Патенты с меткой «маске»

Номер патента: 5547

Опубликовано: 30.06.1928

Автор: Плотников

МПК: A62B 19/00

Метки: маске, патрон, присоединения, противогазовой, резервуара, фильтрующего

...обозначениями; 5 - конец дыхательной трубки; б - патрон, 7 и 14 - крестовины, 8 - клапан, 8 - стержень, 9 - пружина,10 в горлови,11 в отверст, 12 - резервуар и 13 - штифт.В горловине патрона помещен находящийся под действием пружины 9 клапан 8, Последний закрывает отверстие 11, сообщающее патрон с фильтрующим резервуаром 12. В шейке резервуара 12 установлен на крестовине 14 штифт 13, упирающийся в нижнюю поверхность клапана 8 и выдвигающий последний, при навинчивании резервуара 12 (содержащего противогазовое вещество) на патрон б для сообщения канала патрона б с полостью резервуара 12,При отвинчивании резервуараклапан 8 закроет отверстие 11,Патрон для присоединения фильтрующего резервуара к противогазовой маске, отличающийся тем,...

Номер патента: 1611158

Опубликовано: 30.11.1991

Авторы: Генцелев, Самойлиди

МПК: G03F 7/20, H01L 21/312

Метки: маске, подложки, проводящего, рисунка, рисунком, совмещения

...поверхности другого совмещаемого обьекта ортогонально оси прецессии первого угол между плоскостями, а следовательно, и емкость конденсатора, будут постоянными по времени, цто позволяет использовать для измеоений мостиковую схему.Схема 9 узла контроля непараллельности рабочих поверхностей маски 1 и подложки 2 и микрозазора между ними постоянно следит за меняющейся емкостью конденсатора и совместно с блоком 3 обработки и управления вырабатывает и подает управляющие сигналы на двигатели б, добиваясь при этом такого положения подложки 2, когда величина электрической емкости конденсатора равна определенной наперед заданной велицине (эталонной емкости) и величина ее изменений отклонений от эталонной величины) за период прецессии ми...

Номер патента: 1618158

Опубликовано: 30.11.1991

Автор: Генцелев

МПК: G03F 7/20, H01L 21/31

Метки: маске, подложки, рисунка, рисунком, совмещения

...критическому углу, соответствующему явлению полного внутреннего отражения электромагнитного излученияот границы рабочая поверхность маски -вакуум зазора.Для получения максимальной интенсивности излучения на выходе каждого светопровода угол 3 между ограничивающимиплоскостями призм 8 определен из законаСнелла/3 = дГС 1 П (П 1/П 2 З 1 ПГХ)где п 1 и п 2 - соответственно показателипреломления материала маски 1 и подложки2.Нормальчое по отношению к входнымграням призм 7 направление хода электромагнитного излучения от источника 5 задают оптическим блоком 9, расположенным напути хода лучей от источника 5 к призмам 7.Устройство для совмещения рисунка намаске с рисунком подложки работает следующим образом,Излучение от источника 5 падает...

Номер патента: 1595270

Опубликовано: 30.11.1991

Автор: Генцелев

МПК: H01L 21/02

Метки: маске, подложки, рисунка, рисунком, совмещения

...столы 12 и 13 и двигателя 15. управляемые от блока 3 питания и управления, систему приводов и механическую оснастку (на фиг. 1 - 3 не показаны). Еод рентгеновских лучей от точечного источника 16 в случае, когда рентгенонепрозрачная заслонка 17, приводимая в движение двигателем 18, убрана с их пути, показан пунктирными линиями. Блок 3 питания и управления содержитаналого-цифровые преобразователи АЦП) сигналов от схем 8 и 11, ЭВМ "Электрон,.ку", ключи управления шаговьми двигателями 14, 15, 18 и стабилизированные источники питания,Устройство для совмещения рисунка на маске с рисунком подложки работает следующим образом.Маску 1 и подложку 2 устанавливают соответственно на столы 12 и 13 с определенным предварительным микрозазором...