G03F 7/025 — невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие тройные углерод-углеродные связи, например ацетиленовые соединения

Сносов получения фототермографических репродукций

Загрузка...

Номер патента: 242788

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Иностранец, Иностранна, Соединенные

МПК: B41M 5/26, B41M 5/30, G03F 7/00 ...

Метки: репродукций, сносов, фототермографических

...при температуре 120 С. Получают контрастную копию оригинала.Обработанную пропилгаллатом бумагу получают погружением листа гладкой документной бумаги в раствор 2 вес, ч. пропилгаллата в 00 вес. ч. ацетона.Пример 3. 8 вес. ч. сополиэфира, приготовленного из 50 мол. о/о 1,5-пентандиола, 18,75 мол. /о диэтил-и-фенилендиакрилата и 31,25 мол. /, диэтилового эфира азелаиновой кислоты, растворяют в 73,6 вес. ч. теплого этилацетата. Раствор фильтруют, затем к нему добавляют 0,04 вес. ч. фталоцианинового пигмента, смесь размалывают на шаровой мельнице. Раствор 0,02 вес. ч. перхлората 4-(а-н-аминооксифенил) - 2,6 - бис - г -этоксифенил)-тпапирилия прибавляют к полученной дисперсии и смесь наносят для получения сухого слоя в количестве 0,1...

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания

Номер патента: 1342279

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Александрова, Гусарская, Есин, Калашников, Олейник, Померанцева, Таранец, Треушников

МПК: G03F 7/025

Метки: гальванопластического, защитного, композиция, матрицы, наращивания, рельефа, фотополимеризующаяся

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНОГО РЕЛЬЕФА МАТРИЦЫ ГАЛЬВАНОПЛАСТИЧЕСКОГО НАРАЩИВАНИЯ, включающая сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата формулыдиметакрилаттриэтиленгликоль, изобутиловый эфир бензоина и этиловый спирт, отличающаяся тем, что, с целью повышения разрешающей способности при толщине фотополимерного слоя 150 - 500 мкм, композиция содержит сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата общей формулы 1, где m = 600, n = 450, мол. мас. 90000 - 100000, и дополнительно содержит ингибитор радикальной полимеризации, выбранной из ряда хлоранил, бензохинон 2,2,6,6-тетраметил-4-оксопиперидин при следующем соотношении компонентов, мас. % :Сополимер метакриловой кислоты и метилметакрилата...

Способ получения пленочного фоторезиста

Номер патента: 1621737

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Арефьев, Гильманов, Паутов

МПК: G03F 7/025

Метки: пленочного, фоторезиста

Способ получения пленочного фоторезиста путем смешения водного раствора поливинилового спирта с водной поливинилацетатной дисперсией, введения смачивателя, красителя, полива полученной композиции на полиэтилентерефталатную основу и сушки, отличающийся тем, что, с целью повышения светочувствительности, повышения выделяющей способности и резкости края элемента изображения, в поливинилацетатную дисперсию дополнительно вводят олигомер общей формулы Iгде R - -O-(CH2CH2O)3, -OCH2CH2OCOOCH2CH2 OCOOCH2CH2O-,...