Способ получения эпитаксиальных структур

Номер патента: 776400

Авторы: Марончук, Сушко

Описание

Способ получения эпитаксиальных структур наращиванием из жидкой фазы путем изотермического смешивания расплавов, содержащих низкоактивный и высоактивный компоненты системы твердых растворов, отличающийся тем, что, с целью получения структур твердых расплавов с шириной запрещенной зоны, возрастающей к поверхности, подложку предварительно покрывают слоем расплава, содержащего низкоактивный компонент, затем приводят в контакт с узкой полоской раствора-расплава, содержащего оба компонента и перемещают относительно ее со скоростью V = LD/(2h2) где L - ширина полости контакта, h - толщина слоя расплава на поверхности подложки, D - коэффициент диффузии высокоактивного компонента в расплаве.

Заявка

2588562/25, 09.03.1978

Новосибирский государственный университет, Институт физики полупроводников СО АН СССР

Марончук Ю. Е, Марончук И. Е, Сушко Б. С

МПК / Метки

МПК: H01L 21/208

Метки: структур, эпитаксиальных

Опубликовано: 10.11.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-776400-sposob-polucheniya-ehpitaksialnykh-struktur.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ получения эпитаксиальных структур</a>

Похожие патенты