G03F 7/027 — невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие двойные углерод-углеродные связи, например этиленовые соединения
Способ изготовления печатных форм
Номер патента: 166931
Опубликовано: 01.01.1964
Авторы: Акоева, Гординский, Пущина, Хнмка, Хорошун
МПК: G03C 1/68, G03F 7/027
...52 г сополимерд метакрило- ВОЙ кислОты и метилметакрилата, 25 мл эфира ТГМ-З, 0,7 г метилового эфира бензош 1 а и 7 мл дибутилфталата растворяют в 100 лг смеси спирта и ацетона (1: 1). Полученным вязким раствором поливают алюминиевую пластину и оставляют в темноте до удаления растворителей, Получают светочувствительную пластину с толщиной слоя до 1 мк в зависимости от концентрации и количества раствора для полива. Пластины могут храниться в течение длительного времени, при этом све. точувствительность их не снижается.Для изготовления печатной формы пластину экспонируют через негатив или диапозитив кварцевой лампой на расстоянии 70 см в течение 10 - 15 мин, обрабатывают 1 - 2%-иым водным раствором бикарбопата натрия или соды при...
Фотополимеризуемая композиция
Номер патента: 1789540
Опубликовано: 23.01.1993
Авторы: Авраменко, Белюнене, Кашевский, Ковальчук, Комарова, Лазаускене, Стреконис
МПК: C09D 167/07, G03F 7/027
Метки: композиция, фотополимеризуемая
...полимерной композиции гексаметилендиамина приводит к увеличению теплового эффекта реакции, в результате чего полимерная композиция в момент отверждения разогревается. Повышение температуры способствует улучшению совместимости компонентов, С другой стороны, отверждение композиции происходит под действием УФ-света (фотоинициирование, полимеризация). Независимость скорости фотохимического инициирования от температуры приводит к быстрому отверждению композиции в разогретом состоянии, что обеспечивает фиксацию достигнутой прочности композиции в моментразогрева за счет действия гексаметилендиамина.Изобретение иллюстрируется следующими примерами,П р и м е р ы 1-5, В расчетное количество олигоэфиракрилата марки ОКМдозированного весовым методом,...
Фотополимеризующаяся защитная маска
Номер патента: 1550745
Опубликовано: 15.10.1994
Авторы: Бицаева, Дюнова, Макаров, Максимова, Перепечкина
МПК: B23K 35/24, G03F 7/027
Метки: защитная, маска, фотополимеризующаяся
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ ЗАЩИТНАЯ МАСКА при нанесении локальных гальванических покрытий и при пайке волной припоя, содержащая смешанный эфир эпоксидной смолы общей формулыR1-Rn-O-OC гдеR1 - -CH2= CH-CO-O-CH2- CH2-;R- -O O-CH2- -CH2-;n = 1 - 2,с мол. м. 600 - 2000, олигоэфиракрилат, фотоинициатор, гидрохинон, аэросил, краситель, полиметилсилоксановая жидкость,...
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм
Номер патента: 1083807
Опубликовано: 10.07.2000
Авторы: Белицкая, Белицкий, Вайнер, Коршунов, Мелехов, Михлин, Трахтенберг
МПК: G03F 7/027
Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм, включающая ацетосукцинат целлюлозы, триэтиленгликольдиметакрилат, глицидилметакрилат, 1-хлорантрахинон, тетра(оксипропил)этилендиамин, глицерин, полиоксиэтилен (мол.м. 4500 - 5000), спирт этиловый и ацетон, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности, она дополнительно содержит смесь монометакрилата глицерина, диметакрилата глицерина, триметакрилата глицерина, тетраметакрилата глицерина, пентаметакрилата глицерина и гексаметакрилата глицерина при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:Ацетосукцинат целлюлозы - 95 - 105Триэтиленгликольдиметакрилат - 18 - 22Глицидилметакрилат...