Электронно-оптическая проекционная система для изготовления микросхем

СО)03 СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 511 Н 01 ) 37304 ЕНИЯК АВТОРСКО тип). ЕСКАЯ ИЗГО- жащая оль оппервуюоткло- конденСл 2 ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР О ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИ ПИСАНИЕ ИЗ СВИДЕТЕЛЬСТВУ. ПРОЕКЦИОННАЯ СИСТЕМА ДЛЯТОВЛЕНИЯ МИКРОСХЕМ, содерпоследовательно расположенные вдтической оси электронную пушку,систему конденсорных линз, первуюняющую систему, вторую систему,ЯО 1115134 сорных линз, маску, подвижную заслонку, первую проекционную систему, вторую отклоняющую систему и вторую проекционную систему, отличающаяся тем, что, с целью повышения точности изготовления микросхем, она снабжена дополнительной системой из четырех минилннз н дополнительной отклоняющей системой, последовательно установленными между первой и второй системами конденсорных линз, и дополнительной подвижной заслонкой с четырьмя отверстиями, установленной между второй системой конденсорных линз н маской, при этом минилинзы расположены симметрично относительно оптической оси равномерно по окружности и оптически сопряжены с отверстиями дополнительной заслонки.Изобретение относится к электроннолучевым устройствам, используемым в планарной технологии, в частности, для изготовления микросхем.Известна электронно-оптическая проекционная система (ЭОПС), содержащая последовательно расположенные вдоль оптической оси электронную пушку, системы конденсорных линз, маску, подвижную заслонку, проекционную и отклоняющую системы (ОС) 1.Однако устройство обеспечивает сравнительно низкую точность изготовления микросхем из-за невозможности контроля оси симметрии ЭОПС в технологическом цикле.Наиболее близкой к изобретению по технической сущности является ЭОПС, содержащая последовательно расположенные вдоль оптической оси электронную пушку, первую систему конденсорных линз, первую ОС, вторую систему конденсорных линз, маску, подвижную заслонку, первую проекционную систему, вторую ОС и вторую проекционную систему 21.Однако известная ЭОПС обеспечивает сравнительно низкую точность совмещения вследствие того, что предусматривает перестройку (изменение электромагнитной силы) первой и второй систем конденсорных линз, так как в режиме совмещения формируется острофокусированный в плоскости маски электронный луч, который сканирует по меткам на маске и метке на рабочей пластине. Этот луч может быть использован и для автоматической юстировки. В рабочем режиме, т. е. в режиме мультипликации разных топологических слоев, первая и вторая системы конденсорных линз по электромагнитной силе должны вернуться в исходное состояние. Однако гистерезисные явления в совокупности с неточным изготовлением и положением линз относительно оптической оси всей ЭОПС не позволяют производить такую перестройку без потери точности на совмещение,Целью изобретения является повышение точности изготовления микросхем,Указанная цель достигается тем, что ЭОПС, содержащая последовательно расположенные вдоль оптической оси электронную пушку, первую систему конденсорных линз, первую ОС, вторую систему конденсорных линз, маску, подвижную заслонку, первую проекционную систему, вторую ОС и вторую проекционную систему, снабжена дополнительной системой из четырех мини- линз и дополнительной ОС, последовательно установленными между первой и второй системами конденсорных линз, и дополнительной подвижной заслонкой с четырьмя отверстиями, установленной между второй системой конденсорных линз и маской, при этом минилинзы расположены симметрично 5 1 О 15 20 25 зо 35 40 45 50 55 относительно оптической оси равномерно по окружности и оптически сопряжены с отверстиями дополнительной заслонки.На чертеже представлена схема ЭОПС.ЭОПС содержит располагающиеся по оптической оси электронную пушку 1, бланкирующую систему 2, первую систему конденсорных линз 3 и 4, дополнительную систему 5 из четырех минилинз; дополнительную ОС 6, первую ОС 7, вторую систему 8 конденсорных линз, двигатель 9 привода дополнительной подвижной заслонки 10 с четырьмя отверстиями, маску 11, подвижную заслонку 12; двигатель 13 подвижной заслонки 12, управляющую ЭВМ 14, первую и вторую проекционные системы 15 и 16, вторую ОС 17, датчик 18 отраженных электронов и рабочую пластину 19.В режиме поиска оси симметрии ЭОПС электронный луч, сформированный электронной пушкой 1 проходит зону действия бланкирующей системы 2, не препятствующей его свободному дрейфу по оптической оси, и попадает в зону действия первой системы из двух конденсорных линз 3 и 4, при выходе из которой формируется расходящийся электронный поток. Периферическая часть электронного потока с помощью системы 5 минилинз вычленяется из общего потока,.и за ними образуется расходящийся электронный поток с четырьмя узкими лучам и.Если подвижная заслонка 12 выведена из-под пучка, а дополнительная подвижная заслонка 10 введена под пучок, то центральная часть пучка отсекается и не проходит к рабочей пластине, В этом случае четыре тонких электронных луча совместным действием дополнительной системы 5 из четырех минилинз и второй системы 8 конденсорных линз фокусируется в плоскости маски 11. Четыре отверстия в дополнительной подвижной заслонке 10 могут беспрепятственно их пропустить. Далее, проходя проекционные системы 15 и 16, четыре электронных луча фокусируются ими в плоскости рабочей пластины 19. Первая ОС 7 осуществляет сканирование электронного потока, а дополнительная ОС 6 производит смешение или наклон его в сторону оси симметрии ЭОПС по командам ЭВМ 14. Выбранное направление дрейфа электронного потока сохраняется до момента новой проверки положения оси симметрии ЭОПС. Другой режим поиска оси симметрии ЭОПС осуществляется, когда отверстия в дополнительной подвижной заслонке 10 преграждают путь.Таким образом, предлагаемая ЭОПС позволяет производить контроль положения оси симметрии и коррекцию направления дрейфа электронного потока во время технологического цикла, а также совмегцение разных топологических слоев по меткам без перестройки конденсорных систем.115134 Составитель В. ГаврюшинТехред И. Верес Корректор Л. ПилипенкоТираж 682 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий13035, Москва, Ж - 35, Раушская наб., д. 4/5Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Редактор О. ЮрковецкаяЗаказ 6666/39 Это исключает затраты времени на наладку ЭОПС в случае ее разъюстировки, значительно увеличивает рабочее время уста новки, в течение которого она способна воспроизводить мультипликацию маски с более высокой точностью, позволяет прерывать техначогический процесс без риска его возобновления с недопустимыми искажениями.