Тхостова

Номер патента: 1642385

Опубликовано: 15.04.1991

Авторы: Атаханов, Григорьян, Рябова, Тхостова, Чучалин, Юренев

МПК: G01N 33/15

Метки: 1-адреноблокатору, альфа, индивидуальной, чувствительности

...; Огепарин 1,55 мг; 4 едапираэы;рН=6, 55) . К э той су спензии клето кдобавляют зонд фураАМ из расчета4 мкМ в конечной концентрации; проводят инкубацию клеток с зондом 530 мин при 30 С, Затем центрифугированием (те же условия 1100 об/мин)получают конечный осадок тромбоцитов, который ресуспенозируют в буфере В (состав буфера В: ЕаС 1 150 мМ; 20КС 1 2,7 мМ; ИаНРО 0,37 мМ; СаС 12 мМ; МяС 11 1 мМ; Д-глюкоза 5 М;НЕРЕЯ 10 мМ; рН 7,4 и бычий сыворо".точный апьбумин 0,352), Определениефпуоресценции проводят на спектро4 яуориметре "Н 1 йасЬ 1-850" в 1-смтермостатируемой кювете при 30 С,Для изучения каждого отдельного образца в кювету помещают 100 мкл суспензии и 900 мкл буфера В,.Длиныволи возбуждающего света 340 нм,эмиссии 500 нм, ширина...

Номер патента: 1553934

Опубликовано: 30.03.1990

Авторы: Лебедев, Овсянникова, Тхостова

МПК: G02B 1/08, G02C 7/12

Метки: пленки, поляризующей, состав

...растворяют поливиниловый спирт. Затем вводят добавки иодистого калия, бромистого калия, борной кислоты, хризофенина и глицерина. После полногорастворения компонентов. полученнуюкомпозицию фильтруют через Фильтр,состоящий из двух слоев бязи (ГОСТ11680-76) и батиста (ГОСТ 8474-80),поливают на горизонтально выставленную поверхность и затем сушат прикомнатной температуре в течение трсуток,Затем пленку-заготовку подвергаютчетырехкратной ориентации относительно первоначальной длины в раствореборной кислоты при 42-44 С, термоПример Конструкция. Параметр ОправаЗащита поляризующейпленки Стекло или полимерная пленкаГлавные коэффициенты 77/02-79/03 77/008-79/015светопропускания 77/01-81/0,06Сепарация изображения Хорошая Хорошая Хорошая...

Номер патента: 584279

Опубликовано: 15.12.1977

Авторы: Акоева, Гординский, Перепечкина, Турчиева, Тхостова

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, фотополимеризующаяся

...на прозрачной для Уф-лучей подложке, и проявлении растворителем для фотополимеризующейся композиции под прозрачными участками фотоформы получают рельефное изображение оригинала, а неизменившийся под непрозрачными участками слой фотополимеризующейся композиции растворяют и удаляют.11 оэтому предлагаемые фотополимеризующие 5 ся композиции можно использовать для изготовления печатных плат негативным и позитивным способами, для изготовления различных изделий путем травления или гальванопластики, печатных форм.10 П р и м е р 1. К 100 г 63/, -ного раствора вметилэтилкетоне метакрилатфталата эпоксидной смолы ЭД, соответствующего приведенной выше общей формуле, в которой в=1,25,т=2, К= - СН, К"=О - С,Н 4, добавляют15 12,6 г эфира...