Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1452471
Автор: Зигфрид
Текст
СОЮЗ СОВЕТСНИХ СОЦИАЛ ИСТИЧЕСН А СПУБЛИ ПЯ)(54) СПОСОБ ГРАВ ЛУЧОМ РАСТРОВЫХ МЕРОВ НА ПОВЕРХН И УСТРОЙСТВО ДЛЯ (57) Изобретение графическому обо рования печатных использовано в д ОСУДАРСТЕЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТ(56) Патент ФРГ Мф 2458370,кл. В 41 С 1/04, 1984. ИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННЫМЧЕЕК РАЗЛИЧНЫХ РАЗСТИ ПЕЧАТНОЙ ФОРМЫЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯотносится к полиудованию для гравиформ и может бытьугих областях техС 1/04, Н О 1 .1 37/00 ники для сварки, сверления, гравирования и нагрева электронным лучом.Целью изобретения является обеспечение стабильности гравирования. Одновременно с фокусировкой. электронноголуча в зоне поверхности печатной формы регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимостиот заданной тоновой градации, Размеризображения исто .:ика зарядов устанавливают пропорционально размерурастровой ячейки. Электронный лучдиафрагмируют до получения практически прямоугольного распределения плотности мощности луча на поверхности.Устройство содержит три длиннофокусные линзы, две динамические линзы,размещенные в первой и третьей длиннофокусных линзах, и апертурную диафрагму. 2 с. и 1 з,п. ф-лы, 5 ил.Изобретение относится к полиграфическому оборудованию для гранирования печатных форм и может быть использовано в других областях техники для сварки, сверления, гравирования и нагрева электронным лучом.Цель изобретения - обеспечение , стабильности гравирования.На фиг. 1 представлена схема устройства для осуществления способа, на фиг. 2 и 3 - схема граниронания и график распределения плотности луча при гравировании болыдих. растровых ячеек; на Фиг. 4 и 5 - то же, при 15 гравировании малых растровых ячеек,Устройство для гранирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы содержит (фиг. 1) длиннофокус О ные линзы 1, 2 и 3 и апертурную диафрагму 4, размещенные по ходу электронного луча между источником 5 электронов и печатной формой 6. В линзах 1 и 3 размещены динамические линзы 25 7 и 8.Способ реализуют следующим образом.При возбуждении линзы 7 изменяется на незначительную величину расстояние изображения от первой длинно - фокусной линзы 1, Масштаб иэображения комбинации линз 1 и 7 при этом также изменяется на незначительную величину, Так как изображение источника 5 электронов с помощью комбинации линз35 1 и 7 представляет объект второй короткофокусной линзы 2, то незначительное осевое смещение первого промежуточного изображения ведет к большому изменению масштаба иэображения линзы 2. Масштаб изображения комбинации линз 3 и 8 изменяется из-за смещения второго промежуточного изображения на небольшую величину, Возни-кающая из-за этого ошибка в положении 45 фокуса на поверхности печатной формы 6 может компенсироваться путем регулировки динамической линзы 8.П р и м е р . Если линза 1 уменьшает н три раза и линза 7 не возбуж 50 дается, то вторая короткофокусная линза 2 может быть отрегулирована так, что она образует масштаб изображения, равный 1, Если линза 3 затем образует масштаб изображения, равный 4, то общее уменьшение равно 12. На фиг, 1 получающийся ход луча изображен сплошными линиями. Если возбудить теперь размещенную в линзе 1 линзу 7, то первое промежуточноеиэображение становится ближе к комбинации линз 1 и 7, Одновременно стаковится больше расстояние второйкороткофокусной линзы 2 от объекта.Зто означает, что короткофокуснаялинза 2 имеет теперь при неизменномвозбуждении масштаб изображения,например, равный 3. Общий масштабуменьшения устройства изменился врезультате до 36. Получающийся ходлуча изображен ка фиг. 1 пунктирнойлин ией.Если за короткофокусной линзой 2размещается айертурная диафрагма 4,то дополнительно осуществляется модуляция масштаба изображения, а также модуляция энергии излучения. Благодаря этому можно гравировать спочти одинаковой плотностью мощностикак малые, так и большие ячейки.Условия фокусировки в точке воздействия луча показаны для большихячеек на фиг. 2 и 3, для малых ячеек - на фиг. 4 и 5,На фиг. 3 и 5 обозначены: Еплотность мощности излучения; градиус в точке воздействия.На фиг.25 даны размеры в качестве примерныхданных.Изобретение обеспечивает очень быстрое изменение масштаба изображения. Время регулировки при переходе от сильного к слабому уменьшению и наоборот составляет приблизительно 1 мкс.Формула изобретения1. Способ гранирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной Формы, заключающийся в том, что растровые ячейки изготавливают путем воздействия постоянно направленного на поверхность дефокусируемого электронного луча, фоКусируют его в зоне поверхности и регулируют длительность его воздействия, о т л и - ч а ю щ и й с я тем, что, с целью обеспечения. стабильности гравирования, одновременно с Фокусированием регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации, причем размер изображения источника заряжен 1452471ных частиц устанавливают пропорционально размеру растровой ячейки.2, Способ по и. 1, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что удаленные от оси лучи диафрагмируют до получения почти прямоугольного распределения плотности мощности как для больших, так и для малых .растровых ячеек. 5 103, Устройство для гравированияэлектронным лучом растровых ячеекразличных размеров на поверхностипечатной формы, содержащее источник электронов и размещенную по направлению электронного луча основную системулинз, отличающеесятем, что, с целью обеспечения стабильности гравирования, оно снабженопо меньшей мере двумя дополнительнЫми системами линз и апертурной диафрагмой; при этом дополнительные системы линз и апертурная диафрагмаразмещены последовательно по направлению электронного луча между источником электронов и основной системойлинз.1452471фие, 9Составитель Е. ХачатуроваРедактор А, Лежнина Техред М,Дидык Корректор М. СамбоРскаЯ Заках 7094/57 Тираж 338 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5Производственно-полиграфическое предприятие, г, Ужгород, ул. Проектная, 4
СмотретьЗаявка
3496070, 28.09.1982
Др. -инж. Рудодхьф Хелль ГмбХ
ЗИГФРИД БАЙСВЕНГЕР
МПК / Метки
МПК: B41C 1/04, H01J 37/00
Метки: гравирования, лучом, печатной, поверхности, различных, размеров, растровых, формы, электронным, ячеек
Опубликовано: 15.01.1989
Код ссылки
<a href="https://patents.su/4-1452471-sposob-gravirovaniya-ehlektronnym-luchom-rastrovykh-yacheek-razlichnykh-razmerov-na-poverkhnosti-pechatnojj-formy-i-ustrojjstvo-dlya-ego-osushhestvleniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления</a>
Предыдущий патент: Плоский многослойный элемент
Следующий патент: Машина для глубокой печати
Случайный патент: Устройство для снятия на торцах труб фасок под сварку