Патенты с меткой «подложка»

Номер патента: 1103117

Опубликовано: 15.07.1984

Авторы: Березинский, Саркисов, Степанов

МПК: G01N 15/02

Метки: аэрозолей, подложка, пробоотборная

...на середине его радиусавыполнено отверстие 3, в котороевставляется оправка-,плунжер 4 в видеполого цилиндра. На торце плунжера4 установлена электролитическая. сетка 5 с отверстием 6 в ее центре. Плунжер 4 устанавливается так, чтобысетка 5 располагалась заподлицо споверхностью диска 1. Поверхностидиска и сетки покрываются гидрофобным веществом (раствором пластика)7. Поверх ее вязкой смазкой 8 покрывается половина сетки и центрального отверстия в ней для равноправногосопоставления аэрозольных проб,осажденных на различные участки подложки (смазки) с разными механическими и адгезионными свойствами.Сравнение условий осаждения аэрозольных частиц на различные участки подложки с разными смазками необходимо проводить по наибольшему числу проб...

Номер патента: 1281591

Опубликовано: 07.01.1987

Авторы: Герасименко, Гумаргалиева, Малама, Миронова, Моисеев, Рыжков, Семенов, Чепенко

МПК: C12M 1/16

Метки: испытаний, микробиологических, подложка

...изобретения Составитель С.Клыпкин Редактор В.Петраш Техред А.Кравчук Корректор Л,ПилипенкоЗаказ 7216/21 Тираж 500 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб д, 4/5Производственно-полиграфическое предприятие, г.ужгород, ул,Проектная,Изобретение относится к медицине, а именно к микробиологическим исследованиям.Цель изобретения - упрощение переноса колоний микроорганизмов за счет 5 уменьшения их адгезии.В качестве подложки применяют гидрогелевые вкладыши, представляющие пористый сшитый полимер на основе полигидроксиэтилметакрилатного геля,1 О содержащий 60-707 воды.С подложки из полигидроксиэтилметакрилатного геля достигается легкое снятие микроорганизмов, так как с по...

Номер патента: 1627152

Опубликовано: 15.02.1991

Авторы: Никитин, Островский, Смотрин

МПК: A61B 17/322

Метки: подложка, трансплантации, эпидермиса

...мкм) наносят медицинский клей для дерматома, разведенный этиловым эфиром в соотношении 1:3 - 1:4. В другом варианте клей может быть нанесен равномерным слоем с помощью пульверизатора непосредственно на донорский участок с отделенным эпидермисом. При этом окружающую поверхность кожи экранируют листом бумаги, в центре которого вырезано отверстие, по размерам и форме соответствующее донорскому участку.После нанесения клея на наружный слой глицерин-желатинового раствора подложку накладывают поверхностью, покрытой клеем, на донорский участок кожи и слегка придавливают марлевым тампоном. Через 3 - 5 мин берут пинцетом за край подложки со стороны надрезов пузырей и срывают ее вместе с эпидермисом, прикрепленным клеем к глицерин-желатиновому...

Номер патента: 1642523

Опубликовано: 15.04.1991

Авторы: Байкулев, Беккер, Волкова, Тарасюк

МПК: G11C 11/40, G11C 5/04

Метки: гибридного, запоминающего, подложка, устройства

...ширина свободной зоны кристалла. Если радиус отверстий выбрать больше ширины свободной зоны, то над отверстием в поле неоднородных термомеханических напряжений окажутся рабочие участки кристалла и характеристики запоминающих элементов изменяются. На подложке 1 расположены контактные площадки 4 и 5, Токоведущие шины (токо- проводники).не обозначены, чтобы не загружать чертеж излишней информацией,На подложке (например керамика 22 ХС размером 30 х 48 мм) с помощью ультразвукового сверления (в качестве среды использовалась вводная суспензия порошка карбида кремния) выполнили отверстия круглой формы диаметром 0,8 мм, Бескорпусные БИС ЗУ серии 537 РУ 1, имеющие габаритные размеры 3,5 х 3,5 мм и ширину свободной зоны 0,3-0,4 мм, крепили к...

Номер патента: 1672932

Опубликовано: 23.08.1991

Автор: Эдвард

МПК: D21H 13/26, D21H 27/00, H05K 1/03 ...

Метки: бумага, высокой, печатной, платы, плотности, подложка, синтетическая, электрической

...слоя, который приходится на долю пульпы и флока, т.е. баланс между связующим веществом и пустотами. В английских единицах измерения процентные объемы выражаются следующим образом:Ч=- - -я 924(ВЧл)Ч = -х 92,4,где Ч - содержание по объему в одиночном листе, 7;Ч - содержание по объему в слоеи листовр ЕВИ - основной вес (только для параарамидных волокон), унция//кв, ярд;ВИп - суммарное выражение основного веса для и листов;- толщина одиночного листа,мил;й, - толщина слоя, мил (толщиналюбых медных прокладочныхлистов вычитается).В единицах СИ соответствующие уравнения выглядят следующим образом:Ч= -- х 06944(В 1)ч = -- -кО 6944йФ Угде Р 11 - основной вес, г/м;С - толщина одиночного листа,ммеКоэффициент теплового расширения (СТЕ), Эта...

Номер патента: 1682332

Опубликовано: 07.10.1991

Авторы: Зайцев, Иванов

МПК: C03B 19/08, C03B 23/22

Метки: бифокальных, линз, очковых, подложка, спекания

...подложка из строительлению бифокальных спеченных очковых линз с сегментной зоной для близи, Цель изобретения - упрощение и удешевление процесса, Для этого используют метлахскую строительную плитку в качестве подложки для спекания очковых линз в печах тунельного типа при перепаде температур от 20 до 600 С. Использование строительной плитки в качестве подложки для спекания бифокальных линз позволяет избежать валютные расходы на разработку и производство отечественной хромистой керамики, упрощает и удешевляет процесс изготовления бифокальных линз,нои плитки не теряет своеи Формы, не имеет адгезии со стеклом, не имеет поверхностных повреждений. Применение известной метлахской плитки в качестве подложки для изготовления спеканием...

Номер патента: 1690771

Опубликовано: 15.11.1991

Авторы: Асанова, Гутина, Колчанова, Лихачев, Олонцев, Плотникова, Солнцев

МПК: A61L 9/01

Метки: дезодорирующего, подложка, средства

...химии для ароматизации воздуха помещений.Целью изобретения является повышение пористости и впитывающей способности основы, в результате чего дернистая композиция более равномерно распределяется и равномерно во времени испаряется, в результате чего увеличивается срок действия ароматизирующего вещества.Поставленная цель достигается тем, что в волокнистую подложку, состоящую из сульфатной отбеленной целлюлозы, дополнительно вводится асбест хризотиловый, при следующих соотношениях компонентов, мас.ф(: сульфатная целлюлоза 82,0 - 93,0 хризотиловый, асбест 7,0 - 18,0П р и м е р 1. Берут подложку в виде круглой пластины диаметром 60 мм, массой 1,0 г, в состав которой входит 93 мас.сульфатной беленой целлюлозы из смешанных лиственных пород...

Номер патента: 1820942

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Абдулкадыров, Белоусов, Давиденко, Дворский, Корешков, Любомудров, Маламед, Маслов, Немиш, Портнова, Румянцев, Чернопиский

МПК: G02B 5/08

Метки: зеркала, крупногабаритного, облегченного, подложка

...и меньшего диаметров, центры отверстий большего диаметра расположены в вершинах равносторонних треугольников, а отверстия. меньшего диаметра - в центре этих треугольников, при этом радиусы отверстий большего и меньшего диаметров г и г 0 соответственно связаны соотношением г 0" г 13 /4 л(2 г+д) (г+д) 1/332- - , гдед -1.2 толщина перемычки между отверстиями, и кроме того, на одной из сторон пластины ,выполнены канавки, соединяющие центры отверстий равных диаметров и имеющие выход на перифериюпластины хотя бы в двух противоположных точках,где д - толщина перем стиями, кроме того, на од стинм выполнены кана центры отверстий разныющив выход на перифер бы в двух противополож1820942 г 0-.г Составитель Е.Портноваедактор Б,Федотов Техред...

Номер патента: 1251528

Опубликовано: 10.02.1996

Авторы: Волгин, Гаврилюк, Иваницкий, Лазарев, Николаева

МПК: C12N 5/02

Метки: животных, клеток, культивирования, пленка, подложка

ПЛЕНКА - ПОДЛОЖКА ДЛЯ КУЛЬТИВИРОВАНИЯ ЖИВОТНЫХ КЛЕТОК, содержащая коллаген и связующий агент, отличающаяся тем, что, с целью улучшения пролиферирующих и физико-механических свойств подложки, в качестве связующего агента она содержит латекс натурального каучука, а коллаген используют в кислой форме при следующем соотношении компонентов, %:Коллаген - 10 - 99,5Латекс натурального каучука - 0,5 - 90

Номер патента: 993775

Опубликовано: 10.07.1999

Авторы: Белобровая, Биленко

МПК: H01L 21/66

Метки: контролируемого, подложка, создания, структур, эпитаксиальных

Подложка для контролируемого создания эпитаксиальных структур GaAs и твердых растворов на его основе, содержащая слой GaAs, отличающаяся тем, что, с целью повышения точности контроля, она содержит внутренний отражающий слой Ga I-xAlхAs при 0,2 < x < 0,5 мол.долей.

Номер патента: 1540522

Опубликовано: 10.09.1999

Авторы: Варенцов, Галанин, Мамонов, Маслов, Портнова

МПК: G02B 23/02

Метки: зеркала, подложка

Подложка зеркала, состоящая из трех соединенных между собой деталей, крайние из которых выполнены в виде пластин, причем одна из крайних пластина выполнена с полированной поверхностью, а другая - со сквозными отверстиями, отличающаяся тем, что, с целью повышения термической стабильности крупногабаритных зеркал, все детали выполнены из ситалла и соединены между собой посредством электроадгезионных слоев, при этом средняя деталь выполнена в виде пластины со сквозными отверстиями, а отношение толщины h каждой пластины к ее диаметру d: H/d = 1/20 + 1/50.