G03C 1/72 — светочувствительные составы, не отнесенные к рубрикам

Номер патента: 1412491

Опубликовано: 23.04.1992

Авторы: Кондратьев, Коршунов, Костяк, Куница, Мельник, Мервинский, Романюк, Шибанов

МПК: G03C 1/72

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных, эластичных

...слой и лансановуюподложку дублируют Между валками при60 С и давлении 2 кгс/см . ФПФ экспонировали лампами ЛУФ"80 на расстоянии 60 мм через тест-негатив, Время.йроявления в смеси трихлорэтиленан этилацетата (1 ф 7) н форсуночноймашине при давлении 3-4 кгс/см итемпературе 30-35 С 2-3 мин. Глубина фотохимических превращений в ФПФ оценивалась методом гель- фракции по ФормулеРР100%,где Р - первоначальная масса обораэца;Р - масса образца после экстракции хлороформом.Стойкость ФПФ к действие полярньж растворителей, используемых для приготовления Флексографских красок, определяют по степени набухания согласно методике (ГОСТ 9.030-74).Данные таблицы указывают на то,что с введением в состав ФПК винилоксиэтилового эфира метакриловой...

Номер патента: 1364052

Опубликовано: 23.04.1992

Авторы: Костяк, Куница, Мельник, Мервинский, Романюк, Шибанов

МПК: G03C 1/72

Метки: композиция, печатных, форм, фотополимеризующаяся, фотополимерных, эластичных

...ч при 50 С, Получают прозрачный гомогенный растворСветочувствительную пленку полу" чают многократным поливом на поверхность вращающегося цилиндра. Скорость вращения барабана и высота поднятия фильеры определяются вязкостью композиции. Толщина высушенной пленки1500+ 30 мам.5Для изготовления ФПФ на обезжиренную лавсановую подложку наносят слойадгезива. В качестве последнего можетбыть использован раствор уретановогокаучука СКУА в этилацетате, содер О жащего в соотношении 1:10 полииэоцианат.,Пбале :сушки клея при комнатнойтемпературе светочувствительный слойи лавсановую пленку дублируют междувалками при температуре 60-70 С идавлении 2 кгс/смф.Фотополимериэующуюся пластину экс-понируют лампами ЛУФна расстоянии60 мм через тест-негатив....

Номер патента: 1556076

Опубликовано: 07.08.1992

Авторы: Агабеков, Алексеев, Гудименко, Игнашева, Лабунов, Солдатов

МПК: C07D 265/38, G03C 1/72, H01L 21/312 ...

Метки: 9-диэтиламино-3-метакрилоилокси-5н-бензо, дицианметилен, качестве, литографии, сухой, термонапыляемого, феноксазин-5, фоторезиста

...ФРтолщиной 1,1 мкм (пример 2) обрабатывают ионами аргона с Е = 30 кэВ, Р = 110 ион/ /см, 1 = 50-80 мкЛ/см и помещают в установку плаэмохимического травления 08-ПХ 0-100 Т, где обрабатывают плазмой "Хладон" (СР) при следующих условиях: давление в камере 1 мм рт.ст мощность 1,8 кВт, ток 0,7 А, время травления 3 мцн, В этих условиях скорость травления, рассчитанная по изменению толщины пленки за Ю время воздействия плазмы, Ч = 100 А/ /мин. Селективцость транлеция, определяемая отношением скорости травления9810/Чб = 1000 Л/миц к скорости траволения маски, Б = 10. 25П р и м е р 14. Пластину 80 на КДБ-О,З с пленкой ФРтолщиной ,1 мкм (пример 2) облучают излучением лампы ДРЦ 1-000 (доза 8-10 Дж/см ) и помещают в установку илазмохимцческого...

Номер патента: 1767470

Опубликовано: 07.10.1992

Авторы: Коваленко, Лабунская, Тихонова

МПК: G03C 1/72

Метки: активная, информации, оптической, регистрации, среда, химически

...Аналогично, но скислбты концентрации 5 мас.6, сульфата 15 соответствующими объемами реагентов бымарганца (И) концентрации 5 мас., мало- ли выполнены и остальные 15 примеров.новой кислоты концентрации 10 мас.0, Через 3 - 4 минврастворевозникаютколекрахмала концентрации 1 мас, . бания цвета (синий-бесцветный), На поверПоскольку в материалах прототипа не хность такой среды проецировалиприводйлисьдайные. позволяющие срэв изображениечфрезфотоувеличитель(лампанить. контрастность изображения, был вос Вт, выдерйка 10 с),Возникающие всредепроизведен состав среды по прототипу, изображения(после выключения фотоувелисодержащий в качестве катализатора суль- чителя) фотографировали фотоаппаратом Зефат марганца при следующем количествен- нит-Е....

Номер патента: 440944

Опубликовано: 23.10.1992

Авторы: Волкова, Девятов, Кайдалов, Коренькова, Любарская, Резников, Сердюк, Старикова, Федорищева

МПК: G03C 1/72

Метки: защитный, одноступенчатого, состав, травления

...кипения 190-260 С в ко лицестве 65-73 мас.Ъ и рополнительно введены оксиэтилированные спирты жирного ряда (С,0 - С ) в количестве 2-5 мас,Ф с содержанием не менее 10 моль окиси этилена в молекуле,Это ростйгается тем, что используют состав, включающий сульфатированное касторовое. масло, содержащее гидролизуемую органически связаннуюгруппу БО (7,5-9,0 вес,3) и полиалкилбензолы с т.кип.190-260 Г,и дополнительно вводят оксиэтилированныеспирты жирного ряда (Со -С, ) с содержанием не менее 10 моль окиси этилена в молекуле,Целесообразно защитный состав применять со следующим содержанием компонентов:а) сульфатированное касторовоемасло в количестве 27-30 мас./, содержащее 7,5-9,0 мас,3 БО и 2025 мас,3 воды,б) оксиэтилированные спирты жирного ряда...

Номер патента: 1371281

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Валеев, Кузнецов

МПК: G03C 1/72

Метки: пленочный, сухой, фоторезист

СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ, состоящий из полиэтилентерефталатной подложки, фотополимеризующегося слоя, включающего пленкообразующий компонент, акриловый мономер триэтиленгликольдиметакрилат или диметакрилат-бис-(этиленгликоль)фталат, или их смесь в массовом соотношении 1 1, -фотоинициатор смесь бензофенона с 4,4'-бис-(диметиламино)бензофеноном в массовом соотношении 1 6 6 1, -ингибитор гидрохинон или n-метоксифенол, или бисалкофен, краситель и пластификатор, и защитной полиэтиленовой пленки, отличающийся тем, что, с целью повышения стойкости в горячем теплоносителе типа Лапрол-2502-ОЖ и увеличения адгезии к подложке, фотополимеризующийся слой в качестве пленкообразующего компонента содержит тройной сополимер стирола, метилметакрилата и...

Номер патента: 1311456

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Кудряшов, Кузнецов, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: пленочный, сухой, фоторезист

СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ, включающий пленкообразующий компонент, фотоинициатор смесь бензофенона с 4,4'-бис-(диметиламино)бензофеноном в соотношении (0,5 7,5) (2 13,636), полифункциональный акриловый мономер, краситель, ингибитор, полярный агент и мононенасыщенный гидроксилсодержащий мономер, отличающийся тем, что, с целью повышения устойчивости фоторезиста в среде борфтористоводородных гальванических электролитов и увеличения адгезии к медной подложке, в качестве пленкообразующего компонента он содержит полиметилметакрилат со среднемассовой мол.м. (4 9) 104 или сополимер метилметакрилата с метилакрилатом (98 2, мас.) со среднемассовой мол.м. (8 12)

Номер патента: 1199089

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Валеев, Кузнецов, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: защитных, композиция, печатных, плат, покрытий, фотополимеризующаяся

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ, включающая пленкообразующий компонент, акриловый мономер, выбранный из ряда: триэтиленгликольдиметакрилат, пентаэритриттриакрилат, триметилолпропантриакрилат, диметакрилат-бис-(этиленгликоль)фталатов, фотоинициатор смесь 4,4'-бис-(ди-низший-алкиламино)бензофенона и бензофенона, ингибитор радикальной полимеризации, выбранный из ряда: гидрохинон, n-метоксифенол, бисалкофен, пластификатор, краситель и органический растворитель, отличающаяся тем, что, с целью повышения устойчивости защитного покрытия к растрескиванию при циклическом изменении температуры, в качестве пленкообразующего компонента она содержит привитой сополимер поли-[бутадиен-пр-(метилметакрилат-со-стирол]общей...

Номер патента: 1498261

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Быстров, Валеев, Волков, Зверева, Кузнецов, Храмихин

МПК: G03C 1/72

Метки: композиции, фотополимеризующейся

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ путем взаимодействия 1-2-основных карбоновых кислот с эпоксидными соединениями, содержащими в молекуле 2 глицидных остатка, в присутствии катализатора - 4,4'-бис-(диметиламино)бензофенона и ингибитора радикальной полимеризации - гидрохинона при нагревании, отличающийся тем, что, с целью снижения вязкости реакционной среды, повышения светочувствительности получаемой фотополимеризующейся композиции и повышения ее гибкости в фотоотвержденном состоянии, в качестве 1-2-основных карбоновых кислот используют (мет)акриловую и адипиновую кислоты, в качестве эпоксидных срединений используют смесь соединений формул I и II

Номер патента: 1259846

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Быстров, Веселовский, Кузнецов, Пергамент, Погост, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: защитных, композиции, рельефов, фотополимеризующейся

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем проведения процесса в две стадии, на первой из которых в реакционном объеме проводят конденсацию эпоксидной смолы с бифункциональным конденсирующим агентом в присутствии катализатора 4,4'-бис-(диметиламино)бензофенона при нагревании, а на второй стадии в реакционный объем вводят эпихлоргидрин и метакриловую кислоту, отличающийся тем, что, с целью повышения устойчивости получаемых из фотополимеризующейся композиции защитных рельефов к кислым гальваническим электролитам, на первой стадии процесса в качестве эпоксидной смолы используют смесь соединений формул I и II

Номер патента: 1519194

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Кузнецов, Морозов, Тряпицын, Шурупов

МПК: C08F 2/50, G03C 1/72

Метки: композиции, фотополимеризующейся

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ, включающий радикальную полимеризацию смеси виниловых мономеров в среде изопропанола в присутствии перекиси бензоила и фотоинициатора и смешение полученного продукта с полифункциональным сшивающим агентом, отличающийся тем, что, с целью повышения светочувствительности композиции и ее стабильности при хранении, в качестве виниловых мономеров используют стирол, метакриловую кислоту и акрилонитрил, а в качестве фотоинициатора бензофенон при следующем соотношении компонентов полимеризационной смеси, мас.ч.Стирол 95 105Метакриловая кислота 40 55Акрилонитрил 5 10Перекись бензоила 0,5 2Бензофенон 3 8,5Изопропанол 100 300и процесс проводят в присутствии 0,5...

Номер патента: 1222073

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Валеев, Зверева, Кузнецов

МПК: G03C 1/72

Метки: защитных, рельефов

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем нанесения на печатную плату сухого пленочного фоторезиста, экспонирования фоторезиста, проявления метилхлороформом, термообработки при 115 120oС, нанесения жидкого отверждаемого состава, включающего ароматическую эпоксидную смолу и аминный отвердитель, сушки нанесенного состава и его термоотверждения, отличающийся тем, что, с целью повышения электрической прочности и устойчивости к циклическому воздействию повышенных и пониженных температур, в качестве сухого пленочного фоторезиста используют фоторезист толщиной 85 140 мкм на основе тройного сополимера стирола с метилметакрилатом и акрилонитрилом с соотношением звеньев стирол метилметакрилат акрилонитрил 40 52, 5 7,5 и мол.м. 85000...

Номер патента: 1340398

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Быстров, Веселовский, Кузнецов, Пергамент, Погост, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: защитных, рельефов

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем нанесения сухого пленочного фоторезиста, состоящего из полиэтилентерефталатной основы и светочувствительного слоя, включающего ненасыщенные соединения акрилового ряда, пленкообразующий компонент полиметилметакрилат, фотоинициатор смесь бензофенона с 4,4'-бис-(диметиламино)бензофеноном, -ингибитор гидрохинон, - краситель и фталевую кислоту, на поверхность медной фольги, экспонирования УФ-излучением через фотошаблон, отслоения полиэтилентерефталатной основы фоторезиста и проявления светочувствительного слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности получаемого защитного рельефа, достижения стабильной устойчивости к отслоению его от медной подложки и повышения выхода годных...

Номер патента: 1342280

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Бобров, Быстров, Волков, Кузнецов, Пергамент, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: водно-щелочного, пленочный, проявления, сухой, фоторезист

СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ВОДНО-ЩЕЛОЧНОГО ПРОЯВЛЕНИЯ, состоящий из полиэтилентерефталатной основы, фотополимеризующегося слоя, включающего пленкообразующий компонент карбоксилсодержащий сополимер стирола, полярный компонент н-бутанол, сшивающий мономер диметокрилат - бис-(этиленгликоль)фталат, фотоинициатор 4,4'-бис-(диметиламино)бензофенон и бензофенон, ингибитор термополимеризации и краситель, и защитной полиэтиленовой пленки, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности и устойчивости к перепроявлению, в качестве карбоксилсодержащего сополимера стирола он содержит сополимер общей формулы Iгде m 97 99 мол.n 1 3 мол.с...

Номер патента: 1289237

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Кудряшов, Кузнецов, Тряпицын

МПК: G03C 1/72

Метки: композиция, пленочного, сухого, фотополимеризующаяся, фоторезиста

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА, включающая сополимер метилметакрилата с метакриловой кислотой, мономер акрилового ряда, фотоинициатор, ингибитор, краситель и органический растворитель, отличающаяся тем, что, с целью повышения скорости удаления защитного рельефа водными растворами сильных оснований и улучшения полноты растворения композиции при удалении, она содержит сополимер, имеющий 15 35 мол. карбоксилсодержащих звеньев и среднемассовую мол.м. 12500-55000 у.е. в качестве мономера акрилового ряда композиция содержит смесь метакрилированных эпоксисоединений формул I и II, взятых в массовом соотношении 3,1 1мол.м. 512

Номер патента: 1417626

Опубликовано: 20.04.1995

Авторы: Кузнецов, Морозов, Тряпицын, Шурупов

МПК: G03C 1/72

Метки: защитных, композиции, рельефов, фотополимеризующейся

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ с использованием метакриловой кислоты и эпихлоргидрина в две стадии, на первой стадии проводят конденсацию эпоксидной смолы, представляющей собой смесь эпоксисоединений формулы I(мол.м. 340 и содержание эпоксидных групп 25,3 мас.) и формулы IIмол. м. 624 и содержание эпоксидных групп 13,8 мас.) в массовом соотношении 2,5 1,0, с адипиновой кислотой в присутствии кетона Михлера, сокатализатора и гидрохинона и на второй стадии процесса вводят метакриловую кислоту, процесс на второй стадии ведут при 95...

Номер патента: 1080638

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Акимова, Викулина, Гунина, Пимкина, Поярков, Яковлев

МПК: G03C 1/72

Метки: состав, фоторезиста

СОСТАВ ФОТОРЕЗИСТА, содержащий светочувствительную композицию на основе растворов органических материалов мономерной или полимерной структуры и поверхностно-активное вещество, отличающийся тем, что, с целью уменьшения дефектности пленки фоторезистора, в качестве поверхностно-активного вещества он содержит концентрированный водный раствор алкилбензилдиметиламмоний хлорида общей формулы[CnH2n+1N(CH3)2 CH2C6H5]+Cl-,где n 10 16,в количестве 0,5 1,5 об.

Номер патента: 1438478

Опубликовано: 27.05.1995

Авторы: Викулина, Гунина, Пимкина, Поярков

МПК: G03C 1/72

Метки: композиция, фоторезиста

КОМПОЗИЦИЯ ФОТОРЕЗИСТА, содержащая светочувствительную компоненту на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу, органический растворитель и 50% -ный водный раствор алкилбензилдиметиламмоний хлорида общей формулы I[CnH2n + N(CH3)2CH2C6H5]+Cl-,где n 10 16,отличающаяся тем, что, с целью сокращения времени проявления и расширения полезного интервала экспонирования, она содержит указанные компоненты в следующих количествах, мас.Светочувствительная компонента на основе нафтохинондиазида 7 8Фенолформальдегидная смола 12 13Вещество формулы I (50%-ный водный раствор) 0,05 0,50Органический...

Номер патента: 1122140

Опубликовано: 20.08.1995

Авторы: Бродзели, Гилельс, Давыдов, Деканозишвили, Елигулашвили, Карпачева, Мавренкова, Хорошилова

МПК: G03C 1/72

Метки: голографии, композиция, светочувствительная

СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ГОЛОГРАФИИ, включающая полимерное связующее, ароматический амин, галогенуглеводород и органический растворитель, отличающаяся тем, что, с целью увеличения дифракционной эффективности, голограмм при записи излучением с длиной волны = 440 нм и восстановлении излучением с длиной волны = 633 нм, в качестве полимерного связующего используют соединение, выбранное из ряда: полистирол, поливинилхлорид, поливинилацетат, сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата общей формулыгде x: y:...

Номер патента: 1470071

Опубликовано: 10.11.1995

Авторы: Кольцов, Мозжухин, Соломоненко

МПК: G01N 33/44, G03C 1/72

Метки: алкилфенолформальдегидных, количества, основы, полимерной, смол, составе, фоторезистов, щелочерастворимых

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КОЛИЧЕСТВА АЛКИЛФЕНОЛФОРМАЛЬДЕГИДНЫХ ЩЕЛОЧЕРАСТВОРИМЫХ СМОЛ В СОСТАВЕ ПОЛИМЕРНОЙ ОСНОВЫ ФОТОРЕЗИСТОВ, отличающийся тем, что, с целью снижения трудозатрат при сохранении воспроизводимости фототехнических параметров фоторезиста при использовании смол разных партий, для каждой из смол определяют скорость растворения слоя смолы на подложке в водно-щелочном растворе проявителя и затем определяют содержание каждой из смол, используя следующие расчетные формулы:С2 100 С1, мас.где V скорость растворения слоя полимерной основы в водно-щелочном растворе проявителя;V1 и V2 скорости растворения в...

Номер патента: 1071142

Опубликовано: 27.01.1996

Авторы: Степанова, Тихонова, Шиханов

МПК: G03C 1/72, H01B 3/08

Метки: диэлектрическая, композиция, фоточувствительная

ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКАЯ КОМПОЗИЦИЯ преимущественно для изготовления толстопленочных микросхем, включающая свинецсодержащее стекло и негативный фоторезист, отличающаяся тем, что, с целью повышения разрешающей способности и улучшения реологических свойств, она дополнительно содержит раствор бутадиен-нитрильного каучука в диметилформамиде, а в качестве негативного фоторезиста содержит негативный фоторезист на основе олигоэфиракрилата при следующем содержании компонентов, мас.ч.:Свинецсодержащее стекло - 40,2 - 51,3Негативный фоторезист на основе олигоэфиракрилата - 25,6 - 44,8Бутадиен-нитрильный каучук - 1,2 - 2,8Диметилформамид - 13,0 - 20,3

Номер патента: 1369546

Опубликовано: 20.07.1996

Авторы: Герасимова, Кулыгина, Малыхина, Орлова, Полянский, Селезнев, Фокин

МПК: G03C 1/72

Метки: голографии, композиция, светочувствительная

Светочувствительная композиция для голографии, включающая пленкообразующий компонент, светочувствительный компонент и органический растворитель, отличающаяся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, композиция содержит в качестве светочувствительного компонента 1,2,4-трифтор-З,9-диазидоакридин, в качестве пленкообразующего компонента - новолачную фенолформальдегидную смолу формулы Iгде n 4-8,мол. м. 642, в качестве органического растворителя диглим при следующем соотношении компонентов, мас.Новолачная фенолформальдегидная смола формулы I 7,5 15,01,2,4-Трифтор-3,9-диазидоакридин О,5 1,5Диглим Остальное

Номер патента: 1364051

Опубликовано: 20.07.1996

Авторы: Григорьева, Динабург, Карапетьян, Котлова, Постолов, Суржин, Яковлев

МПК: G03C 1/52, G03C 1/72

Метки: позитивный, фоторезист

Позитивный фоторезист, включающий эфир нафтохинондиазидсульфокислот и бромированной новолачной фенолоформальдегидной смолы формулы Iгде n 2-6;X водород или нафтохинондиазидная группа мол. м. продукта 800 1800, содержание нафтохинондиазидных групп в продукте 35 42% содержание брома в продукте 17 21% новолачную фенолоформальдегидную смолу формулы IIс динамической вязкостью 50%-ного спиртового раствора 150 200, температурой каплепадения 120 140°С, массовой долей фенола не более 2% модифицированную канифолью...

Номер патента: 1618157

Опубликовано: 27.10.1998

Авторы: Арефьев, Гильманов, Запорожец, Паутов

МПК: B41C 1/14, B41N 1/24, G03C 1/72, G03F 7/004 ...

Метки: сеткотрафаретного, экрана

Способ получения сеткотрафаретного экрана, включающий приготовление пленочного материала путем полива водной композиции на основе полинивилового спирта и полимерного наполнителя на полиэтилентерефталатную основу и сушки, накатывание полученного пленочного материала на сетку, предварительно смоченную водным раствором бихромата аммония с последующей сушкой, экспонирование и проявление водой, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности экрана и улучшения качества изображения, в качестве полимерного наполнителя используют водную дисперсию сополимера винилацетата с 2 - 50 мол. % диалкилмалеината с числом углеродных атомов в алкильном радикале от 2 до 8 или с 2 - 95 мол.% этилена при следующем соотношении компонентов водной...

Номер патента: 1826777

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Бородкина, Золин, Зубков, Ручьева

МПК: G03C 1/72

Метки: записи, информации, материале, оптической, фотохромогенном

Способ записи оптической информации на фотохромогенном материале, состоящем из подложки и регистрирующего светочувствительного слоя, включающего 9-(1-бром-2-нафто[2,1-в] фурил)ксантен, N-бромсукцинимид и полимерное связующее, путем экспонирования материала, термообработки и облучения материала по все6й поверхности, отличающийся тем, что, с целью получения позитивного изображения и повышения его оптической плотности, в качестве полимерного связующего используют сополимер формулыгде m/n = 3/1; MM = (1,8-2,0) 105.или сополимер...

Номер патента: 1204058

Опубликовано: 10.08.1999

Авторы: Андреев, Латышев

МПК: G03C 1/72, G03G 5/00

Метки: теплочувствительного, фотографического

1. Способ изготовления теплочувствительного фотографического материала, включающий нанесение на нагретую прозрачную подложку связующего и магниточувствительного порошка с образованием теплочувствительного слоя и закрепление в нем частиц магниточувствительного порошка охлаждением, отличающийся тем, что, с целью повышения технологичности процесса и улучшения качества материала, перед нанесением на подложку связующего и магниточувствительного порошка последний предварительно диспергируют в присутствии олеиновой кислоты при их соотношении 1 : 0,01, в полученную дисперсию вводят раствор связующего, в качестве которого используют аморфное вещество - синтетический воск общей формулы...

Номер патента: 1419352

Опубликовано: 27.02.2000

Авторы: Добриков, Шишкин

МПК: G03C 1/72

Метки: ферментного, фотографического

Способ получения ферментного фотографического материала, включающий модификацию гидрофильной целлюлозной подложки обработки n-нитробензоилхлоридом в пиридине, треххлористым титанов в соляной кислоте, диазотирующим агентом и азидом щелочного металла с последующим нанесением щелочной фосфатазы в активной форме, отличающийся тем, что, с целью улучшения сенситометрических показателей фотоматериала, обработку n-нитробензоилхлоридом ведут при 18 - 20oC в течение 2 - 3 ч, а перед нанесением фосфатазы подложку обрабатывают 0,5 - 1%-ным раствором нормальной лошадиной сыворотки или 0,02 - 0,05%-ным раствором бычьего сывороточного альбумина и сушат.

Номер патента: 1094468

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Бойко, Кудинова, Маркина, Матасова, Орлов, Станишевский, Толмачев, Ходот, Яковлев

МПК: C07D 279/00, C07D 311/00, G03C 1/72, G03G 5/09 ...

Метки: материал, электрофотографический

Электрофотографический материал, состоящий из проводящей подложки и светочувствительного слоя, содержащего органический полупроводник - поли-N-эпоксипропилкарбазол- и сенсибилизатор, отличающийся тем, что, с целью увеличения фоточувствительности материала в области 600 - 700 нм, в качестве сенсибилизатора светочувствительный слой содержит пирилиевые или тиопирилиевые соли общей формулыгде R1 и R2 - атом водорода или брома, метил, метокси-, или этоксигруппа;R3 и R4 - атом водорода, (CH2)2 или (CH2)3;R5 -...

Номер патента: 1105038

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Беззубаев, Бойко, Матасова, Орлов, Станишевский, Яковлев

МПК: G03C 1/72, G03G 5/07

Метки: материал, электрофотографический

Электрофтографический материал, состоящий из электропроводящей подложки и нанесенного на нее слоя органического полупроводника, содержащего поли-N-эпоксипропилкарбазол и сенсибилизатор - тетрафторборат пирилия, отличающийся тем, что, с целью увеличения светочувствительности материала в области 400 - 500 нм при отрицательном заряде слоя, слой органического полупроводника в качестве тетрафторбората пирилия содержит соединение общей формулыгде взятое в количестве 0,1 - 1,0 мол.% в расчете на звено поли-N-эпоксипропилкарбазола.

Номер патента: 997540

Опубликовано: 10.05.2008

Авторы: Коростова, Михалева, Морозова, Трофимов, Филимонова

МПК: C08F 126/02, G03C 1/72, G03G 5/07 ...

Метки: слой, фоточувствительный, электрофотографического

Применение поли-N-винилпирролов общей формулы: где R1=C6 H5, R2=H,R 1-R2=(CH2) 4,n=20-45,в качестве фоточувствительного слоя электрофотографического материала.