C23C 14/38 — с помощью тлеющего разряда постоянного тока

Номер патента: 209942

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Гриншпун, Киршфельд, Кокле, Лациё, Озеров

МПК: C23C 14/38

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...позволяет упростить конструкцию. Для этого электрод тлеющего разряда расположен под испарителем и служит одновременно поддоном-экраном,На чертеже представлено описываемое устройство.Устройство состоит из вакуумной камеры 1, крышки 2, каретки 3, которая вместе с барабаном 4 может перекатываться иа транспортную тележку б для транспортировки на перезарядку; привода б для вращения в камере барабана во время напыления, защитного экрана 7 у входа патрубка откачной системы, плоскости электрода 8 тлеющего разряда, сменного испарителя 9 периодического действия и пульта управления 10.5 Барабан 4 заряжают подготовленными длянапаривания деталями и вкатывают с тележки б в камеру 1. Затем в камере закрепляют заряженный испаритель...

Номер патента: 220714

Опубликовано: 01.01.1968

Авторы: Аношнн, Роижин, Соколов

МПК: C23C 14/38

Метки: вакууме, нанесения, покрытий

...снабжен электрически связанными с ним направляющими штангами. Это обеспечивает равномерное покрытие на изделиях сложной конфигурации.На чертеже изображено описываемое устройство.Оцо состоит из вакуумной камеры 1, испарителя 2, катода 3 и направляющих штацг 4. Вакуумная камера электрически связана с плюсом высоковольтного выпрямителя и является анодом.Обрабатываемые детали б закрепляют ца направляющих штангах 4, и в цспаритель загружают испаряемый материал б. После этого камеру закрывают и вакуумируют. Получив необходимое разрежение, приступают к нанесению покрытия. От высоковольтного выпрямителя ца катод и анод подают разгоняющее напряжение до 3 кв. Через вентиль 7 в вакуумную камеру поступает балластный газ для повышения давления до...

Номер патента: 259595

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Ленинградский, Тупиков

МПК: C23C 14/38

Метки: нанесения, пленок

...в положение, когда против окна в аноде не оказывается подложки. Затем между катодом и анодом включается основной тлеющий разряд, в котором происходит распыление катода. После предварительного разогрева катода подается отрицательный относительно анода потенциал на держатель. В зависимости от расстояния 7 между анодом и держателем при заданном давлении рабочего газа в вакуумной камере устройство обеспечивает олин из двух режимов ионной бомбардировки поверхности держателя (а во время напыления - подложки) против окна в аноде: режим ионной бомбардировки со смещением в основном разряде, когда расстояние Е прп данном давлении рабочего газа мало для горения второго разряда между анодом и держателем и режим ионной бомбардировки в дополнительном...

Номер патента: 273616

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Александров, Шалимов

МПК: C23C 14/38, C23C 14/40

Метки: катодного, распыления

...расположены дисковые подложкодержатели.Такое выполнение повышает к во покрытия и при этом оптимально ьзуется рабочее пространство камеры.На чертеже представлено предлагаемое устройство.Оно состоит из камеры 1 с размещенными внутри нее катодами 2 и подложкодержателями 3. Анодом служит камера. Катоды выполнены в виде гребенки, заполняющей объем камеры, между зубьями которой, имеющими форму дисков, расположены дисковые подложкодержатели.Герметичная камера откачивается до давления не более 5 10мм рт. ст. При помощи натекателя 4 в камеру вводится рабочий газ и давление повышается до 1 10 - з - 2 10 - г м.н ТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ рт. ст. К катодам из распыляемык лов прикладывают потенциал 1 - 6 к симости от заданнык электрофизиче рактеристпк...

Номер патента: 336381

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Александров, Квасников, Радвакский, Шалимов

МПК: C23C 14/38

Метки: катодным, нанесения, пленок, распылением

...стенки и основание газоразрядной камеры, Натекатель Б служит для напуска рабочего газа в камеру.В газоразрядной камере создают давление, не выше 1 10мм рт, ст, Через натекатель путем напуска рабочего газа, в данном случае аргона, давление повышают до(1 - ;8), 10 - - мм рт. ст. К распыляемому катоду прикладывают потенциал - (2 - 6) кв.Положительные ионы аргона ускоряются по 5 тенциалом катода и бомбардируют его. Выбитые атомы материала катода осаждаютсяна подложках б.Выполняя распыляемый катод нз плоскихколец различного диаметра и располагая этн10 кольца на одной оси с подложкодержателемна различном расстоянии от него, можно корректировать толщину напыляемых пленок наплощади, сравнимой с площадью катода,вследствие того, что можно...

Номер патента: 387048

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Колтунова, Петрушин, Радуцкий, Ройх

МПК: C23C 14/38

Метки: 1союзная••п, гуцимш1

...равным потенциалу, налагаемому при обработке в поле тлеющего разряда.При осуществлении способа поверхность подвергают действию тлеющего разряда, пос ле чего в той же камере при комнатной температуре наносят хромовое покрытие толщиной 20 - 30 мкл 4. Деталь подвергают действию тлеющего разряда в атмосфере воздуха при ускоряющем напряжении 480 в, плотности тока 5 - 7 ма/сме и давлении -1 мл 4 рт. ст.в течение -5 мин. Деталь оставляют под тем же отрицательным потенциалом в процессе последующей откачки до давления - 110 - 4 лм рт. ст. и в течение всего процесса нанесения вакуумного хромового покрытия. Получение качественных покрытий достигается на деталях из сплавов, содержащих кремний и на сплавах, не содержащих кремния, при...

Номер патента: 388060

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вайнштейн, Жуковска, Изобретени, Сайфуллин, Смышл, Фахрутдинов, Черников, Чистополов

МПК: C23C 14/38

Метки: катодным, переменной, покрытий, распылением, толщины

...зазор между секциями уменьшает толщину покрытия в соответствующих местах напыляемых подложек,что отрицательно сказывается на качестве покрытий.Цель изобретения - повышение:качествапокрытий. 2Для этого каждая секция катода выпо ав,виде тороида, торцы которого срезан дуглом. ция обеспечивается установленными в канавках камеры резиновыми уплотнителями 8,На фланце крышки 5 установлен вакуумный ввод вращения 9, в корпусе которого находится червячная передача 10; вращение червяка производится через шкивную передачу 11 от электродвигателя 12, установленного на тележке б.На валу ввода вакуумного вращательного механизма установлен барабан-анод 3, на котором крепятся напыляемые подложки 13, На левой крышечке 4 установлен цилиндрический катод 2,...

Номер патента: 419368

Опубликовано: 15.03.1974

Авторы: Букин, Власов, Клебанов, Розанов, Сумароков

МПК: C23C 14/38

Метки: 419368

...Г)1;Г:у 0 к;1 т)шкм 10, В д Гвстс Г Кдтд;)дй цдзс)цсц 1 и 1- лицдр.тески Одск 11 цз;здг 511 цтнц)О )дте.р и я л 1, ж е с т кт)те:. Цс ц тс ф е 1) р д м;1 Гц 1 Г- :ьВ ссрдсчц:1 ом 1: Пзолрдвдццый дт кдтмштки 10 лэлсктрттс,Ой Вттлкой 1 т. Бдсткссрдстт:т:К) /. СВ 513/1;ь прж.Нои 1/ с издл:руоитс;т:1 т., гдвкттц 10. ОоаОтк электродтгитцд ктуикц 10 и 1 г;ют током регулируемой частоты; дмцлцтулы дт гсцсрдгорд 1 т.Рс)к:1) то Вдрк. Остц 01 Обр д -/ игт ЬЮ т 7,РЯ/л Изд. 1 Х,. Подписноествспи огостроп СССР и открытй наб., д. 4/5 30648751 ИИПИ Государ ста Совета Мин лам изобретений ва, Ж, Раушска пказ ираж коит по дс Моск ботки мелкозернистых искусственных алмазов, применяемых в инструменте на бакелитовой связке, с целью повышения адгезионных...

Номер патента: 1536467

Опубликовано: 15.01.1990

Авторы: Кръстев, Минчев, Савов

МПК: C23C 14/38, H01T 15/00

Метки: газоразрядном, гашения, дуги, приборе

...Тогда на анод и катод газоразрядного прибора 3 прикладывается обратное напряжение, определенное соотношением между обмотками двух частейпервичной обмотки насьпцающегося трансформатора 5. Это обратное напряжение вызывает на определенное времясмену направления электрического поля в газоразрядном приборе 3, которое содействует процессу деионизации в пространстве анод - катод газоразрядного прибора 3.Через тиристор 7 протекает разрядный ток конденсатора 6 и токвыпрямителя 1 к катоду газоразрядного прибора 3 первичной обмотки насыщающегося трансформатора 5 и дроссель 2, причем магнитопровод насыщающегося трансформатора 5 пере- намагничивается от отрицательной величины индукции насыщения до ее поло-. жительной величины. Часть...

Номер патента: 1835434

Опубликовано: 23.08.1993

Авторы: Головко, Диульски, Фахрутдинов

МПК: C23C 14/38

Метки: источник, плазмы, разрядом, тлеющим

...Од мая подложка, 9 - подложкодержатель. (ЛВакуумная напылительная установка, Д, имеющая источник плазмы для очистки, ра- С ) ботает следующим образом. рПри давлении 1,10 - 1.10 мм рт.ст. на электрод подается напряжение, возникающий тлеющйй разряд создает энергию ионов, бомбардирующих обрабатываемую поверхность, которые очищают поверхность от загрязнения,Для определения оптимальной формы электрода тлеющего разряда источника плазмы для очистки тлеющим разрядом было изготовлено 8 электродов:1835434 4 са по отнрытия нение 120 оси элл одн разрядо 1) с цилиндрическими вертикальными трубками2) с эллипсом, большая ось которого равна 8" величинам темного катодного пространства3) с эллипсом, большая ось которого равна 10 величинам -"-,4) с...

Номер патента: 1243397

Опубликовано: 27.12.1995

Автор: Левченко

МПК: C23C 14/38

Метки: мишени, сегнетокерамической

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЕГНЕТОКЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ для вакуумного нанесения пленок, включающий формовку заготовки из материала мишени с последующим обжигом, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости параметров получаемых пленок, после обжига мишень обрабатывают током разряда плотностью 10-400 мА/см2 в течение 9-12 ч.

Номер патента: 1189139

Опубликовано: 20.04.1997

Авторы: Виноградов, Волчков, Гришаев, Коган, Корселадзе, Смирнов, Черкасов, Ческис

МПК: C23C 14/38

Метки: плазме, разряда, стальных, тлеющего, химико-термической, чугунных

1 Способ химико-термической обработки стальных и чугунных деталей в плазме тлеющего разряда при 500 680 С с многократным чередованием стадий изотермической выдержки, первая стадия в аммиаке, вторая в аргоне, отличающийся тем, что, с целью повышения сопротивления деталей износу в условиях агрессивных сред за счет формирования на обрабатываемой поверхности деталей нитрокарбидной зоны, после многократного чередования стадий изотермической выдержки проводят дополнительную изотермическую выдержку при 500 600 С в аммиачно-пропановой смеси в течение 2-2,5 ч.

Номер патента: 1632089

Опубликовано: 27.12.2013

Авторы: Григорович, Рулинский, Фигурин

МПК: C23C 14/38

Метки: вакууме, металлических, покрытий

Устройство для получения металлических покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру с разреженной газовой средой, в которой размещены подложка, анод и катод, отличающееся тем, что, с целью повышения адгезионной прочности покрытий, катод установлен внутри анода в одной плоскости с ним, а подложка закреплена напротив катода в темном фарадеевом пространстве.