C23C 14/30 — электронной бомбардировкой
Электронный испаритель
Номер патента: 126569
Опубликовано: 01.01.1960
Авторы: Виноградов, Рыбчинский, Ульянов
МПК: C23C 14/30
Метки: испаритель, электронный
...пушка 4, создающая электроннып пучок лучей, и полюса о расположены вне зоны запыления. Корпус испаритсля представляет собой охлаждаемый водой медный фланец 6, в который впаяны два патрубка. В боковох наклонном патруоке размещена электронная пушка 7 с линейчатым катодом, смонтированным вместе с вакуумным электровводом о. В центральном патрубке, представляющем собой охлаждаемый медный цилиндр, помещается стержень 9 испаряв. мого металла. Перемещение тержня в вертикальном направлении осуцествляется при помощи охлаждаемого водой толкателя 10, проходящего через вакуумное уплотнение 11 и приводимого в движешге поворотом маховичка 12. Электромагнит 13 укреплен на подвижном кольце 14 и может поворачиваться на небольшой угол в...
182250
Номер патента: 182250
Опубликовано: 01.01.1966
МПК: C23C 14/30
Метки: 182250
...и регулируют фокусирующие линзы так, чтобы получить макси з мальное значение тока термоэмиссии,2. Способ по п, 1,с целью исключениячуч электрическогомой измерения тока отличающийся тем, что, влияния на электронный поля, создаваемого схетермоэмнссии, и нсклюПри размерной импульсной электроннолучевой обработке материалов необходимо сфокусировать электронный пучок так, чтобы на обрабатываемой детали получилось электронное пятно минимального диаметра.Предлагается для обнаружения момента острой фокусировки пучка использовать термоэлектронную эмиссию с обрабатываемой детали или (если материал обрабатываемой детали не позволяет получить значительную эмиссию) со специальной контрольной пластины, вводимой вместо детали. Известно, что при...
191002
Номер патента: 191002
Опубликовано: 01.01.1967
МПК: C23C 14/30
Метки: 191002
...вращения поворотной головки на угол, соответствующий углу совмещения отверстия охлаждаемого тигля 3 и тигля-спутника 5.Механизм поступательного движения длянепрерывной или периодической подачи штабиков в зону испарения состоит из привода 8, штока 9, толкателя 10 и компенсатора 11.Многокомпонентный автотигельный испаритель собирается на отдельном фланце с металлическими уплотнителями. Конструкция 10 допускает прогрев для обезгаживания всегоустройства до 400 - 450 С.Работает данное устройство следующим образом. Поворотная головка 4 с тиглями-спутниками 5, выведенными из охлаждаемого тиг ля 3, поворачивается от устройства 7 поворота головки таким образом, что необходимый штабик для испарения в своем тигле-спутнике устанавливается...
Способ получения электропроводящих и диэлектрических тонких пленок
Номер патента: 287494
Опубликовано: 01.01.1970
Авторы: Киевский, Кучеренко, Саенко
МПК: C23C 14/30
Метки: диэлектрических, пленок, тонких, электропроводящих
...фокусируется на стержень и в мест доводит его температуру до темпер рсния, Е-Еа пути к подложке испар шество понпзпруется электроннь Электронный пучок взаимодейств зующейся плазмой, в результате ч ется пучковоплазменная неусто скрещенных полях, приводящая к коэффициента ионизации. ции паров рабо дгезии пленок с предлагаемому тю рабочего ве льном магнитн к электронному чегопо спо- Шествниз ния а ки по низац прод шенгпополях ы и пучСхема, иллюстрирующая предложенный об, представлена на чертеже.Здесь ЭП - электронная пушка; 1 - ожкодеркатель с напыляемой пленкой; лектронный пучок; 3 - поток паров и и - магнитный экран, защищающий элек тую .пушку от продольпого магнитного Н 1 камеры ионизации; б. - стенки камерь изации (анод); б -...
354016
Номер патента: 354016
Опубликовано: 01.01.1972
МПК: C23C 14/30
Метки: 354016
...для Выход 1 иОПОВ, я ОоряоятыВяемяя деталь разменсия па Оси каверн и имеет отрицательный потенциал.Для облегчения условий зажигания и по вышеция степени иоцизацпир 5 дна 51 ея меря помсщсця Внитное поле, создаваемоесоленоидом.При давлении 10 - 4 - 10 - " тор металл в исиаритслс нагревается до температуры, при которой давление паров достигает 10 - 10 втор, ца анод и катод подастся постоянное напряжение 200 - 600 в, и в парах металла В Гязорязрядпои камере зяжпгястс 5 рязряд.Благодаря наложению магнитного ноля увеличивается длица пробега электронов, образовавшихся при ион изации, движущихся пО циелОидсалпытряеетория.11 и ООВсрша 10 щих колебания между катодцыми электродами (, претерпевал большое число столкцоВспий с ятОГсями хстялла, что...
368779
Номер патента: 368779
Опубликовано: 01.01.1973
МПК: B21D 33/00, C23C 14/30
Метки: 368779
...по делам изобретений и открытии при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 подогрева и увеличивают амплитуду отклонения электронных лучей всех электронных пушек.По достижении скорости ленты дискретного значения отключают часть электронных пушек со временем коммутации, близким к нулю, и восстанавливают величину амплитуды отклонения неотключенных пушек до первоначальной величины. По окончании процесса смены мотка скорость ленты вновь увеличивают, включают отключенные электронные пушки со временем коммутации, близким к нулю, и увеличивают амплитуду отклонения электронных пушек. По достижении лентой первоначальной скорости амплитуда отклонения доводится до первоначального значения. Изменение...
Г
Номер патента: 380155
Опубликовано: 15.12.1974
МПК: C23C 14/30
...путем осажден зированной парообразной фазы, сформированной в пучки, регулируемые по составу. Ионизацию парообразной фазы осуществляют электронами, энергию которых выбирают в соответствии с потенциалами ионнзацин полиатомных молекул и энергиен диссоцпации их под действием электронного удара на молекулы (атомы) меньших масс для изменения относительных количеств ионных составляющих пучков.При осуществлении способа, варьируя энергшо ионизирующих электронов, можно изменять соотношение ионных видов конденсируемой системы за счет вклада от днссоциативной ионизации,Пример. Прп осаждении пленок сурьмы на подложке из свежесколотых на воздухе монокристаллов хлористого калия, подогретых до 95 - 110 С в парообразной фазе, содержащей...
Устройство для обработки порошков в вакууме
Номер патента: 1749315
Опубликовано: 23.07.1992
Авторы: Гракович, Красовский, Шелестова
МПК: C23C 14/30
...лент мешалки с сосудом реактора. С помоЩью изолятора 8 мешалка 5соединяется с приводом 9, а посредством 20скользящего контакта 10 - с фидером ВЧ-генератора (не показан). Для создания необходимой газовой среды в реакторе 1 служитсистема напуска газа в виде натекателя 11или испарителя 12, 25Устройство работает следу ощим образом.Обрабатываемый порошок помещаетсяна до 2, Вакуумная камера откачивается донеобходимогб давления. Затем включается 30привод 9 мешалки 5, например электродвигатсль, который приводит в движение кольца б: Скорость вращения выбирается такой,чтобы частицы порошка не успевали осестьна дно 1 и, сталкиваясь с лентами колец б. 35постоянно находились во взвешенном со.стоянии, После установления стационарного...
Способ подготовки поверхности перед нанесением жаростойких покрытий
Номер патента: 1448760
Опубликовано: 20.09.2005
Авторы: Волков, Каляев, Нефедова, Шавкунов
МПК: C23C 14/02, C23C 14/30
Метки: жаростойких, нанесением, поверхности, подготовки, покрытий
Способ подготовки поверхности перед нанесением жаростойких покрытий электронно-лучевым напылением, при котором выполняют виброшлифование, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества покрытия и повышения усталостной прочности лопаток турбомашины, после виброшлифования лопатки подвергают поверхностной пластической деформации и рекристаллизационному отжигу.
Способ электронно-лучевого нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 1526272
Опубликовано: 27.12.2013
Авторы: Алехнович, Ващенко, Вейник, Шипко
МПК: C23C 14/30
Метки: вакууме, нанесения, покрытий, электронно-лучевого
Способ электронно-лучевого нанесения покрытия в вакууме, включающий активирование поверхности изделия управляемым потоком электронов, электронно-лучевое испарение материала покрытия и последующее осаждение его на изделие, отличающийся тем, что, с целью повышения твердости и износостойкости титановых сплавов с хромовым покрытием, активирование поверхности осуществляют электронным лучом с удельной мощностью 600-1000 Вт/см2 , после чего проводят электронно-лучевое испарение хрома и его осаждение толщиной 2-50 мкм, после чего нагревают изделие электронным лучом на глубину, превышающую толщину покрытия.