Способ отжига ионно-имплантированных слоев полупроводниковых пластин
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Описание
Заявка
4156674/25, 16.09.1986
Аверьянова Т. М, Верин В. М, Генералов Н. А, Зимаков В. П, Зыканова И. В, Коршунов А. Б, Прохоров В. И, Сазонов В. М, Соловьев Н. Г, Старикова Л. Е
МПК / Метки
МПК: H01L 21/268
Метки: ионно-имплантированных, отжига, пластин, полупроводниковых, слоев
Опубликовано: 20.09.2001
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1436767-sposob-otzhiga-ionno-implantirovannykh-sloev-poluprovodnikovykh-plastin.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига ионно-имплантированных слоев полупроводниковых пластин</a>
Предыдущий патент: Способ получения -аминомасляной кислоты
Следующий патент: Способ обработки кремния
Случайный патент: Магнитомодуляционный датчик