Крукович

Номер патента: 430194

Опубликовано: 30.05.1974

Авторы: Белорусский, Ворошнин, Косачевский, Крукович, Туров, Хович

МПК: C23C 8/42

Метки: низкотемпературногоборирования, расплава, состав

...кодо 40%) чительно сплуатаую жидпературы х металОписываемыи со личество растворен по сравнению с и повышает продолн ции. Также состав котекучесть за сче плавления смеси х лов в отличие от Пример. Борир ве, содержащем, % КС 1расп 27 22 2 13 6 10 20 течение 8 ч ый слой вух фаз РеВ етственно 22Ь 1 С 1ХаС 1Ь 12 В 4КзВ 40Иа,ВВ 4 С калий 25 - 29 литий 20 - 23 07 натрии 2 -лития 10 -550 С вборидний из д соотв при температуреляет получить0,035 мм, состоящс микротвердостьи 1700 кг(мм. с позволубинойи РезВ 00 кг/мм 2 8 алия натрия сстано зоб редме ени В качестве восстан состав входит, по кр ство из группы, содер ликокальций, силиком ния, силикомарганец, вителя в предлагаемыи йней мере, одно вещежащей карбид бора, сиишметалл, карбид крем 1. Состав...

Номер патента: 425984

Опубликовано: 30.04.1974

Авторы: Ворошнин, Косачевский, Крукович, Туров, Хович

МПК: C23C 8/42

Метки: 425984

...сл щем содержании компонентов, %:Галогенид лития 6 - 39 Галогенид натрия 1 - 11 Галогенид калия 11 - 53 Тетраборат лития 5 - 40 Тетраборат натрия 3 - 24 Тетраборат калия 2 - 16 В качестве галогенидов мохлориды щелочных металловсодержании, %:Хлорид литияХлорид натрияХлорид калияа также фтористые соли щелв следующем соотношении, %Фторид литияФторид натрияФторид калия Процесс насыщения проводят при 5700 С в течение 1 - 10 час при плотности0,1 - 0,25 а/смз.П р и м е р. Электролизное бориров5 стали 20 в расплаве, содержащем, %:11 С 1 30МаС 1 2КС 1 3811 еВ 407 15а 2 В 40 т 9КВ 407 6при 550 С и плотности тока 0,15 а/см вние 2 час позволяет получить боридный0,02 мм.Предмет изобретения 1. Состав для электролизного борирования,содержащий...

Номер патента: 418571

Опубликовано: 05.03.1974

Авторы: Белорусский, Косачевский, Крукович, Туров, Хобич

МПК: C23C 8/42

Метки: низкотемпературногоборирования, расплава, состав

...жидкостному борированию.Известен состав расплава для низкотемпературного борирования, содержащий фториды лития, натрия, калия и борсодержащее вещество.Предложенный состав для борирования отличается от известного тем, что кроме фторидов щелочных металлов он содержит окись бора и вещество-восстановитель при следующем содержании компонентов, %:Фторид лития 19 - 23 Фторид натрия 5- - 10 Фторид калия 27 - 45 Окись бора 5 - 30 Восста повитель 15 - 25В качестве восстановителя применяют, по крайней мере, одно из следующих веществ: бор, карбид бора, ферроборал, ферробор, силикокальций, силикомишметалл, силикомарганец. Это повышает твердость боридных покрытий и увеличивает скорость насыщения.Процесс борирования в предложенной ванне...

Номер патента: 415337

Опубликовано: 15.02.1974

Авторы: Белорусский, Косачевский, Крукович, Кучер, Левитан, Туров, Хович

МПК: C23C 8/40, C23C 8/52

Метки: 415337

...износонего введена и следующем %):45 - 855 - 15 10 - 40 Изобретение относится к области химикогермической обрабопки металлов, в частности к процессу борирования в жидких средах,Известен состав для жидкостного борирования, состоящий из бугры, борного ангидрида и силикомарганца. Борирование в этом составе обеспечивает получение однофазного боридного слоя, состоящего из РееВ с микро- твердостью 1600 кг/лм.Для повышения износостойкости боридного слоя предлагается в состав для борировавия,вместо силнкомарганца вводить мапниевокальциевую лигатуру при следующем соотношении компонентов (в вес. %):Бура 45 - 85 Борный ангидрид 5 - 15 Магниевокальциввая лигатура 10 - 40 Матниевокальциевую лигатуру применяют в,виде порошка с размером трахнул...

Номер патента: 406972

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Косачевский, Крукович, Левитан, Туров, Хович

МПК: C23C 10/26

Метки: жидкостного, состав, хромосилицирования

...широклатуры трущихся деталей, работаюловиях агрессивной среды. расооста ожет кой н щих енсПредмет изобретен- 75, натрий - 10 - 20, сиСостав для вания, содержа соли натрия, о что, с целью 0 эффективности расплава, в н компоненты вз вес. %: натрий кре 5 натрий хло окись хроа силикомарпроводят пр 0 С в течени 0 - 7 0 - 1 0 - 2 5 - 2 некислыиистый анец Изобретение относится к области химикотермической обработки, а именно к процессамкомплексного насыщения металлов и сплавовэлементами в расплавах.Известен состав для жидкостного хромосилицирования, содержащий, вес. %; натрийкремнекислый 65 - 75, окись хрома 5 - 15, натрий хлористый 9 - 11, силикокальций 9 - 11,Предложенный состав отличается от известного тем, что, с целью повышения...

Номер патента: 406971

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вител, Косачевский, Крукович, Туров

МПК: C23C 8/42

Метки: борирования, низкотемпературного, расплава, состав

...19 тетраборат калия 4 - 8 тетраборат натрия 6 - 11 восстановитель 15 - 25В качестве восстановителя могут быть использованы карбид бора, силикокальций, силикомишметалл, карбид кремния, силикомарганец как отдельно, так и в смеси. Борирование осуществляют при 550 - 650 С. Процесс насыщения протекает с большей скоростью по сравнению с известной за счет активизации насыщаемой поверхности металла действием фтористых солей и более высокого содержания тетраборатов щелочных металлов в насыщающей смеси. При температуре 550 С за 8 час получают боридный слой па стали 20 глубиной 5 0,045 лл, Проведение процесса насыщения впредложенном расплаве исключает вспучивание, при этом расплав имеет хорошую жидко- текучесть. Технологичность расплава...

Номер патента: 405971

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Гиггель, Косачевский, Крукович

МПК: C23C 8/42

Метки: борирования, низкотемпературного, расплава, состав

...55 з %Литий хлористый 32 -36 11 ятрий хлорпстый 2 -3Кялй хлористыйВорсодсржецсс 1 сщсство В качсстзс борсодсржащего гут быть использованы бор, кар робор или ферроборял. Процес в предложенном расплаве ведсмпсрятурс 550 - 650 С.Входящая В предложенный пая эвтсктцчсская смесь хлор металлов имеет более низку плавления, чем эвтсктическая дов тех ж(. мстяллой, сглас равиля пу, гг об ссап 115 ст расплаву повышенную жидкотекучесть в рекомендованном для обработки цптервале температур. Тем самым спц)кается унос насыщенипо состава Вместе с дсталямц после борир 1 яппя ц упрощается Ведение процесса.Прп борцроваппи в предложенном расплавс при температуре 550 С в течение 8 час образуется диффузионный борцдный слой глубиной 0,030 11,1. Слой представляет...

Номер патента: 404905

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Вител, Косачевский, Крукович, Туров

МПК: C23C 8/52

Метки: борирования, низкотемпературного, расплав

...оо ржащее вещ елью прове ся и интенси дены карбон аллов и восс тношении к зкотемперй борсодем,что,сцнасыщенгнего ввечных метщем соо, яси;сяв длявяння, включающог.сссчаюасссссая теоезэлсктролизногоции процесса, вссгрябораты щеловитсль при следую:5 10 - 12 25 - 27 20 - 22 ития алияатрия прссосдисссциез зяявкПр:сор:пст --Опубликовано 22.Х.1973 11 зоорс генис оноситсяОблссти химикотсрмичсской обработки металлов, в частности к процессам оорирования в жидких средах.Известен расплав для цизкотемпературного борировяния, содержащий буру и окись свинца, При температуре 550 С в течение 6 час в ряспгсавс этого состава ца ярмкожелезе образуется боридиый слой глубиной 0,02 см.Г 11 сд,сягсемый василев отсичяется тем, что с целью проведения...

Номер патента: 345242

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Белорусский, Долманов, Карпенко, Косачевский, Крукович, Хович

МПК: C23C 8/42

Метки: борирования, ванны, диффузионного, состав

...бориро елий.на, содержащая буру химико к жидко анию ме би емпера ра про есса,Время выдержки часМарк алей мкм ч карбид 5 К 960 2 2 от извест емния со ющем со отличается карбида к при след в%): ванна вмес кальц нентов После борирования поверхностный слой со зы ГеВ с твердостью ГеВ с твердостью -1 Образование двухфа ет высокую износосто 15 делий, 0 - 4 0 - 9 рбид кальция обеспечива чняемых из ра Это повышает твердость диффузионного слоя и увеличивает скорость насыщения,Карбид кальция вводят после расплавления буры. Обрабатываемые детали загружают через 15 мин. после введения карбида кальция. Процесс осуществляют при 850 - 1000 С. Оптимальная температура 950+10 С, Время выдержки зависит от требуемой глубины диффузионного слоя, обычно 1,0 -...