G03F 7/32 — жидкие составы для этих целей, например проявители

Номер патента: 396664

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Гунина, Сафонова, Ткачева, Тонких

МПК: G03F 7/32

Метки: органический, позитивных, проявитель, фоторезистов

...0,8 - 1,0 Тра)злеи)е1,20,81,0Травление1,81,5Травление0,61,0Травление1,41,2Травление1,4Травление0,40,60,60,8 68 7 9 8 10 7 1 О 25 - ЗО35 6 8 6 8 базы эмнттера э)(нттсра эмиттера алюминия алюминия Гравленне базы внесения к)кнх-лбо дополтп 1 тель 1 ых изеений в технологический цикл их и(згатовления.Предложенный,проявитель может оыть применен на всех стадиях фоголитографичес)кого процесса при изготовлении планарных полупроводни)новых приборав в тех случаях, когда необходима обработ(ка позитивных фоторез всч)ов.При(менение предложенного,проявителя особенно ценво при изготавлении Гметаллизнрованных фотошаблонов для планарных полупроводниковых приборов, посколыку для них требует 1 ся получение рисунка строгого заданных размеров с че 1)ком...

Номер патента: 374865

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Иностранцы, Такетоси

МПК: G03C 5/30, G03F 7/32

Метки: литографских, пластин, проявитель

...диолу добавляют 144 г фумаровой,кислоты и 3 г п-толуолсульфокислоты. Образовавшуюся смесь нагревают при 240 С в течение 8 час в атмосфере азота, причем воду отгоняют. Получают ненасыщенный полиэфир, имеющий кислотное число 16,5 и т. пл, 184 С,Получение ненасыщенного полпэфпра припроведешш опыта 1,100 г полпэтиленгликоля, имеющего средний мол, в. 200, нагревают до 220 - 240 С ватмосфере азота, после чего добавляют 58 гфумаровой кислоты и 1 г а-толуолсульфокислоты. Реакцию продолжают 10 час, причемобразующуюся в результате воду отгоняют,Полученный полиэфир имеет кислотное число16 и т. пл. 110 С.При проведении опытов 2 - 4 ненасыщенный полиэфир получают так же, как указанодля опыта 1.Получение сложноэфирного диола для опыта 5.К 824 г...

Номер патента: 439035

Опубликовано: 05.08.1974

Автор: Лурье

МПК: G03F 7/32, H01L 21/306

Метки: состав, удаления, фоторезистов

...ос. чаноламин енин иремниевых КТ 326 для удалевался состав, где ледующих объем. мет изобретения Состав для удаления фот нове органических раствори ющи й ся тем, что, с целью логии и повышения качеств состоит из перекиси водоро амина, взятых в следующихПерекись водорода (30Моноэтаноламин 0 резистов елей, о т упрощенияловерхяо а и моно соотношен на ос- лича- техности, он этаяолиях:- 35%-ная5 - 7 мл Изобретение относится к техниграфин и может быть использовизводстве полупроводниковых прИзвестно использование раствове органических соединении д 5фоторезистов,11 редложенный состав обеспечивает ка.чественное удаление фоторезиста, задубленного при высоких температурах, без дополнительного нагревания на всех операциях фотолитографии,...

Номер патента: 1644077

Опубликовано: 23.04.1991

Авторы: Луцив, Старченко

МПК: G03F 7/32

Метки: проявления, раствор, фотоформ

...и фото- форме на пленке БСИК проводилось в11744077 Формула изобретения Раствор для проявления фотоформ избессеребряного светочувствительногоматериала на основе щелочерастворимых. акриловых сополимеров, содержащийбикарбонат натрия и воду, о т л и - 25 ч а ю щ и й с я тем, что, с цельюулучшения качества фотоформ и повышения скорости проявления, он дополнительно содержит алифатический(С -С ) двухатомный спирт при следую 2 630 щем соотношении компонентов, г/л:Викарбонат натрия 18-20Алифатический(С 2-С) двухатомныйспирт 10-20 35 Вода Остальное 1,3" Бутилснгликолй Пример Трнэтиленгликол КонцентРация бикарбонатанатрия,г/л Этнленгликоль Пиэтиленгпиколь Концептрациягликоляг/л 81, Канкм цест 61, Камкм честЬ) Качествонкн контураэлемента...

Номер патента: 1632228

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Есин, Зуева, Калашников, Князева, Модева, Олейник, Семчиков, Таранец, Треушников, Шульпин

МПК: G03F 7/32

Метки: гальванопластического, защитного, композиция, матрицы, наращивания, рельефа, фотополимеризующаяся

...е р 17, Определение средневязкостной молекулярной массы сополимера ММД с МДК и БМД с МДК,Средневяэкостную молекулярную массу Мд сополимеров, синтезированных по(ч) =К 45 50 55 примерам 1-16, определяют вискозиметрическим методом после предварительного метилирования.Метилирование сополимеров проводят по стандартной методике.Для определения характеристической вязкости используют вискозиметр Убеллоде, помещенный в термостатирующую баню 30 С. Последовательно определяют время истечения растворов исследуемого сополимера в ацетоне (концентрации растворов: 10; 5; 2,5; 1,25; 0,6 г/л) и время истечения чистого ацетона.Рассчитывают удельные вязкости ( т/уд) растворов сополимера указанных концентраций сополиЧера (Со) по формулет тотогде 1, то - время...