Способ получения селективных эпитаксиальных структур
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Описание

V=D/L,
где V - скорость перемещения подложки, мкм/с;
D - коэффициент диффузии компонента, растворенного в расплаве, см2/с;
L - линейный размер периода повторения (шага) структуры в направлении перемещения, см.
Заявка
2940666/25, 11.06.1980
Новосибирский государственный университет, Институт физики полупроводников СО АН СССР
Марончук Ю. Е, Якушева Н. А
МПК / Метки
МПК: H01L 21/208
Метки: селективных, структур, эпитаксиальных
Опубликовано: 10.11.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-919540-sposob-polucheniya-selektivnykh-ehpitaksialnykh-struktur.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ получения селективных эпитаксиальных структур</a>
Предыдущий патент: Способ термической обработки кремниевых подложек
Следующий патент: Способ получения эпитаксиальных структур
Случайный патент: Устройство для вырубки заготовок из плоского материала