Способ изготовления силовых кремниевых диодов
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Описание
Eпов= a+bxj+

где Eпов - энергия электронов на поверхности сильнолегированной области,
a = 250 - 500, кэВ, b = 0,4, кэВ/мкм,
xj - глубина залегания p-n-перехода, мкм,

Заявка
4849738/25, 16.07.1990
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе
Аринушкин В. Н, Берман Л. С, Волле В. М, Воронков В. Б, Гейфман Е. М, Грехов И. В, Козлов В. А, Ломасов В. Н, Ременюк А. Д, Ткаченко В. Н, Толстобров М. Г
МПК / Метки
МПК: H01L 21/263
Метки: диодов, кремниевых, силовых
Опубликовано: 20.12.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1809701-sposob-izgotovleniya-silovykh-kremnievykh-diodov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления силовых кремниевых диодов</a>
Предыдущий патент: Самоуплотняющийся дисковый клапан
Следующий патент: Транспортное средство для перевозки денег и ценных грузов
Случайный патент: Силовой блок для выборки орудий лова