Способ оценки качества кристаллов оксида цинка
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 9) 21/6 ЗОБРЕТЛЬСТВУ АНИ СКОМУ СВИДЕТ. Шуб,А, Ок свойст е механи ствия вд атвердо начение приого анализа тельно, эксия (ЭФЛ) с очень чувстрешающее з юминесцент лов, Действ амин есценц ых экситонов В связис эти обретает метод качества криста итон-фононная участием свободГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИКНТ СССР(56) Кузьмина И,П., Никитенко Вцинка, Получение и оптическиеМ.: Наука, 1984, с, 77,Вербин С,Ю, и др, Измененима экситон-фотонного взаимодейфектных кристаллах 2 пО. - Физиктела. 1977,т. 19, М 11, с, 3468-347 Изобретение относится к способам оценки качества кристаллов оксида цинка и может быть использовано в оптоэлектронике при создании твердотельных лазеров, отражающих покрытий различного назначения, электрофотографических слоев л т, д.Известна методика измерения спектров отражения покрытий в рабочем диапазоне длин волн, изучения экситонных спектров отражения 2 пО или рентгеноструктурного анализа кристаллов.Однако наличие связующего делает эту методику малоэффективной. Такая же проблема всзникает при оценкекачества лазерных монокристаллов, находящихся в резонаторе(покрытых полупрозрачным слоем металла) и деградирующих в процессе оптического разрушения собственным излучением.(54) СПОСОБ ОЦЕНКИСТДЛЛОВ ОКСИДА ЦИНКА(57) Сущность изобретения заключается в том, что в способе оценки качества кристал лов оксида цинка, включающем исследова ние экситон-фононной люминесценции проводится построение термической эави симости относительной интенсивности и энергетического положения полос первого и второго фононного повторения излучения свободных А-экситонов в диапазоне 77- 300 К. 1 з,п, ф-лы,вительна к нарушениям кристаллической структуры и может пользоваться для работ такого рода,Наиболее близким к изобретению является способ оценки качества кристаллов оксида цинка, включающий возбуждение и регистрацию спектров экситон-фононной люминесценции кристаллов, по параметрам которых, с привлечением калибровочных образцов, оценивают качество кристаллов.Однако этот способ требует слишком низкой температуры (Т-77 К) и довольно разрешенных спектров ЭФЛ, что не всегда выполнимо из-за наложения излучения связанных экситонов и перекрытия полос излучения,Люминесцентный способ определения качества кристаллов 2 пО при температурах Т77 К не описан. отсутствует описание и каких-либо иных методов оценки качества приповерхностных слоев кристаллов оксида цинка, погруженных в связующую компоненту или покрытых металлической пленкой. Под термлном "качество" в данномсяучае понимается совокупность факторов, ности и энергетического положения полос определяющих совершенство кристалличе- А-Ео и АЬ.оской структуры и ит ры и перестройку энергетиче- В случае совершенных по кристаллических барьеров в приповерхностной области ской структуре образцов УпО степень сокристаллов, что существенным образом 5 вершенства оценивалась по данным влияет на их оптическиические свойства, экситонных спектров отражения, соответстЦель изо ретения -Ц б ения - оценка совершен- венно полуширина экситонных В- и С-полос=12 иН ства кристаллической структуры приповер- в спектре отражения равна На =, и хностных слоев кристаллов с удельным =1,4 нм, с ростомтемпературы происходит сопротивлением р10 Ом см; а также по монотонное затухание всех полос зкситонвышение точности оценки, фононного излучения, вызванное термичеПоставленная цель достигается тем, что ским распадом свободных зкситонов, При вспособе оценки качества кристалловокси- этом положение максимума полос А-о и да цинка, включающем вощем возбуждение и реги- АО согласно теории описывается соотнострацию спектров ЭФЛ кристаллов, по 15 шениемпараметрам которых с привлечением калибА-ЮОровочных образцов оценивают качество (Ь )макс = о( )Ь Р) = Ео(Т) - ИЬ Р.+кристаллов, регистрируют температурную + ( -- й) сТ,зависимость относительной интенсивности 2полос первого и второго фононного повторения излучениясвободных А-экситонов в где Ео(Т) - внутренняя энергия А-экситона; диапазоне температуратур 77-300 К, и по вели- и т 1 - энергия продольного оптического чине относительной интенсивности макси- фонона(0,072 эВ);мума в области Т -200 К оценивают степень К - постоянная Больцмана;совершенства кристаллической структуры 25 й - 1 для полосы А- О и 2 для полосы тестируемых кристаллов, АЬО.Кроме того. в способе оценки качества При заметном нарушении структуры кристаллов оксида цинка дополнительно кристаллической решетки оксида цинка регистрируют зависимость энергетического (ЬНа1,3 нм; Ь Нс1.5 нм) после резкого положения максимума полосы однофонон спада интенсивности полос экситон-фоной люминесценции свободных А-эксито- нонного излучения в области температур нов от температуры и используют в качестве 77-110 К наблюдается максимум темпера- дополнительного параметра смещения по- турной зависимости интенсивности полос лосыотносительнотеоретически рассчитан- А - Ь и АЬ в области температур около . ногодля квазимаксвелловского 35 200 К. Этот максимум связан с уменьшенирасйределения. ем рассеяния электронов на дефектах криСпособ осуществляют следующим об- сталлической структуры и наблюдается разом. только в дефектных кристаллах, Взяв за осПо стандартной методике снимаются нову его интенсивность, можно сравнивать спектры экситонной фото- или катодолюми в относительных единицах дефектность несценции кристаллов ЕпО при температу- кристаллической структуры оксида цинка.ре жидкого азота Л - 410 нм), В случае, . Другой характерной особенностью этих обесли спектр излучения достаточйо хорошо разцов является то, что температурное по- разрешен, чтобы можно было оценить пол- ложение максимума полосы А-Ьо не уширину полос А- О и АЫ, сравнитель подчиняется указанной зависимости и стань 1 й анализ совершенства кристаллическойновится по характеру смещения близким к структуры достаточно прост, При заметном полосе АЬ. Это указывает на то, что форперекрытии полос в спектре излучения, что, ма полосы А-Ьо от квазимаксвелловского например, может быть вызвано наличием распределения переходиткмаксвелловскомощного побочного канала люминесценции 50 му, что характерно для дефектных кристалсвязанных экситонов, упрощенный вариант лов.анализа, основанный на сравнении полуши- Температурный интервал для исследо- рины полос многофононной аннигиляции ваний определяется условиями наблюдения свободных экситонов,- не применим, и в температурныханомалийиобычносоответзтом случае предлагается провести съемку 55 ствует Т-300 К, нижний предел соответ температурной зависимости спектров экс- ствует температуре жидкого азота и удобен итонного излучения Т 77-300 К). На основе для проведения эксперимента, верхний сополученных данных строится температур- ответствует комнатной температуре, к котоная зависимость относительной интенсив- рой возвращается образец. Уровень фото.или катодовозбуждения подбирается эмпирически и зависит от квантового выхода экситонного излучения в кристаллах. В . качестве апробированного источника возбуждения может быть использован азотный 5 лазер ЛГИ( л, = 337 нм), Спектральнцй интервал исследуемой люминесценции соответствует 365-410 нм и определяется положением полос экситон-фононного излучения в области температур 77 - 300 К. 10 При регистрации спектрального распределения интенсивности полос А-Ь и А(с температура должна быть стабилизирована, результаты не искажаются при поддержании температуры с точностью до 3 К, 15П р и м е р 1, Исследуют температурную зависимость спектров зкситон-фононной люминесценции совершенного по кристаллической структуре монокристаллэ оксида цинка (по данным экситонного спектра от ражения Л Н = 1,2 нм, Л Нс = 1,4 нм), Применяется катодовозбуждение: энергия электронов Е = 7 кэВ, плотность тока 310 А/см,В температурных зависимостях интен сивности и энергетического положения полос А в (с и А - 2(с не обнаружено никаких температурных аномалий, что подтверждается высокое качество приповерхностных областей кристалла. 30П р и м е р 2. Исследуется температурная зависимость спектров экситон.фононной люминесценции порошка оксида цинка марки "особо чистый" завода "Красный химик" (по данным экситонных спектров отра жения Нв = 1,3-1,4 нм, Н = 1,5-1,6 нм). Применяется кэтодовозбуждение в режимах примера 1. Существенно проявляются температурные аномалии (подъем интенсивности полос А-(, и А( 0 в области тем ператур около 200 К, аномальный характер температурного смещения максимума полосы А-( О). Таким образом, подтверждается дефектность кристаллической структуры приповерхностных областей кристаллов 45 2 пО.П р и м е р 3, Исследована температурная зависимость спектров экситон-фононной люминесценции монокристалла оксида цинка, термообработанного в насыщенных 50 парах кадмияпри Т = 1150 С. Применяется кэтодовозбуждение по режиму примера 1. В отличие от предыдущих вариантов (удельное сопротивление р10 Ом см) кристалл в результате легирования имеет низкое 55 удельное сопротивление (р Ом см), Температурное поведение полос аномально, но отличается от примера 2 тем, что имеет место только подъем интенсивности полосы(А( ), которая резко уходит в длинноволновую сторону с повышением температуры по закону, характерному для полосы Н, вызванной экситон-электронным взаимодействием, Таким образом, в низкоомных кристаллах ( р10 Ом см) предложенный способ анализа качества кристаллов не применим, хотя полезен для обнаружения смены механизма излучения с повышением температуры.Предложенный способ оценки качества кристаллов оксида цинка применим в случае невозможности использования нелюминесцентных методов анализа кристаллов, например, когда кристаллы находятся в контакте со связующим в покрытиях различного назначения, в лазерной технике при катодовозбуждении кристаллов 2 пО, поме-. щенных в резонатор и т. д. При этом предложенный метод положительно отличается от известного люминесцентного способа анализа качества кристаллов возможностью применения более высоких температур (К), что удобней в техническом отношении и позволяет существенно избавиться от побоного вредного влияния излучения связанных экситонов. Разработанный метод может найти применение в оптоэлектронике, в электрофотографии и в полупроводниковом материаловедении.Эффект изобретения заключается в разработке способа оценки качества кристаллов оксида цинка, а следовательно, в улучшении технических характеристик и в расширении применения кристаллов оксида цинка,Формула изобретения 1, Способ оценки качества кристаллов оксида цинка, включающий возбуждение и регистрацию спектров экситон-фононной люминесценции кристаллов, по параметрам которых, с привлечением калибровочных образцов, оценивают качество кристаллов, отл ичэ ю щи йс я тем, что, сцельюоценки совершенства кристаллической структуры приповерхностных слоев кристаллов с удельным сопротивлением р10 Ом см, регистри руют температурную зависимость относительной интенсивности полос первого и второго фононного повторения излучения свободных А-экситонов в диапазоне температур 77-300 К и по величине относительной интенсивности максимума в области Т 2 ОО К оценивают степень совершенства кристаллической структуры тестируемых кристаллов.2, Способпоп.1,отличающийся тем, что, с целью повышения точности оцен1749707 Составитель С.РыжихТехред М.Моргентал Корректор М,Шароши Редактор В.Данко Заказ 2591 Тираж Подписное ВНИИХИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул,Гагарина, 101 ки, дойолнительно регистрируют зависимость знергетического положения максимума полосы однофононной люминесценции свободных А-экситонов от температуры и используют в качестве дополнительного параметра смещение полосы относительно те, оретически рассчитанного для квазимаксвеловского распределения.5
СмотретьЗаявка
4693479, 19.05.1989
ИНСТИТУТ КРИСТАЛЛОГРАФИИ ИМ. А. В. ШУБНИКОВА
НИКИТЕНКО ВЛАДИМИР АЛЕКСАНДРОВИЧ, КУЗЬМИНА ИРИНА ПАВЛОВНА, СТОЮХИН СЕРГЕЙ ГЛЕБОВИЧ, ТЕРЕЩЕНКО АЛЕКСАНДР ИВАНОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G01N 21/64
Метки: качества, кристаллов, оксида, оценки, цинка
Опубликовано: 23.07.1992
Код ссылки
<a href="https://patents.su/4-1749787-sposob-ocenki-kachestva-kristallov-oksida-cinka.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ оценки качества кристаллов оксида цинка</a>
Предыдущий патент: Реагент для экстракционно-флуориметрического определения катионных частиц
Следующий патент: Способ определения 2, 4-дихлорфеноксиуксусной кислоты
Случайный патент: База выемочной машины