Литниковая система

(5) 5 ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕ Я К АВТОРСК СВ ЛЬСТВУ качестого пуОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИРМ И ОТКРЫТИПРИ ГКНТ СССР(71) Могилевское отделение Физико-технического института АН БССР(56) Авторское свидетельство СССР % 942863, кл, В 22 С 9/08, 1980.Авторское свидетельство СССР М 1301558, кл. В 22 С 9/08, 1985.(57) Изобретение относится к литейному производству, в частности к литниковым системам для заливки форм, Цель изобретения - повышение качества. отливок и увеличение выхода годного путем улучшения шлакозадержания, Литниковая система содержит стояк 1, подводящий литниковый Изобретение относится к литейному производству, в частности к литниковым системам для заливки форм.Цель изобретения - повышениева отливок и увеличение выхода годн тем улучшения шлакозадержания.,На фиг.1 представлена литниковая система с шлакосборником в виде пирамиды; на фиг 2-видпострелке А на фиг.1; на фиг 3-лит)(иковая система с шлакосборником в виде цилиндра, ограниченного с двух сторон плоскостями, параллельными между соканал 2, центробежный завихритель 3, имеющий верхнее основание 4, шлакосборник 5, установленный на верхнем основании 4 центробежного завихрителя, отводящий литниковый канал 6, Расстояние между центрами верхнего основания центробежного завихрителя и нижнего основания шлакосборника равноО,25-0,7 й; а площадь основания шлэкосборника составляет 0,08-0,5 площади верхнего основания центробежного завихрителя, где В - радиус верхнего основания центрбежного завихрителя. Заливаемый металл через стояк попадает в подводящий литниковый канал 2 и далее в центробежный завихритель 3. Тангенциальный подвод обеспечивает вращение расплава в центробежном завихрителе, а шлак З концентрируется в его центральной части, Затем шлак всплывает в шлакосборник и там задерживается. 4 ил.. бой и осью цилиндра; на фиг.4 - вид по стрелке Б на фиг,3.Литниковая система содержит стояк 1, подводящий литниковый канал 2, центробежный завихритель 3, имеющий верхнее основание 4, шлакосборник 5, расположенный на верхнем основании 4 центробежного завихрителя 3, отводящий литниковый канал 6, Расстояние между центрами верхнего основания 4 центробежного завихрителя 3 и нижнего основания шлакосборника 5 равно 0,25-0,7 В, а площадь нижнего основания шлакосборника 5 составляет 0,08-0,5 площади верхнего основания 4 центробежногоэавихрителя 3, где й - радиус верхнего основания 4 центробежного завихрителя 3.,Шлакосборник может быть выполненразличной геометрической формы, но наиболее оптимальными являются формы пирамиды (см. фиг.1,2) и цилиндра,ограниченного плоскостями, параллельными вертикальной оси.Литниковая система работает следующим образом,Заливаемый металл через стояк 1 попадает в подводящий литниковый канал 2 идалее в центробежный завихритель 3. Сужение подводящего литникового канала 2 15обеспечивает необходимую для интенсивного вращения в центробежном эавихрителе.3 скорость расплава,при отсутствии в немвакуума, Тангенциальный подвод обеспечивает вращение расплава в центробежном 20завихрителе 3, при этом металл под действием центробежных сил оттесняется к боковой стенке центробежного завихрителя 3, ашлак концентрируется в его центральнойчасти, где давление пониженное, а окружная скорость максимальная. При смещении 4центров нижнего основания шлакосборника 5 и верхнего основания 4 центробежногозавихрителя 3 на величину 0,25-0,7 й условия шлакозадержания наилучшие и шлакпод действием выталкивающей силы всплывает в шлакосборник.Использование изобретения позволяетэффективно производить шлакозадержаниеи уменьшить высоту центробежного завихрителя 3,Формула изобретенияЛитниковая система, включающая стояк, подводящий литниковый канал, центробежный зэвихритель, шлакосборник,расположенный на верхнем основании цен-тробежного завихрителя, отводящий литниковый канал, отличающаяся тем, что,с целью повышения качества отливок и увеличения выхода годного путем. улучшенияшлакоэадержания, расстояние между центрами верхнего основания эавихрителя инижнего основания шлакосборника равно0,25-0,7 й, а площадь нижнего основанияшлакосборника составляет 0,08-0,5 площади верхнего основания завихрителя, где й -радиус верхнего основания завихрителя.