Способ электронно-лучевого генерирования рисунков топологии микроприборов и микросхем

(п 1 439240 Сдюэ Советских Рциенистическик Республнн) М. Кл. Н 011 7/6 осударстееннын комитет овета Министров СССР по делам нэабретеннйн открытий 3) УДК 621.382(088,8. М. Глазков, В злов, Я, А. Райхман, ЮС. Л. Мельников акареви 1) Заявител 54) СПОСОБ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ГЕНЕРИРОВАНИЯСУНКОВ ТОПОЛОГИИ МИКРОПРИБОРОВ И МИКРОСХЕМ изготооров Способ показана тановки.В качестве авто-, терморасположенн с шагом, соо схемы. поясняется чертежо схема многолучевой на которомакуумной усэмиттеров 1 могут служить или фотоэлектронные катоды, те в узлах ортогональной сетки тветствующим размеру микРоИзобретение относится к технике в.ленин полупроводниковых микроприб имикросхем,Известен способ электронно-лучевого генерирования изображений, в соответствии с которым топологический рисунок набирается изэлементов, заполняемых растровой разверткойотклоняемого одиночного электронного пучка,причем размер кадра или размер элемента рисунка определяется возможной величиной отклонения пучка, а необходимое расположениеэлементов рисунка (кадров) достигается засчет сканирования или перемещения в определенной позиции экспонируемой подложки относительно электронно-оптической оси проекционной системы.Этот способ малопроизводителен, поэтомупочти не используется в промышленном производстве микроэлектронных изделий, где наиболее освоенными являются оптические способы изготовления топологических рисунков, согласно которым на определенных этапах процесса изготовляют промежуточные фотошаблоны, необходимые для уменьшения рисунка имеханической мультипликации на фотоповторителях,Цель изобретения - сокращение времениизготовления мультиплицированных фотошаблонов за счет устранения изготовления промежуточных фотошаблонов и обеспечения реализации микронных и субмикронных элементов топологии непосредственно на полупроводниковой подложке.Согласно изобретению поставленная цель 5 достигается путем экспонирования электронно-чувствительного слоя системой неотклоняемых электронных пучков, создаваемых короткофокусными электронно-оптическими системами. Растровая развертка лучей по поверх ности экспонируемого слоя осуществляется засчет перемещения подложки, закрепленной на координатном столе, совершающем синусоидальные колебания вдоль одного из направлений и шаговые перемещения в ортогональ ном направлении с дискретностью, соответствующей ширине электронного пятна. При этом мгновенное положение стола контролируется по индикации вторичной эмиссии электронов, возникающей при сканировании одного или 20 нескольких электронных пучков по растровымзнакам, расположенным на каретках стола.На координатном столе 2 закрепляют подложку 3, покрытую слоем, чувствительным к электронному облучению. Один или несколько каналов 4 электронно-оптической системы используют для получения информации о положении координатного стола. Развертка электронных лучей производится за счет возвратно-поступательных и щаговых перемещений кареток. Этот способ позволяет избавиться от необходимости применения прецизионных аналоговых отклоняющих систем, упростить конструкцию фокусирующей системы и обеспечить использование большой выходной апертуры.Для стабилизации скорости сканирования на рабочих участках одну из кареток координатных столов 2 выполняют на пружинных направляющих и сообщают ей колебания на резонансной частоте.Управление модуляторами о осуществляется от ЭВМ или запоминающего устройства, в котором содержится информация, необходимая для воспроизведения топологического рисунка на подложке. Если модуляторы объединены, то каждый луч экспонирует идентичные рисунки по всей рабочей поверхности подложки, Если модуляторы разбиты на определенные группы и управляются по разным каналам, то можно получать различные тополо гические структуры на одной и той же подложке, что существенно при производстве больших интегральных систем,Предложенный способ позволяет получитьмультиплицированные рисунки топологии мик.10 кроприборов и микросхем на подложке в реальном масштабе, минуя процесс изготовления промежуточных фотошаблонов.Предмет изобретения 15 Способ электронно-лучевого генерированиярисунков топологии микроприборов и микросхем, включающий электронно-лучевое экспонирование и модуляцию электронных пучков, отличающийся тем, что, с целью повыше ния производительности, экспонирование производят системой неотклоняемых электронных пучков, создаваемых короткофокусными электронно-оптическими системами, при колебательном перемещении подложки по одной оси 25 и координатном перемещении - по другой,