Способ изготовления интегрального транзистора
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 987711
Авторы: Гирий, Ескендиров, Ладыгин, Мустафаев, Огородников, Туякбаев, Шаховцов
Текст
(54) СПОСОБ. ИЗГОТОВЛ ИНТЕГРАЛЬ ТРАНЗИСТО 1Изобретение относится к полу вым приборам, а именно к спо товления интегральных транзистоИзвестен способ изготовления го транзистора путем формиров области, позволяющий обеспечит ную простоту процесса изготовл грального транзистора 1 Ц.Недостаток известного способ малой прочности изготовленного ствни с ним интегрального трап пров одникообам изгоров,Указанная цель достигаефуэню и раэгонку бора о1100 - 1150 С, причем диффдят в течение 30 - 40 мин,в течение 20 - 30 мин,Изготовление интегральноществляют следующим обр тем существляют пр узию бора про а его разгонку интегральноания базовои относителния интего транзистора осум. На подложкебазовой области следующей раэго , бора н его разгопри. 1150 С, Лиф пример, в течени течение 20 мин. производят фо диффуэней бо кой, При это нку осуществл фуэию бора п 30 мнн, а е р миров ание а н его лом диффузию яют, например,роизводят, наго разгонку -оит тветИзвестен также спогрального транзисторазовой области днффузидующей разгонкои, котлечить достаточную прого в соответствии сэ соб изготовления инте- путем формирования баей бора и его послеорый позволяет обесчность изготовленноним интегрального транользование предлагае в значительной степе ю стойкость икте же обеспечить просто интегральных транэи транзисторы, изготовл м, могут най аратуре, мого способа п ни повысить ра в т ционнуа так способа состоит в маойкости изготовленного в интегрального транзистора.- повышение радиационгрального транзистора. мым способотовой апп нстора 23.Недостаток такого ой радиационной стответствин с ним Цель изобретения ой стойкости инте гральных транзисторов, у процесса нзготовсторов. Интегральнные предлагаемн применение .в бор.987711 Способ изготовления интегрального транзис. тора путем формирования базовой области диффуэией бора и его последующей разгонкой,отличающийся тем,что, с целью повышения радиационной стойкости интегрального транзистора, диффузию и разгонку бора осуществляют при 1100 - 1150 С,Составитель ЮК,В, РозенкранцТехред М.Надь Корректор А еРенц Редактор А. Мотыль Тираж 708 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская наб., д. 4(5Заказ 10316(41 Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул, Проектная, 4 3Формула изобретения 4причем диффузию производят в течение 30 -40 мин, а его разгонку - в течение 20 -30 мин. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Патент Великобритании Яф 673206,кл, Н 0121(283, 1979,2, Патент США й". 3659162, кл, 317(235, 1972
СмотретьЗаявка
3327404, 31.07.1981
КАЗАХСКИЙ ХИМИКО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
ГИРИЙ ВАЛЕРИЙ АНАТОЛЬЕВИЧ, ЕСКЕНДИРОВ ШАРИП ЗАХАНОВИЧ, ЛАДЫГИН ЕВГЕНИЙ АЛЕКСАНДРОВИЧ, МУСТАФАЕВ ГАСАН АБАКАРОВИЧ, ОГОРОДНИКОВ ЕВГЕНИЙ СЕРГЕЕВИЧ, ТУЯКБАЕВ АЛЬТАЙ АЛИШЕРОВИЧ, ШАХОВЦОВ ВАЛЕРИЙ ИВАНОВИЧ
МПК / Метки
МПК: H01L 21/283
Метки: интегрального, транзистора
Опубликовано: 07.01.1983
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-987711-sposob-izgotovleniya-integralnogo-tranzistora.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления интегрального транзистора</a>
Предыдущий патент: Лампа накаливания
Следующий патент: Способ измерения скорости поверхностной генерации рекомбинации
Случайный патент: Токарный резец