G03F — Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей

Номер патента: 1112913

Опубликовано: 10.11.1999

Авторы: Васильев, Герасименко

МПК: G03F 7/26

Метки: подложке, стеклянной, фотошаблона

Способ изготовления фотошаблона на стеклянной подложке, включающий нанесение на нее пленки хрома, фотолитографию по металлу и ионное облучение, отличающийся тем, что, с целью повышения износостойкости фотошаблона, пленку перед фотолитографией облучают ионами бора или азота, или углерода с энергией, обеспечивающей средний проецированный пробег ионов (Rp) в пределах 1/3 Rp dM, где dM - при дозах обучения 1017-5oC1818ион/см2, а после фотолитографии нагревают фотошаблон...

Номер патента: 275737

Опубликовано: 20.05.2000

Авторы: Вишин, Кошкин, Сомов, Цветков

МПК: G03C 1/74, G03F 7/16

Метки: винтовой, лентопротяжный, тракт, эмульсионно-поливной

Винтовой лентопротяжный тракт эмульсионно-поливной машины, содержащей корпус, поворотный барабан, направляющие элементы и привод, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции и исключения обрывов вследствие усадки пленки, на вращающемся барабане равномерно расположены вдоль его образующей направляющие для кареток с роликами, которые связаны между собой бесконечными цепями, при этом каретки снабжены опорными подпружиненными подушками, несущими пленку, а бесконечные цепи посредством звездочек и шестерен кинематически связаны с приводом барабана.

Номер патента: 1083807

Опубликовано: 10.07.2000

Авторы: Белицкая, Белицкий, Вайнер, Коршунов, Мелехов, Михлин, Трахтенберг

МПК: G03F 7/027

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм, включающая ацетосукцинат целлюлозы, триэтиленгликольдиметакрилат, глицидилметакрилат, 1-хлорантрахинон, тетра(оксипропил)этилендиамин, глицерин, полиоксиэтилен (мол.м. 4500 - 5000), спирт этиловый и ацетон, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности, она дополнительно содержит смесь монометакрилата глицерина, диметакрилата глицерина, триметакрилата глицерина, тетраметакрилата глицерина, пентаметакрилата глицерина и гексаметакрилата глицерина при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:Ацетосукцинат целлюлозы - 95 - 105Триэтиленгликольдиметакрилат - 18 - 22Глицидилметакрилат...

Номер патента: 1621737

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Арефьев, Гильманов, Паутов

МПК: G03F 7/025

Метки: пленочного, фоторезиста

Способ получения пленочного фоторезиста путем смешения водного раствора поливинилового спирта с водной поливинилацетатной дисперсией, введения смачивателя, красителя, полива полученной композиции на полиэтилентерефталатную основу и сушки, отличающийся тем, что, с целью повышения светочувствительности, повышения выделяющей способности и резкости края элемента изображения, в поливинилацетатную дисперсию дополнительно вводят олигомер общей формулы Iгде R - -O-(CH2CH2O)3, -OCH2CH2OCOOCH2CH2 OCOOCH2CH2O-,...

Номер патента: 1598707

Опубликовано: 20.01.2008

Авторы: Довнар, Кисель, Красницкий, Турцевич, Цыбулько

МПК: G03F 7/26, H01L 21/312

Метки: интегральных, схем, элементов

Способ изготовления элементов интегральных схем, включающий формирование на подложке функционального слоя, формирование на нем фоторезистивной маски, сухое травление функционального слоя через маску, удаление фоторезистивной маски, осаждение слоя планаризующего материала и его анизотропное травление до полного вскрытия планарной поверхности функционального слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения качества элементов интегральных схем за счет снижения их дефектности, перед формированием фоторезистивной маски на поверхность функционального слоя наносят слой тантала, перед сухим травлением функционального слоя осуществляют сухое травление слоя тантала, а перед осаждением слоя...