164077
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 164077
Текст
164077 Союз Советских Социалистических РеспубликГосударственный комитет ло делам изобретений и открытий СССРюллетеньпубликовано ЗО.И 1.19 К ата опубликования описания 25 Л 111.1964 Автор изобретенияЗаявитель: Б. П. Козырев и А. А. Бузников енинградский электромеханический институ имени В. И. Ульянова (Ленина)МОДЕЛЪ ЧЕРНОГО ТЕЛ дписная группа8 Известные модели абсолютного черного тела имеют малую площадь отверстия для выхода радиационного излучения из равномерно нагретой полости,Предлагаемая модель черного тела обладаетбольшой площадью излучения, по своему характеру близкому к излучению абсолютночерного тела и отличается от известных тем,что ячейки излучающей поверхности выполнены из взаимоприлегающих друг к другу иукрепленных на одной общей подложке пластин из материала с высокой теплопроводностью, например меди, у которых при вершинах имеется двухсторонний скос.На фиг. 1 и 2 изображено предлагаемое 15устройство.Оно представляет собой модель черного тела с большой излучающей поверхностью, которая, с целью получения большой площадиизлучения, обладающей высокой степенью 20черноты, равномерной по всей излучающейплощади, состоит из большого числа медныхячеек 1, образуемых взаимоприлегаемымидруг к другу и укрепленными на одной подложке 2 медных пластин 3, имеющих со стороны вершин двухсторонний скос, чтобы собственное излучение торцов было мало по сравнению с излучением полостей ячеек.Угол скоса определяется углом й, позволяющим рассчитать степень черноты по методу 30 Гоффи. Подложка, на которой укреплены медные ячейки, плоская, но при значительном увеличении площади излучения ей может быть придана необходимая кривизна. Плоскости ячеек зачернены керосиновой сажей с примесью клея БФв качестве биндера, Толщина пластин выбрана такой, чтобы при хорошей теплопроводности мели обеспечить равномерный нагрев или охлаждение ячеек.Предлагаемое устройство снабжено электрическим нагревательным элементом 4, расположенным под всей плоскостью излучения в пазах керамической плиты 5. В случае необходимости электрический нагревательный элемент может быть заменен другим нагревающим пли охлаждающим элементом, поддерживающим заданную температуру. Диафрагма б, укрепленная па теплопзоляторах 7 над плоскостью излучения, имеет такие внутренний и внешний диаметры, которые позволяют исключить паразитное излучение с боковых сторон прибора и от крайних ячеек. Все устройство укреплено на подставке 8 с теплоизолятором 9.Качество конструкции, т. е. ее степень черноты, определяется геометрическими размерамн ячейки и соотношением между площадью отверстия и площадью внутренней поверхности ячейки, Общая площадь излучающей поверхности может иметь наперед заданные разаз 19317 1 праги 900 Формат бум. 60 Х 901/м Объем 0,16 ЦНИИПИ Государственного комитета по делам изобретениг Москва, Центр, пр. Серова д. 4тзд. л. Цена 5 коп.и открытий СССР Типография, пр. Сапунова, д. меры и обусловливается количеством ячеек и возмокностью обеспечения равномерности распределения температуры по поверхности ячеек. Предмет изобретенияМодель черного тела, содержащая много- ячеистую излучающую поверхность с нанесенным на нее зачернителем, элемент, поддерживающий необходимую температуру, и диафрагму, отличающаяся тем, что, с целью получения большой площади излучения, по своему характеру, близкому к излучению абсолютного черного тела, ячейки излучающей поверхности выполнены из взаимоприлегаю.щих друг к другу и укрепленных на одной общей подложке пластин из материала с высокой теплопроводностью, например меди, у которых при вершинах имеется двухсторонний 10 скос.
СмотретьЗаявка
840010
МПК / Метки
Метки: 164077
Опубликовано: 01.01.1964
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-164077-164077.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">164077</a>
Способ химико-механического полирования поверхностей пластин
Номер патента: 1499622
Опубликовано: 15.01.1993
Авторы: Волков, Котелянский
МПК: H01L 21/302
Метки: пластин, поверхностей, полирования, химико-механического
...способствует более быстрому цболее качественному выхаживан 11 юпорр ,1верхцос ти , подавляется ормир ова ни 8на 6 о в ерхнос ти твердого тела О кис ныхи гидр о О кис ных пленок з а счет пр еимущественноГО Образования р а с ТБ О )и45МЫХ КОМПХЕЕКСНЫХ СОЕДИНЕНИЙ С ЭЛЕ"ментамц обрабатываемого материала.Примеры 1-9 выполняют ИЕ)и следую"щих постоянных режимах полирования5 ОЧастота вращения,полнровальникаУдельное дантление на цлас 100-150 г/смтиныРасход полнрующего состЕРИ ПОЛИРОПКЕ(пластиныпредварцтельцообработаны сйободиьп 1 абразивом зернистостью 5 мкм) 10-15 мкм,П р и и е р 1, Для полированияпластин фосфида индия и-типа ориентации (100) используют полируюпфе 1состав, ца 1 л воцы в котором приходится 200 г Б)0)р 80 мл глицерина,60 мл...
Устройство для доводки плоских и плоскопараллельных поверхностей пластин
Номер патента: 255794
Опубликовано: 01.01.1969
Автор: Халин
МПК: B24B 37/04
Метки: доводки, пластин, плоских, плоскопараллельных, поверхностей
...по направляющим штоком 10. Сепаратор-притир 9 имеет несколько отверстий 11, в которые вставляются приспособления 12 так, что они частично выступают за ширину рабочего диска. 25В приспособлении клеем закрепляется обрабатываемая пластина 18. Сепаратор-притир находится в зацеплении с шестерней 2 и шестерней 14, неподвижно сидящей на станине 15. Такая кинематика зацепления обеспе- Зо чивает сложное движение приспособления по рабочему диску, взаимную правку и износ рабочих поверхностей диска и приспособления. Этим достигается хорошее качество шлифуемых или притираемых плоскостей пластин.Устройство работает следующим образом. Пластины 13, рассортированные по толщине, наклеиваются на притертые поверхности штоков 10. Каждый шток перед...
Устройство для доводки плоских и плоскопараллельных поверхностей пластин
Номер патента: 637241
Опубликовано: 15.12.1978
Автор: Халин
МПК: B24B 37/04
Метки: доводки, пластин, плоских, плоскопараллельных, поверхностей
...фиг. 1 изображено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг. 2 - ттриспособленне для крепления обрабатываемых пластин; разрез; на фиг. 3 - то же, вид сверху.1 риспособление 6 состоит иэ штока Ь, перемещающегося по направляющим, выполненным в виде упругого опорного кольца 9, шпонки-гайки 10, винта 11 и разрезного пружинного кольца 12. Шпона- У гайка 10, введенная в продольный паэ 13 штока, с винтом 11 фиксируют положение штока по высоте относительно основания кольца 9. Упругое опорное кольцо 9 выполнено с продольными гофрами 14 на на-В ружной и внутренней поверхностях, расположенными симметрично, отверстию под.винт, и с кольцевой канавкой 15 под разрезное пружинное кольцо 12, Кольцо 12, помещенное в канавку 15 заподлицо с на- И...
Способ присоединения монокристаллических пластин кремния к инородным подложкам
Номер патента: 348132
Опубликовано: 25.01.1979
Авторы: Александров, Клименко, Ржанов
МПК: H01L 21/18
Метки: инородным, кремния, монокристаллических, пластин, подложкам, присоединения
...пластиной и подложкой промежуточного слоя из мате- . ЗО риала, имеющего меньшую температуруплавления,.чем температура плавленияматериала пластины, и способного об- .разовывать.с материалом пластины непрерывную систему равновесных твердыхрастворов. В результате прочно соеди-няются подложка с промежуточным слоемпри расплавлении последнего, а такжепромежуточный слой с монокристаллической пластиной при температурах, прикоторых материал пластины еще относительно мало химически активен. Примером реализации предлагаемого способа может служить присоединение пластины кремния к подложке из муллитовой керамики посредством промежуточного слоя из германия. На пластину кремния наносят слой германия, сверху накладывают плоскую керамическую подложку и...
Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления
Номер патента: 1452471
Опубликовано: 15.01.1989
Автор: Зигфрид
МПК: B41C 1/04, H01J 37/00
Метки: гравирования, лучом, печатной, поверхности, различных, размеров, растровых, формы, электронным, ячеек
...из-за этого ошибка в положении 45 фокуса на поверхности печатной формы 6 может компенсироваться путем регулировки динамической линзы 8.П р и м е р . Если линза 1 уменьшает н три раза и линза 7 не возбуж 50 дается, то вторая короткофокусная линза 2 может быть отрегулирована так, что она образует масштаб изображения, равный 1, Если линза 3 затем образует масштаб изображения, равный 4, то общее уменьшение равно 12. На фиг, 1 получающийся ход луча изображен сплошными линиями. Если возбудить теперь размещенную в линзе 1 линзу 7, то первое промежуточноеиэображение становится ближе к комбинации линз 1 и 7, Одновременно стаковится больше расстояние второйкороткофокусной линзы 2 от объекта.Зто означает, что короткофокуснаялинза 2 имеет теперь...
Предыдущий патент: 164076
Следующий патент: Прерыватель сигналов низкого уровня
Случайный патент: Шахтная печь для производства пеностекла