Патенты с меткой «маска»

Номер патента: 1830252

Опубликовано: 30.07.1993

Авторы: Винокуров, Новиков, Трубин

МПК: A61F 9/06

Метки: защитная, маска, сварщика

...выдвижным. Для регулирования положения поворотного щитка 5 на корпусе 1 под смотровым окном 3 может быть установлен ограничитель 15 поворота, выполненный с возможностью перемещения в вертикальном направлении в виде подвижного упора. Для защиты светофильтров 6 перед ними может быть установлено защитное стекло.Защитная маска эксплуатируется следующим образом,Перед началом сварки проверяют наличие и крепление светофильтров 6 и стекла 4 в окне 3, Затем регулируют натяжение элемента 2 крепления к голове. проверяют его надежность. Далее пробуют работу поворотного щитка 5, для чего откидывают щиток в крайние положения, в ходе чего щиток должен пройти нейтральное положение, в котором момент поворота от действия пружин 9 равен нулю, В...

Номер патента: 1837905

Опубликовано: 30.08.1993

Автор: Георгиевский

МПК: A62B 18/00

Метки: высотных, кислородная, кислородом, маска, олимп, питания, условиях, человека

...клапан выдоха, а также клапан подсоса воздуха, о т л и ч а ющ а я с я тем, что, с целью оптимального использования в легких человека ограниченного непрерывного потока кислорода от источника подачи кислорода за счет порционного поступления дыхательного газа в легкие человека, эластичный дыхательный мешочек подсоединен к корпусу между клапанами подсоса и вдоха, установленными последовательно по потоку дыхательного газа. 40 45 50 Составитель Б.ГеоргиевскийРедактор Л,Волкова Техред М,Моргентал Корректор П,Гереши Заказ 2880 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 101 Изобретение...

Номер патента: 2003735

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Иовдальский, Рыбкин

МПК: C23C 14/04

Метки: маска, напыления, пленочных, подложку, элементов

...подложки, отверстия имеютразмер, превцшающий заданный размеротверстий на 50-2000 мкм, а стенки отверстий заданного размера могут быть выполпод угло 15-85 к плос остипластин ц,Изготовление масок с уменьшеннымразмером элементообразующих кромокснижает экранирование стенками отверстий в маске и дает возможность увеличить воспроизводимость геометрии пленочныхэлементов путем повышения равномерности толщины напцляемцх пленочных элементов.5 Ограничение высоты расположениярасширения отверстий от плоскости маскименее 5 мкм определяется соображениямипрочности, а более 100 мкм - увеличениемэкранирования. Ограничение расширения10 отверстий маски менее 50 мкм объясняетсяувеличением явления экранирования края.ми отверстий, а более 2000 мкм -...

Номер патента: 795326

Опубликовано: 15.01.1994

Авторы: Ваганов, Плохова

МПК: H01L 21/31

Метки: защитная, маска

ЗАЩИТНАЯ МАСКА для получения на полупроводниковых монокристаллических пластинах (100) меза-структур с прямыми углами, стороны которых ориентированы по направлениям (110), содержащая на вершинах прямых углов фигуры, предотвращающие их растравливание, отличающаяся тем, что, с целью экономии материала пластин при анизотропном травлении, фигуры на вершинах прямых углов выполнены в виде Т-образных фигур, стороны полосок которых ориентированы по кристаллографическим направлениям (110).

Номер патента: 1220516

Опубликовано: 28.02.1994

Авторы: Белов, Ваганов

МПК: H01L 21/31

Метки: защитная, маска

1. ЗАЩИТНАЯ МАСКА для группового создания на кремниевой подложке (100) прямоугольных мезаструктур малых размеров, со сторонами ориентированными вдоль направлении < 110 >, локальным анизотронным травлением, содержащая Т-образный фигуры упреждения с узким и широким лучами, стороны которых ориентированы вдоль направлений < 110 >, отличающаяся тем, что, с целью уменьшения стоимости отдельных кристаллов, содержащих одну мезаструктуру, расположенную в лунке, узкий луч Т-образной фигуры соединяется с маскированной областью, ограничивающей лунку травления, широкий луч Т-образной фигуры располагается вдоль стороны маски мезаструктуры, ширина промежутков, отделяющих этот луч от других элементов маски, определяется разрешением...

Номер патента: 1550745

Опубликовано: 15.10.1994

Авторы: Бицаева, Дюнова, Макаров, Максимова, Перепечкина

МПК: B23K 35/24, G03F 7/027

Метки: защитная, маска, фотополимеризующаяся

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ ЗАЩИТНАЯ МАСКА при нанесении локальных гальванических покрытий и при пайке волной припоя, содержащая смешанный эфир эпоксидной смолы общей формулыR1-Rn-O-OC гдеR1 - -CH2= CH-CO-O-CH2- CH2-;R- -O O-CH2- -CH2-;n = 1 - 2,с мол. м. 600 - 2000, олигоэфиракрилат, фотоинициатор, гидрохинон, аэросил, краситель, полиметилсилоксановая жидкость,...

Номер патента: 1802647

Опубликовано: 27.02.1995

Авторы: Линник, Лыс, Морозов

МПК: H01J 29/07

Метки: кинескопа, маска, теневая, цветного

...при температуре 15 - 25 ОС, которую наносят методом пульвериэации при давлении распыляющего газа 1-3 ати на теневую маску, Последующую термообработку проводят в течение 1-42 ч при температуре 120-200 С,.Формула изобретения1. ТЕНЕВАЯ МАСКА ДЛЯ ЦВЕТНО 35 ГО КИНЕСКОПА, выполненная в виде стального листа с апертурными отверстиями и нанесенным на него покрытием на основе оксида железа, отличаю щаяся тем, что, с целью повышения термомеханической устойчивости, покрытие содержит оксиды кобальта и хрома и связующее покрытия при следующем соотношении компонентов, мас,7 ь; 45РегОз 22 - 28 СоО 1-26СггОз 7-31Связующее Остальное2; Теневая маска по п.1, отличаю щаяся тем, что в качесгве связующего вещества использован оксид фосфора.3. Теневая...

Номер патента: 1825454

Опубликовано: 20.03.1995

Авторы: Гузанов, Замятин, Новичихин

МПК: A62B 18/00

Метки: кислородная, маска

КИСЛОРОДНАЯ МАСКА, содержащая корпус с клапаном подсоса и клапаном выдоха, экономайзер, отличающаяся тем, что, с целью улучщения эксплуатационных характеристик за счет уменьшения сопротивления дыханию и исключения обмерзания клапанов, клапаны подсоса и выдоха объединены в единый узел, установленный в корпусе маски с зазором.

Номер патента: 1631787

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Голиков, Горячий, Дементьев, Квитко, Панфилов, Петрашкин, Разран, Расторгуева, Семков, Хор

МПК: A62B 18/02, A62B 7/10

Метки: маска, теплорекуперирующая

...следующим образом,Для приведения маски из сложенного транспортного положения в рабочее нажимают с двух сторон на выступающие за габариты опорной скобы 1 концы фиксаторов 8, утапливая их. Фиксаторы 8, перемещаясь, сжимают пружину 10, при этом плечи фиксаторов 8 выходят из пазов 9, освобождая внутреннюю опорную скобу 2. Отпустив концы фиксаторов 8, проворачивают сегменты 3 на пальцах 6 относительно опорной скобы 1 до положения, когда плечи фиксаторов под действием пружины 10 возвращаются в пазы 9, фиксируя маску в рабочем состоянии.Выдыхаемый воздух, проходя через теплообменные сегменты 3, отдает им свое тепло. При вдохе холодный окружающий воздух проходит через теплообменные сегменты в обратном направлении, отбирая их тепло, повышает...

Номер патента: 1755487

Опубликовано: 10.10.1995

Авторы: Бицаева, Дюнова, Макаров, Максимова, Перепечкина

МПК: B23K 35/24

Метки: защитная, маска, фотополимеризующая

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯ ЗАЩИТНАЯ МАСКА, содержащая смешанный эфир эпоксидной смолы, олигоэфиракрилат, фотоинициатор, ингибитор-гидрохинон, краситель, неорганический наполнитель аэросил, противопенный агент, смачиватель, 50%-ный водный раствор полиэтиленоксида, отличающаяся тем, что, с целью увеличения стойкости состава при пайке "волной" припоя при сохраненении времени отверждения и тиксотропных свойств, в качестве смешанного эфира эпоксидной смолы она содержит смешанный эфир эпоксидной смолы общей формулы:или

Номер патента: 1565114

Опубликовано: 10.03.2000

Авторы: Ануфриев, Гущин, Иванов, Игонин, Кривилев, Левыкин, Литвинов, Мельниченко, Сычев

МПК: E04H 15/48, E04H 9/04

Метки: военной, маска, техники

1. Маска для военной техники, включающая каркас, установленный на основании, и маскировочное покрытие, прикрепленное к каркасу, отличающийся тем, что, с целью улучшения эксплуатационных характеристик путем быстрого раскрытия маски и обеспечения установки военной техники под маску без снятия ее, каркас выполнен в виде двух шарнирно соединенных с основанием стоек, рам, соединенных между собой посредством гибких связей, при этом концы рам шарнирно соединены с верхними частями стоек, образуя веерообразное маскировочное покрытие с козырьком для выезда, причем маска снабжена опорной складной рамой для опирания рам каркаса при раскрытии маски, жесткими связями, шарнирно соединенными по концам со...

Номер патента: 858491

Опубликовано: 10.05.2000

Авторы: Ваганов, Плохова

МПК: H01L 23/00

Метки: 100, группового, защитная, маска, монокристаллических, ориентированных, пластин, плоскости, разделения, химического

Защитная маска для группового химического разделения монокристаллических пластин, ориентированных в плоскости (100) на кристаллы, стороны которых ориентированы по направлениям <110>, с помощью локального анизотропного травления, представляющая собой совокупность прямоугольников с фигурами упреждения на вершинах прямых углов, отличающаяся тем, что, с целью увеличения выхода годных кристаллов, фигуры упреждения из защитной пленки на вершинах четырех ближайших углов соседних кристаллов представляет собой систему полосок, ориентированных по направлениям сторон кристаллов <110> и соединенных таким образом, что образуют крестообразную фигуру с центром, равноудаленным от вершин четырех...