Патенты с меткой «микрорельефа»

Номер патента: 1232491

Опубликовано: 23.05.1986

Авторы: Орлов, Пустовойтов, Солдатов

МПК: B29C 37/00

Метки: микрорельефа, образования, регулярного

...наисходной поверхности детали назначаются в зависимости от конкретныхэксплуатационных условий работы поверхности детали. В соответствиис этим назначается требуемая геометрия резца и параметры режимапредлагаемого способа создания регулярного микрорельефа. При этомможно использовать рекомендации порежимам обработки для вибрационногонакатывания.П р и м е р . Для создания предлагаемым способом регулярного микрорельефа в вице синусоидальных канавок глубиной 13 мкм на предварительно обработанной по 9-му классу шероховатости рабочей резиновой поверхности фрикционного ролика10 лентопротяжного устройства резцомс радиусом при вершине 2 мм, передним и задним углом заточки 15 необходимо обеспечить следующие режимы 5 резаниями частота...

Номер патента: 1306698

Опубликовано: 30.04.1987

Авторы: Зотов, Терещенко

МПК: B24B 39/00

Метки: изделия, микрорельефа, поверхности

...предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для получения микрорельефа на поверхности изделий, например пары трения,Цель изобретения - расширение технологических возможностей путем создания микрорельефа переменной глубины,.На чертеже изображено приспособление для нанесения микрорельефа, поясняющее способ.Приспособление состоит из станины 1, на которой установлено обрабатываемое изделие 2 с покрытием 3. В качестве покрытия может быть использовано антифрикционное покрытие из полимера, композита и т. д. Инструмент выполнен в виде абразивных зерен 4, расположенных на упругой подложке 5, выполненной, например, из резины, полиуретана и полиэтилена и т. д., закрепленной на жестком...

Номер патента: 1350649

Опубликовано: 07.11.1987

Авторы: Овчинников, Панчев

МПК: G03G 16/00

Метки: копирования, матриц, микрорельефа, термопластических, тиснением

...Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Сущность способа состоит в том, .что при совместной прокатке совмещенных регистрирующими слоями матрицы и носителя копии в одну сторону происходит как бы прикатывание микрорельефа, т.е, после прокатки вершины его наклоняются в противоположную направлению движения носителей сторону, причем к четвертому циклу тиснения наклон их стабилизируется и при дальнейших циклах тиснения изменение оптической плотности происходит только за счет износа микрорельефа. При первых же циклах изменение оптической плотности в основном происходит за счет изменения формы микрорельефа, его наклона к плоскости носителя, что объясняется невозможностью полного "сшивания" термопластического...

Номер патента: 1220243

Опубликовано: 28.02.1988

Авторы: Дмитриева, Цимбал, Шнейдер

МПК: B24B 39/04

Метки: микрорельефа, нанесения, регулярного

...6, соединенной регулируемой тягой 7 с . эксцентриком 8, электродвигателя 9. Подшипники. З.и 4 закреплены во втул ке О, соединенной с установочной пластиной 1 с базовыми поверхностями для закрепления в резцедержателе станка и 7-образной станиной 12, Электродвигатель снабжен.фланцем для закрепления на станине и установлен перпендикулярно к .базовым поверхностям установочной пластины.Для образования регулярного микрорельефа устройство с помощью пласты ны 11 закрепляется в резцедержателе, после чего производится его настройка на заданные режимы. Величина амплитуды осцилляции виброголовки устанавливается сменными эксцентриками 8.Величина усилия давления вибрационной головки на обрабатываемую поверхность устанавливается с помощью...

Номер патента: 1419869

Опубликовано: 30.08.1988

Авторы: Букин, Ильин, Соловьев, Тихонов, Шнейдер

МПК: B24B 39/00, F28F 3/04

Метки: вибронакатыванием, микрорельефа, ударным

...длина клина 1=1,5 мм.Осцилляционное движение всех инденторов осуществляют с частотой, при которой дробная часть И ее отношения к числу оборотов трубы равна нулю. При частоте осцилляции 1=3000 минтрубу вращают со скоростью п=12,5 об/мин /п=240,0; Я=О). Подачу инденторов определяют извыражения Ь= --- , где Я - великИи чина подачи; ь - диаметр трубы; п - скорость вращения трубы; 1частота осцилляции; к - коэффициент, равный единице при и= О.Исходя из этого выражения, при к=1 (п=12,5 об/мин) величина подачи 5=0,65 мм/об. Расстояние между инденторами 4, 5 установленного кратным всличине подачи Б и равно 9,75 мм.Угловое сме)цение индентора 2 относи где )и -- целое положительное число (О, 1, 2, 3); при ср=90 и )п=100 смеще ние составляет 65,163...

Номер патента: 1467390

Опубликовано: 23.03.1989

Авторы: Киркач, Копко, Михайлишин, Садженица, Соболев

МПК: G01B 11/30

Метки: видеои, глубины, информационного, компакт-дисков, микрорельефа, оптических, отражательных

...отражения уменьшается почти донуля, т.е. такая поверхность перестает зеркально отражать и становитсядиффузно отражающим объектом.В зависимости от назначения оптического диска глубина информационногомикрорельефа на нем принимает значения в пределах 700-1600 Х. Спектральная область, в которой наблюдаются интерференционные минимумыв спектре зеркального отражения, соответствующие этим глубинам, заключена между длинами волн, равными 0,42и 0,96 мкм соответственно. Дпя четкой регистрации экстремума спектральную область необходимо расширитьна 0,15-0,2 мкм в обе стороны. Впредельном случае требуемый спектральный диапазон измерения 0,2 -1,1 мам,При помощи регистрирующего спектрометра с приставкой зеркального от, -ражения регистрируют...

Номер патента: 1481041

Опубликовано: 23.05.1989

Авторы: Букин, Данилова, Суладзе, Тихонов, Явношан

МПК: B24B 39/00

Метки: микрорельефа, образования

...диаметр деформирующего инструмента 1 О мм; усилие накат 1481041ки 104 Н; смазку осуществляют маслом Н 20. В результате гладкого накатывания ширина входных отверстий равна 0,2 мм, а чистота поверхности - 0,05 мкм (фиг. 3). Глубина впадин 0,7 мм. 5Усилие накатки рассчитывают по формуле,при условии, что обработка осуществляется,в 10 проходов,Пример 2. На торце цилиндрическойзаготовки диаметром 20 мм выполняютвпадины в виде дискретных цилиндрических отверстий с шагом 3 мм, имеющихдиаметр 0,5 мм и глубину 1 мм, Отверстия сверлят при частоте п,6 =800 об/мин5(смазку осуществляют маслом И) и подаче =0,2 мм/об. В результате получаютповерхность с цилиндрическими углублениями диаметром 0,5 мм, глубиной 1 мм и,шагом 3 мм.Пример 3. На...

Номер патента: 1583535

Опубликовано: 07.08.1990

Авторы: Косюк, Майборода, Мацелюх, Михайловский

МПК: E02B 11/00

Метки: микрорельефа, осушительной, развитого, системы, строительства, условиях

...развитого микрорельефа, включающий прокладку закрытой дренажной сети с устройствами для 20 приема и отвода поверхностных вод иподсыпку замкнутых понижений привозным гумусным грунтом, о т л и ч а ющ и й с я тем, что, с целью повышения эффективности в работе дренажной -25 сети при сокращении объема земляныхработ, вынутый при прокладке дренажной сети грунт укладывают в валик со стороны наинизшей отметки понижения а привозной грунт складируют на междренных участках замкнутых положений, после чего производят засыпку траншей и понижений и общую планировку с обеспечением стока к устрой- ствам для приема и отвода поверхностЗс ных вод. Составитель А,Левчиковедактор В.Данко Техред Д.Олийнык Корректор М. Максимишине Заказ 2235 Тираж 53 Подписное...

Номер патента: 1586897

Опубликовано: 23.08.1990

Авторы: Ивахненко, Николаев, Пискун

МПК: B24B 39/04

Метки: инструмент, микрорельефа, образования

...числом боковых граней, имеющих разную толщину пластины у со: седних вершин (фиг. 3): Набор пластин 3 закреплен на оправке 1 с помощью колец 2 и гаек 5. Оправка 1 устанавливается на ось 6.Инструмент работает следующим образом.Оправка 1 с набором пластин 3 и осью 6 устанавливается на подпружиненной державке, которая крепится в резцедержателе токарного станка при обработке поверхностей тел вращения или резцедержателе строгального или шпинделе фрезерного станка при обработке плоских поверхностей. После придания вращения детали эа счет натяга начинает вращаться оправка 1 с установленными на ней деформирующимиэлементами. Инструменту сообщается движение подачи вдоль оси детали и на поверхности последней образуются дискретные...

Номер патента: 1599179

Опубликовано: 15.10.1990

Авторы: Копылов, Круглов, Левенгарц, Полежаев

МПК: B24B 39/04

Метки: микрорельефа, образования, регулярного

...с этой поверхностью при движении каретки 12 суппорта относительно образующей поверхности заготовки от точки к точке является равенство угла поворота шестерни 3 разности углов наклона касательных к образующей поверхности заготовки в этих точках. Следовательно, текущим координатам Х; и У, точки контакта инструмента с обрабатываемой поверхностью должна соответствовать определенная угловая координата у. точки В, зубчатого сека 1тора 8 (фиг,2).Угловая координата , рассчиты 7вается по формуле 20 где у угловая координата водилаУов крайнем положении зубчатого сектора в начале обработки, град; где , - текущий угол наклона инст 1румента к линии, соединяющей центры зубчатого колеса,зубчатого сектора и шестерни;- начальный угол наклонаоинструмента...

Номер патента: 1680486

Опубликовано: 30.09.1991

Авторы: Дмитриев, Лучкин, Павлов, Панасенков

МПК: B24B 39/00

Метки: микрорельефа, нанесения

...происходит раскатка стенки заготовки 2. Процесс раскатки производятдотех пор, пока на стороне заготовки, противоположной поверхности, контактирующей с роликом, не появится микрорельеф,Формирование микрорельефа является следствием неравномерного по своей природе процесса пластического деформирования обрабатываемого материала в зоне контактировэния его с деформирующим элементом инструмента, Из-за неравномерности деформаций на наружной поверхности возникает микрорельеф в виде сферических лунок. В том месте, где толщина стенки минимальна. образуется выпуклость, где максимальна бог нутость. Таким образом формируется микрорельеф с плавными радиусами сопряжений и высокой чистотьй поверхности.П р и м е р, В гладкой цилиндрической матрице...

Номер патента: 1712133

Опубликовано: 15.02.1992

Автор: Маккавеев

МПК: B24B 39/00

Метки: микрорельефа, образования, регулярного

...инструмента при ударе одновременно всеми ДЭ, расположенными в шахматном порядке, вРЕЗУЛЬтаГЕ ПЛаС 1 ИчЕСКОй ДЕфОРМаЦИИ На обрабатываемой поверхности образуются два ряда сферических отпечатков 11, 31, 51, 71 и 21, 41, 61, отстоящих друг от друга на расстоянии "а" (фиг, 1),При перемещении обрабатываемой поверхности с постоянной скоростью Ч или вращения с постоянной частотой вращения и в направлении, перпендикулярном рядам ДЭ, в результате нанесения последующих ударов на обрабатываемой поверхности образуются пары рядов последующих отпечатков 12, 32, 52, 72 и 22, 42, 62 и т д Накладываясь друг на друга. отпечатки образуют элементы регулярного микрорельефа (РМР) шестиугольного типа при условии, что расстояние "р", на которое сместится...

Номер патента: 1750932

Опубликовано: 30.07.1992

Автор: Наливайко

МПК: B24B 39/00

Метки: вибронакатывания, детали, методом, микрорельефа, нанесения, поверхности, регулярного

...с копиром, а шлицевая втулка установ- ства с четырехшэриковой головкой. Линии лена в неподвижной опоре с возможностью Н, 11-1, 111-111 и ВЧ показывают траектории перемещения шаров в направлении подачи, а окружности - их начальное положение, Для простоты оформления сивзаимодействия с другим центром.На фиг.1 изображена схема предлагаемого устройства для нанесения йа поверх 30 нусоиды изображены в виде ломаных ли-. ности детали регулярного микрорельефа методом вибронэкатывания; на фиг,2 - вид ний,Буквенные обозначения, приведенныена фиг,1 - 3: 5 - подача многошариковой А на фиг.1, на фиг,З - сетка каналоврегулярного микрОрельефа, наносимого на поверх"ности детали при использовании 35предлагаемого устройства. головки; и - частота...

Номер патента: 1781018

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Волошин, Семашко

МПК: B24B 39/02

Метки: инструмент, микрорельефа

...элементами из сверх- твердого материала, корпус выполнен в виде многоступенчатой оправки, каждая из ступеней которой оснащена тремя опорами, расположенными под углом 120 друг к другу, деформирующие элементы расположены по одному на каждой из ступеней в средней части одной из опор, причем оси деформирующих элементов расположены в одной плоскости, проходящей через центр оправки, при этом деформирующие элементы выполнены из алмаза, а опоры выполнены из неметалвических материалов.Новизну предлагаемого решения по сравнению с прототипом характеризуют следующие признаки;корпусом инструмента служит многоступенчатая оправка;на каждой ступени под углом 120 О, для надежности направления инструмента в отверстии и исключения отжима его в...

Номер патента: 1787749

Опубликовано: 15.01.1993

Авторы: Груздков, Очагов

МПК: B24B 39/00

Метки: микрорельефа, образования, регулярного, упрочнения

...4 дляустановки деталей 5, размещенным над кассетой оппозитно основному приспособлению с возможностью регулировкирасстояния до кассеты,На фиг.З приведен эскиз кассеты со схемой расположения ДЭ. Кассета представляет собой перфорированную деталь 6, в5 отверстия 14 которой с зазором установленыДЭ 7, ДЭ установлены таким образом, чтобыпри перемещений кассеты и детали относительно друг друга; напрймер при продольной (Чпрод) и поперечной Чп 0 пер) подаче:обеспечивалось равномерйое деформирование поверхности, характеризуемое шагомф 1 Ифиг.З). Этодостигается тем, что ДЭ расположены вкассете так, чтобы проекцииточек пересечения осей ДЭ с горизонталь.ной плоскостью на каждую из двух пересекающихся прямых (в данном случае -ортогональных и...

Номер патента: 1804613

Опубликовано: 23.03.1993

Авторы: Аристов, Никулин, Снигирев, Юнкин

МПК: G01N 23/20

Метки: глубины, микрорельефа, поверхности, твердых, тел

...недостатком,Целью изобретения является расширение диапазоне исследуемых структур.На фиг,1 приведена схема трехкристальной рентгеновской дифрактометрии;на фиг.2 - экспериментальная зависимость3 В (В) в случае структуры, описанной в20примере 1; на фиг,3 - экспериментальнаязависимость 1 В (В) в случае структуры,гописанной в примере 2.П р и м е р 1. В качестве объекта исследований была взята подложка кремния КДБ 10, ориентации 111 с заранее созданнойструктурой ячеек памяти для ИС. Периодструктуры а = 3,82 мкм, ширина щелей рельефа б = 0,28 мкм, глубина рельефа 1 = 0,67 30мкм. На гониометре ТРСс рентгеновской трубкой БСВс медным анодомдлина волны Л = 0,154 нм) осуществлялиугловое сканирование В - 2 В в диапазонеВ 40 - 300. Регистрацию...

Номер патента: 2004037

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Аверин, Андреев, Кмита

МПК: H01L 21/31

Метки: микрорельефа, формирования

...соответствующих 5 полоскам изготавливаемой решетки, составляет 1,2 мкм, расстояние между этими участками составляет также 1,2 мкм. После экспозиции вскрывают в фоторезисте окна путем его обработки в 0,5 КОН и вытравли вают открытые участки первого рабочегоспал металлизации. Сначала травят слой золота раствором, содержащим 400 г йодистого калия и 100 г йода на 400 мл воды.Травление ведут в течение 30 с. Затем уда ляют подслой хрома путем травления еговодным раствором соляной кислоты (концентрации 1:1) в течение 5 с. При указанном. режиме травления происходит "подтрав"участков первого рабочего слоя 2 металли зации под участками слоя 3 фоторезиста,При этом, образуются "козырьки" фоторезиста (см. фиг, 2) ндд свободной от метаплизации...

Номер патента: 1231818

Опубликовано: 27.06.1995

Авторы: Бухараев, Казаков, Хайбуллин, Яфаев

МПК: C03C 21/00

Метки: микрорельефа, поверхности, силикатного, стекла, формирования

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОРЕЛЬЕФА НА ПОВЕРХНОСТИ СИЛИКАТНОГО СТЕКЛА путем ионной имплантации и последующего облучения импульсным оптическим излучением, отличающийся тем, что, с целью снижения пороговой плотности оптического излучения и модуляции светопропускания в УФ- и видимом диапазонах, имплантацию проводят ионами одновалентного железа Fe+ с дозой облучения 6 1017 ион/см2.

Номер патента: 1528079

Опубликовано: 10.07.2004

Авторы: Абульханов, Данилов, Крамаровский, Митряев, Семенов, Федоров, Шпатаковский

МПК: G01B 5/28

Метки: микрорельефа, поверхностей

1. Устройство для контроля микрорельефа поверхностей, содержащее стойку, установленную на ней измерительную головку с механизмом ее ориентации, выполненную в виде волоконно-оптического преобразователя со световодом в виде коллектора, отличающееся тем, что, с целью расширения номенклатуры контролируемых изделий путем контроля протяженных фасонных отверстий, механизм ориентации выполнен в виде подвески с двумя колесами, двуплечего рычага, установленного шарнирно на стойке с возможностью качания в плоскости оси симметрии стойки и соединенного с ней одним плечом посредством упругой связи, а другое его плечо шарнирно закреплено на подвеске, при этом измерительная головка установлена на подвеске...

Номер патента: 1433152

Опубликовано: 10.09.2005

Авторы: Абульханов, Волков, Данилов, Денисов, Митряев, Семенов, Федоров

МПК: G01B 5/28

Метки: волоконнооптический, микрорельефа, поверхностей

1. Устройство для контроля микрорельефа поверхностей, содержащее стойку и установленную на ней измерительную головку, выполненную в виде корпуса с рабочей поверхностью волоконно-оптического преобразователя, торец которого закреплен на рабочей поверхности, и оптически связанного с волоконнооптическим преобразователем излучателя, отличающееся тем, что, с целью повышения достоверности контроля поверхностей различной кривизны, оно снабжено кривошипно-шатунным механизмом, установленным одним концом на стойке с возможностью поворота относительно ее оси, и источником сжатого воздуха, а измерительная головка закреплена на другом конце кривошипно-шатунного механизма, а на ее рабочей поверхности...