осаждается...
Устройство для деления теста на куски по объемному принципу
Номер патента: 1207454
Опубликовано: 30.01.1986
Авторы: Маргулес, Отрубянников
МПК: A21C 5/04
Метки: деления, куски, объемному, принципу, теста
...относится к пищевойпромышленности, а именно к хлебопекарной промышленности, и может бытьиспользовано в тестоделителях.Цель изобретения - улучшение условий обслуживания.Предлагаемое устройство обеспечивает стабилизацию технологическогопроцесса, позволяет исключить внутрисменные регулировочные и подналадочные работы, при этом упрощаетсяконструкция устройства,На фиг. 1 схематически изображеноустройство для деления теста на кус-.ки по объемному принципу, вид сбоку;на фиг. 2 - разрез А-А на фиг.Устройство содержит наружный барабан 1 с загрузочным рукавом 2,внутренний барабан 3, имеющий мерныйкарман 4 с поршнем 5, который регулируется червячной парой 6 с маховиком 7, и жестко соединенный с внутренним барабаном 3 в торцовой частивала 8....
Способ определения отношения истинного объемного паросодержания к объемному расходному паросодержанию потока влажного пара
Номер патента: 1288568
Опубликовано: 07.02.1987
Авторы: Демехин, Коваленко, Шульман
МПК: G01N 25/60
Метки: влажного, истинного, объемного, объемному, отношения, пара, паросодержанию, паросодержания, потока, расходному
...измеряют режим работы парогенератора по тепловой или (и) мас 35 совой его производительности, Измере- ния осуществляют как в исходном, гак и в двух измененных дополнительных режимах работы парогенератора, Параметр скольжения Фаз С (отношение истинного объемного паросодержания к объемному расходному паросодержанию) вычисляют по совокупности измеренных параметров в исходном и в дополнительных режимах из следующей системы двенадцати линейно независимых уравненийС,-М,р" Р,+(1-Ы.) Р ; Р, (1) др К= д р -+(1 - Ы.) Р," (2). ы" фгде Ы - истинное объемное паросодержание;плотности жидкой и паровойФаэ потока; Л с ы - скорости жидкой и паровойФаз потока;Р - площаць поперечного сеченияпаропровода;К - коэФФициент, учитывающийвозмущение от...