Способ отжига ионно-имплантированных слоев полупроводниковых пластин

Описание

Способ отжига ионно-имплантированных слоев полупроводниковых пластин, включающий формирование поглощающего лазерное излучение слоя и нагрев его лазерным излучением, отличающийся тем, что, с целью увеличения степени однородности свойств отожженного слоя, поглощающий лазерное излучение слой формируют внутри или на обратной стороне полупроводниковой пластины путем легирования, толщину и концентрацию примеси в указанном слое выбирают из условия выделения в поглощающем слое максимальной части энергии лазерного излучения, облучение проводят лазером на CO2 в импульсно-периодическом режиме с мощностью излучения, обеспечивающей температуру подложки от 0,55 Tпл до Tпл, где Tпл - температура плавления полупроводниковой пластины.

Заявка

4156674/25, 16.09.1986

Аверьянова Т. М, Верин В. М, Генералов Н. А, Зимаков В. П, Зыканова И. В, Коршунов А. Б, Прохоров В. И, Сазонов В. М, Соловьев Н. Г, Старикова Л. Е

МПК / Метки

МПК: H01L 21/268

Метки: ионно-имплантированных, отжига, пластин, полупроводниковых, слоев

Опубликовано: 20.09.2001

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1436767-sposob-otzhiga-ionno-implantirovannykh-sloev-poluprovodnikovykh-plastin.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига ионно-имплантированных слоев полупроводниковых пластин</a>

Похожие патенты