Интерференционный резольвометр

Номер патента: 146894

Опубликовано: 01.01.1962

Автор: Морозов

МПК: H05H 13/04

Метки: виде, волновода, диафрагмированного, замедляющая, замкнутого, кольцо, синхротронов

...отличие позволило снизить вес магнитной системы и уменьшить потери частиц.На фиг. 1 изображена предлагаемая замедляющая система, выполненная в виде замкнутого в кольцо диафрагмированного волновода Н-образного сечения; на фиг. 2, 3, 4 - три основных варианта системы.В первом варианте 1 фиг. 2) диафрагма занимает полностью участок с увеличенной высотой волновода. Во втором варианте (фиг. 3) диафрагма занимает частично участок с увеличенной высотой волновода. В третьем варианте (фиг. 4) диафрагма занимает полностью участок с увеличенной высотой и частично участок с уменьшенной высотой. Во всех трех вариантах высота пространства резонаторов - областей 1 и 2 больше высоты пространства взаимодействия - области 3 волновода. Выбирая один из...

Номер патента: 1196686

Опубликовано: 07.12.1985

Авторы: Аранчук, Дрик, Зубко, Карпов

МПК: G01B 11/00

Метки: двухлучевых, измерителей, интерференционных, компенсации, объекта, перемещений, смещений, угловых

...и может быть использовано для измерения перемещений объектов, параметров вибраций и т.п,Цель изобретения - повышение точности измерений.Система компенсации угловых смещений объекта для двухлучевых интерференционных измерителей перемещений содержит оптическую фокусирующую систему 1, расположенную в объектном пучке интерферометра, собирающую линзу 2, располагаемую по ходу излучения, отражаемого от объекта 3 на расстоянии, равном ее фокусному расстоянию, и плоское зеркало 4, расположенное перпендикулярно оптической оси линзы 2, а фокусирующая система 1 ориентируется,таким образом, что ее оптическая ось располагаемтя под углом относительно объекта 3.Устройство работает следующим образом.Объектный. пучок интерферометра падает на оптическую...

Номер патента: 1084912

Опубликовано: 07.04.1984

Авторы: Баранова, Фишкова, Шпак, Явор

МПК: H01J 3/18

Метки: заряженных, иммерсионная, пучка, фокусировки, частиц

...рупольноЭ составляющей в собирающей плоскости, 1 ос - фокусное расстояние 912 4мы, преобразующей круглый пучок в клинообразный (пучкопараллельный оси Я в плоскости, где квадрупольная составляющая является рассеивающей, и сходящийся в плоскости, где она является собирающей) и в эллиптический.оВ а р и а н т 1. Система состоит из трех цилиндров одинакового диаметра З , последний из которых (электрод 2, фиг. 1) разрезан на четыре части, длина среднего электрода равна Н , расстояние между соседними цилиндрами равно О, 1 ПОтношения потенциаловвыбраны следующими: 1) г Р 1 =2; Ф ф 1 =10. Расстояния от предмета до центра среднего электрода в плоскостях, где квадрупольная составляющая является собирающей ( Оо ) и рассеивающей (д ) равны Ос = а =...

Номер патента: 1640663

Опубликовано: 07.04.1991

Авторы: Гнатовский, Логинов, Медведь, Плевако

МПК: G02B 27/30, G02B 27/42

Метки: излучения, коллимации, коррекции, лазера, полупроводникового, пучка

...равную диаметру спекл-неоднородностей, при этом, если50 55 5 10 20 25 30 35 40 45 спекл-неоднородности круглые, то форма дифракционной картины не искажается,При дифракции светового пучка с несимметричным сечением, каким обладает . полупроводниковый лазер, дифракционная картина искажается, Это искажение вызва. но изменением формы спекл-неоднородностей, которая соответствует форме тела свечения полупроводникового лазера 1; размеры спекл-неоднородностей ай и а в плоскости р - и-перехода и ортогональной ей плоскости, соответственно, связаны с размерами тела свечения аи и а следующими соотношениями;а й= 2 аи/1 ьа = 2 аЛь (3) С учетом размеров спеха-неоднородностей (3) выражение для сечения дифракционной картины (2) переходит вОи = Л 2/би+ аи...

Номер патента: 1127023

Опубликовано: 30.11.1984

Авторы: Васичев, Гайдукова

МПК: H01J 37/147

Метки: литографии, лучевой, устройства, фокусирующе-отклоняющая, электронно

...фокусирующей линзы,ускоряющее напряжение=0,45-0,55При этом коэффициент пропорциональности 1 зависит от соотношениягеометрических параметров линзы, определяющих распределение индукции фокусирующего поля вдоль оси системы, а также длину и местоположение дефлектрона в канале линзы, Местоположение и длина дефлектрона выбираются так, чтобы в области отклонения электронного пучка фокусирующее поле было в достаточной степени однородно. Эксплуатационный параметр лцнзы 31- является константой для электрон- Юно-оптической системы, положение объекта и изображения которрй постоянно, Величина этой константы определяется геометрией канала фокусирующей линзы.На фиг.1 показана ФОС, общий вид, на фиг,2 - дефлектрон, поперечный разрез, на фиг,З -...