Способ получения селективных эпитаксиальных структур

Номер патента: 919540

Авторы: Марончук, Якушева

Описание

Способ получения селективных эпитаксиальных структур наращиванием из жидкой фазы, включающий перемещение подложки, контактирующей с узкой полоской расплава при принудительном снижении температуры, отличающийся тем, что, целью упрощения технологии получения многоэлементарных структур улучшения их качества, снижают температуру со скоростью 5 10-3 - 10-2 град/с, а скорость перемещения подложки устанавливают из соотношения
V=D/L,
где V - скорость перемещения подложки, мкм/с;
D - коэффициент диффузии компонента, растворенного в расплаве, см2/с;
L - линейный размер периода повторения (шага) структуры в направлении перемещения, см.

Заявка

2940666/25, 11.06.1980

Новосибирский государственный университет, Институт физики полупроводников СО АН СССР

Марончук Ю. Е, Якушева Н. А

МПК / Метки

МПК: H01L 21/208

Метки: селективных, структур, эпитаксиальных

Опубликовано: 10.11.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-919540-sposob-polucheniya-selektivnykh-ehpitaksialnykh-struktur.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ получения селективных эпитаксиальных структур</a>

Похожие патенты