Патенты с меткой «рельефа»
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания
Номер патента: 1632228
Опубликовано: 30.04.1994
Авторы: Есин, Зуева, Калашников, Князева, Модева, Олейник, Семчиков, Таранец, Треушников, Шульпин
МПК: G03F 7/32
Метки: гальванопластического, защитного, композиция, матрицы, наращивания, рельефа, фотополимеризующаяся
...е р 17, Определение средневязкостной молекулярной массы сополимера ММД с МДК и БМД с МДК,Средневяэкостную молекулярную массу Мд сополимеров, синтезированных по(ч) =К 45 50 55 примерам 1-16, определяют вискозиметрическим методом после предварительного метилирования.Метилирование сополимеров проводят по стандартной методике.Для определения характеристической вязкости используют вискозиметр Убеллоде, помещенный в термостатирующую баню 30 С. Последовательно определяют время истечения растворов исследуемого сополимера в ацетоне (концентрации растворов: 10; 5; 2,5; 1,25; 0,6 г/л) и время истечения чистого ацетона.Рассчитывают удельные вязкости ( т/уд) растворов сополимера указанных концентраций сополиЧера (Со) по формулет тотогде 1, то - время...
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания
Номер патента: 1342279
Опубликовано: 30.04.1994
Авторы: Александрова, Гусарская, Есин, Калашников, Олейник, Померанцева, Таранец, Треушников
МПК: G03F 7/025
Метки: гальванопластического, защитного, композиция, матрицы, наращивания, рельефа, фотополимеризующаяся
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНОГО РЕЛЬЕФА МАТРИЦЫ ГАЛЬВАНОПЛАСТИЧЕСКОГО НАРАЩИВАНИЯ, включающая сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата формулыдиметакрилаттриэтиленгликоль, изобутиловый эфир бензоина и этиловый спирт, отличающаяся тем, что, с целью повышения разрешающей способности при толщине фотополимерного слоя 150 - 500 мкм, композиция содержит сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата общей формулы 1, где m = 600, n = 450, мол. мас. 90000 - 100000, и дополнительно содержит ингибитор радикальной полимеризации, выбранной из ряда хлоранил, бензохинон 2,2,6,6-тетраметил-4-оксопиперидин при следующем соотношении компонентов, мас. % :Сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата...
Устройство для измерения рельефа поверхности
Номер патента: 1711554
Опубликовано: 15.06.1994
МПК: G01B 21/30
Метки: поверхности, рельефа
1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ РЕЛЬЕФА ПОВЕРХНОСТИ, содержащее оптически связанные интерферометр с внутренней фазовой модуляцией и координатно-чувствительный фотоприемник, блок управления разверткой фотоприемника, драйвер фазовой модуляции интерферометра и блок обработки сигналов фотоприемника, первый и второй управляющие выходы блока обработки сигналов подключены к входу блока управления разверткой фотоприемника и входу драйвера соответственно, отличающееся тем, что, с целью повышения точности и быстродействия, блок обработки сигналов фотоприемника выполнен в виде последовательно соединенных формирователя временных интервалов, логического блока, счетчика целого числа полос и блока буферной памяти, счетчика дробной доли полосы, включенного...
Способ создания сглаженного рельефа в интегральных схемах
Номер патента: 1766214
Опубликовано: 15.08.1994
Авторы: Валеев, Железнов, Красников, Кузнецов, Лезгян, Наливайко
МПК: H01L 21/306
Метки: интегральных, рельефа, сглаженного, создания, схемах
1. СПОСОБ СОЗДАНИЯ СГЛАЖЕННОГО РЕЛЬЕФА В ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМАХ, включающий формирование на полупроводниковой подложке с активным и пассивным элементами проводников различной ширины, нанесение диэлектрической пленки, формирование фоторезистивной маски с окнами над центральной частью проводников, травление диэлектрической пленки, удаление фоторезиста и формирование переходных контактных окон, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных за счет упрощения и повышения воспроизводимости процесса сглаживания диэлектрика, наносят диэлектрическую пленку толщиной h 2,5 d, где d - толщина проводников, травление диэлектрической пленки проводят жидкостным методом на глубину,...
Способ получения рельефа на полупроводниковой подложке
Номер патента: 1565302
Опубликовано: 27.01.1996
Авторы: Бунин, Иноземцев, Кораблин, Малахов, Самохин, Серова
МПК: G03F 7/26, H01L 21/312
Метки: подложке, полупроводниковой, рельефа
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФА НА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПОДЛОЖКЕ, включающий последовательное нанесение на подложку слоев электронорезисторов с термообработкой каждого слоя, формирование многослойной маски путем экспонирования и проявления системы слоев и перенос рисунка маски в подложку путем химического травления подложки в окнах маски, отличающийся тем, что, с целью повышения точности получения точности элементов рельефа, нанесение на подложку первого слоя электронорезиста осуществляют из раствора сополимеров полиметилметакрилата и метакриловой кислоты в смеси бутилацетата, толуола и этилцеллозольва, причем данный слой наносят толщиной 0,01 - 0,1 мкм, а его термообработку проводят при 210 - 220oС.
Способ формирования рельефа интегральных микросхем
Номер патента: 1834588
Опубликовано: 10.07.1996
Авторы: Берестенко, Боков, Буравцев, Можаров, Мшенская, Сатаров, Шевченко
МПК: G03F 7/26, H01L 21/312
Метки: интегральных, микросхем, рельефа, формирования
...ф 10 кл/смприводит к тому, что резист не сшивается,а края рисунка расплываются, что существенно повышает дефектность.Экспонирование дозой более 5 ф 102кл/см может привести к полимеризациипленки резиста, которая является маской дляплазмополимеризованного слоя, что такжеповышает дефектность.Реактивно-ионное травление плазмополимеризованного стирола проводят при давлении не более 10 Па и удельной мощности2,5 - 3 Вт/см,Травление плазмополимеризованного стирола при давлении более 10 Па ведет кувеличению остаточных частиц в объеме и,к уменьшению длины их свободного пробега,а значит эти частицы имеют возможностьчаще сталкиваться с рабочей поверхностьюподложки и могут быть захвачены, ею, чтоповышает привносимую дефектность,Травление при...
Устройство для определения рельефа и уровня поверхности материалов
Номер патента: 978672
Опубликовано: 27.09.1996
Авторы: Зиновьев, Капусткин, Мишин, Помазанский, Таран, Цейтлин, Шевченко
МПК: G01B 15/04
Метки: поверхности, рельефа, уровня
Устройство для определения рельефа и уровня поверхности материалов, содержащее два источника ионизирующего излучения, выполненные с щелевыми коллиматорами и механизмами перекрытия потока излучения и неподвижно установленные в одной плоскости и расположенные диаметрально противоположно, коллимированный приемник ионизирующего излучения, установленный с возможностью поворота вокруг двух взаимно перпендикулярных осей, одна из которых лежит в плоскости размещения источников, и снабженный механизмом его поворота вокруг осей, последовательно включенные датчик угловой ориентации приемника ионизирующего излучения, счетно-решающий блок и регистрирующую аппаратуру, отличающееся тем, что, с целью расширения диапазона контролируемых участков рельефа...
Лазерное устройство для определения координат рельефа местности с подвижного носителя
Номер патента: 1840747
Опубликовано: 20.02.2009
Авторы: Ермолаева, Капустин, Наумов, Разумовский, Северов, Яцевич
МПК: G01S 17/00
Метки: координат, лазерное, местности, носителя, подвижного, рельефа
Лазерное устройство для определения координат рельефа местности с подвижного носителя, содержащее оптический квантовый генератор (ОКГ), последовательно соединенные сканер и фотоприемник, последовательно соединенные датчик углового положения луча ОКГ и блок обработки текущих локальных координат рельефа местности, отличающееся тем, что, с целью повышения точности измерения координат рельефа местности при расширении поля обзора, в него введены последовательно соединенные опорный генератор, блок установки нулевого уровня рельефа местности, измеритель градиента наклонной дальности, последовательно соединенные блок азимутальной привязки, блок формирования координат и блок памяти, последовательно соединенные датчик пройденного пути носителя,...