Оптическая маска для распознающих систем
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(23) ПриоритетОпубликовано 15.11. овета Министров СССРпо делам изобретений 53) УДК 621.391.19(088.8) юллетень4 и отрыти та опубликования описания 30.11.7 ТИЧЕСКАЯ МАСКА ДЛ(5 Изобретение относится к технике распозн вания образов и может использоваться в ч тающих автоматах для непосредственно ввода буквенно-цифровой информации ЭЦВМ. Известны оптические маски, являющиеся трафаретами идеальных изображений распознаваемых символов, вырезанных в оптически плотном, непрозрачном материале. Однако при использовании этих масок в качестве оптических эталонов невозможно различать символы, представляющие собой части некоторых других символов заданного набора, Кроме того, известные оптические маски имеют равномерное распределение веса отдельных ее участков.Целью изобретения является повышение разделительных свойств маски при использовании ее в качестве оптического эталона и точности исчисления мер сходства неизвестного изображения знака с эталоном. В описываемой маске это достигается тем, что в ней прозрачная часть каждого элементарного участка выполнена, например, в виде круга и ее площадь пропорциональна весу соответствующей компоненты оптического эталона. При этом вес компоненты эталона задается тем ббльшим, чем менее характерен определяющий ее элемент для остальных знаков заданного набора, а сумма площадей прозрачных ПОЗНАЮЩИХ СИСТЕМ участков по построению одинакова для позитивных и негативных эталонов, чем обеспечивается нормализация и нейтрализация (равенство интегральной функции лучистости) 5 всех эталонов.На фиг. 1 приведен набор условных цифровых знаков; на фиг. 2 - квантованные знаки набора; на фиг. 3 - дискретные нормированные позитивные эталоны знаков с равномер ным распределением весов компонент; нафиг. 4 - дискретные нормированные позитивные эталоны с неравномерным распределением весов компонент.При построении масок, используемых в ка честве оптических позитивных (негативных)эталонов с неравномерным распределением весов компонент, учитывают, какую различи- тельную информацию о знаках заданного набора несет каждая компонента позитивного 20 (негативного) эталона. Начальный вес компоненты позитивного (негативного) эталона выбирают обратным числу знаков набора, в которых соответствующий элемент разложения единичный (нулевой). Для нормировки 25 эталонов вычисляют нормировочный коэффициент, представляющий собой величину, обратную сумме всех начальных весов эталона.Вес компоненты нормированного и нейтрализованного позитивного (негативного) эталона 30 равен произведению начального веса этой ком535579 Составитель А. Д Техред М. Семен енк орректор Т. Добровольская дактор Л. Тюрина Изд.1755 Тираж 864 ИПИ Государственного комитета Совета Минист по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5каз 2495/1 писно Типография, пр. Сапунова, 2 поненты на нормировочный коэффициент данного эталона. Так, например, на фиг. 4 представлены негативные изображения позитивных нормированных и нейтрализованных эталонов нескольких знаков принятого набора с нерав номерным распределением весов компонент.Для сокращения трудозатрат построение оптических эталонов осуществляют с помощью координатографов и автоматических графопостроительных устройств (ДГУ, ДГУ-З, 10 ИТЕКАН, ИТЕКАНи т, п.).Для обеспечения высокой точности изготовления оптических эталонов негативные изображения последних вычерчиваются на белой бумаге в значительно увеличенном масштабе. 15 Последним этапом построения эталонов явля 1 ЕЭЧБ Б 789 О ется их пересъемка с требуемым уменьшениемна контрастную негативную фотопленку. Формула изобретенияОптическая маска для распознающих систем, поле которой представлено в виде дискретных элементов, каждый из которых представлен двухградационной маской, о т л и ч аю щ а я с я тем, что, с целью повышения разделительных свойств маски при использовании ее в качестве эталона, прозрачная часть каждого элементарного участка выполнена, например, в виде круга, причем площадь прозрачной части маски пропорциональна весу соответствующей компоненты оптического эталона.
СмотретьЗаявка
1922391, 17.05.1973
МИНСКИЙ РАДИОТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
МОРОЗ СЕРГЕЙ МИХАЙЛОВИЧ, ЖУРАВЛЕВ ВЛАДИМИР ФОМИЧ
МПК / Метки
МПК: G06K 9/00
Метки: маска, оптическая, распознающих, систем
Опубликовано: 15.11.1976
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-535579-opticheskaya-maska-dlya-raspoznayushhikh-sistem.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Оптическая маска для распознающих систем</a>
Предыдущий патент: Оптический коррелометр
Следующий патент: Устройство для отображения информации
Случайный патент: Устройство для рихтовки осевых выводов радиодеталей