Патенты с меткой «кремнию»
Способ изготовления контактов к кремнию
Номер патента: 1661875
Опубликовано: 07.07.1991
МПК: H01L 21/78
Метки: контактов, кремнию
...150 кэВ и дозой 510 см, Способ позволяет уменьшить величину сопротивления контакта в 2 - 3 раза. 1 табл. алюминием диссоциируют на атомы кремния и фтора.Вследствие относительной близости масс атомов фтора, кремния и алюминия передаваемая при столкновениях энергия упругого рассеяния приближается к своему максимальному значению. Это приводит к увеличению числа и равномерности распределения радиационных дефектов и обусловливает оптимизацию твердофазного перемешивания алюминия и кремния, При термообработке происходит восстановление атомами фтора островковой пленки диоксида кремния на границе Я-Я)О 2, чем подавляется миграция алюминия в кремниевую подложку,В результате совершенствования структуры пленки и подавления миграции алюминия...
Способ создания омических контактов к кремнию
Номер патента: 795321
Опубликовано: 20.03.2012
Авторы: Кунашкевич, Портнов, Снитовский
МПК: H01L 21/28, H01L 21/285
Метки: контактов, кремнию, омических, создания
Способ создания омических контактов к кремнию р-типа проводимости, включающий нанесение молибдена на кремниевую подложку катодным распылением, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности омического контакта, катодное распыление молибдена проводят путем создания в рабочей камере вакуума (1,3-6,7)10 -4 Па, введения фторосодержащего газа, BF3, до создания вакуума (2,7-3,2)10-2 Па, зажигания плазмы и последующей подачи высокого напряжения на мишень 2000-3000 В.
Способ создания омических контактов к кремнию
Номер патента: 1709864
Опубликовано: 20.03.2012
Авторы: Баранов, Воробьев, Сенько, Снитовский
МПК: H01L 21/28
Метки: контактов, кремнию, омических, создания
Способ создания омических контактов к кремнию p-типа проводимости, включающий катодное распыление молибдена на кремниевую подложку путем создания в рабочей камере предварительного вакуума (1,3-6,7)10-4 Па, введения фторсодержащего газа BF 3, зажигания плазмы и последующей подачи высокого напряжения на мишень 2000-3000 В, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества омических контактов, в рабочую камеру дополнительно к BF3 вводят четырехфтористый углерод и водород при следующем соотношении компонентов в газовой среде состава, об.%: Четырехфтористый углерод
Способ формирования омических контактов к кремнию
Номер патента: 1292628
Опубликовано: 20.03.2012
Авторы: Принцев, Снитовский, Шепурёв
МПК: H01L 21/28
Метки: контактов, кремнию, омических, формирования
Способ формирования омических контактов к кремнию, включающий нанесение молибдена на поверхность кремниевой подложки катодным распылением в тлеющем разряде в газовой среде, содержащей трехфтористый бор, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества контактов и повышения производительности способа, катодное распыление осуществляют в газовой среде состава, об.%: Водород15-30 Трехфтористый борОстальное при давлении 5·10 -2-8·10-2 Па и плотности мощности разряда...
Способ создания омических контактов к кремнию
Номер патента: 1241938
Опубликовано: 20.03.2012
Авторы: Данкевич, Портнов, Снитовский
МПК: H01L 21/283
Метки: контактов, кремнию, омических, создания
Способ создания омических контактов к кремнию, включающий обработку кремниевой пластины с активными областями в растворе плавиковой кислоты и нанесение молибдена, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности контакта путем снижения контактного сопротивления, перед обработкой в плавиковой кислоте дополнительно проводят обработку в перекисно-аммиачном растворе, после чего пластину выдерживают 30-50 мин в вакууме от 4·10-3 до 1·10-4 Па при 220-350°С и повторно обрабатывают в перекисно-аммиачном растворе.