Способ изготовления полупроводниковых меза-структур

Номер патента: 1085442

Авторы: Ахтман, Бротиковский, Павлынев

Описание

Способ изготовления полупроводниковых меза-структур, включающий проведение фотолитографии и химического изотропного травления на глубину h, создающих выпрямительные меза-элементы, и защиту меза-элементов стекловидными пленками, отличающийся тем, что, с целью повышения пробивных напряжений меза-элементов, операцию фотолитографии проводят с использованием фотошаблона, рисунок которого представляет собой n дорожек (при n > 1) шириной h и расстоянием между центрами дорожек, равным +2b, где h/2 < b < h.

Заявка

3452774/25, 10.02.1982

Всесоюзный электротехнический институт им. В. И. Ленина

Бротиковский О. И, Павлынев Я. И, Ахтман Л. К

МПК / Метки

МПК: H01L 21/316

Метки: меза-структур, полупроводниковых

Опубликовано: 20.06.2000

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1085442-sposob-izgotovleniya-poluprovodnikovykh-meza-struktur.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления полупроводниковых меза-структур</a>

Похожие патенты