410456

Номер патента: 1760776

Опубликовано: 30.08.1994

Авторы: Вильде, Макейчев, Шофман

МПК: C23C 14/35

Метки: магнетронного, напыления, пленок, тонких

СПОСОБ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК, включающий формирование в магнетронном источнике магнитного поля электромагнитом переменного тока, зажигание разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях, распыление материала катода и осаждение его на подложку, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей, перед осаждением осуществляют нагрев подложек магнетронным источником, причем нагрев подложек осуществляют потоком электронов, бомбардирующих подложку при выключении электромагнита на время изменения направления переменного тока.

Номер патента: 563826

Опубликовано: 05.03.1978

Авторы: Осипов, Саблев, Ступак

МПК: C23C 15/00

Метки: нанесения, пленок, тонких

...на фиг. 2 конфигурация магнитных полей в камеУстройство длпленок работаетНапыляемые изваются на крышкумакрочастиц от кпрямолинейно, неПитание соленоидется от разных иВоздух из вакчивается до давл10 мм рт,ст. Черется ток, создающ50-200 Э, достаткатодного пятна 5 р 72) Авторы изобретения л,п. я нанесения тонкихследующим образом.делия 9 устанавли 2 так, чтобы потокатода 4, движущийсямог попасть на них,ов б и 7 осуществлясточников,уумной камеры 1 откаения порядкаез соленоид б усий магнитноеочное для удерна торце катодЧерез соленоид 7 пропускается ток, создающий магнитное поле 20-50 Э. На камеру 1 подается напряжение 40-80 В относительно катода 4, на крышку 2-30 В. При этих параметрах конфигурация магнитных полей имеет 5 вид, показанный...

Номер патента: 40853

Опубликовано: 31.12.1934

Автор: Вальдемар

МПК: B29C 41/24, B29C 55/02

Метки: пленок, производных, растворов, тонких, целлюлозы

...внутреннему трению из щелив различных ее местах под различным давлением, когда оказывается выгодным применять более короткие щели.Не исключается возможность производитьвытягивание пленки в обоих направлениях;это дает возможность получить пленки нетолько чрезвычайно тонкие, но и отличающиеся особым постоянством механическихкачеств в обоих направлениях.Целесообразно оказывается проводить этотспособ таким образом, чтобы выходящий нзлейки раствор, свободно падая густым слоем,попадад в. осаждающую среду, которая приэтом может действовать на пденку се всехсторон. Лишь после того, как произойдетнекоторое предварительное осажденне, чтоможет произойти скорее и медленнее, в зависимости от рода, степени концентрации итемпературы осаждающей...

Номер патента: 646578

Опубликовано: 30.01.1986

Авторы: Быковский, Дудоладов, Козленков

МПК: C23C 14/28

Метки: генератора, квантового, оптического, пленок, помощи, тонких

...ос"етаточного газа, от рабочего вакуумаЗ 0 в камере и степени взаимодействияподложки с молекулами остаточногосгаза) испаряют мишень 13 излучениемлазера 2, работающего в режиме упорядоченных пульсаций, который приводятв действие с помощью блока синхронизации 23. Пленки легируют во время,напыления при помощи лазера 3, излучением которого воздействуют на мишень 14. Конденсируемое на подложку15 вещество подогревают излучениемлазера 4, работающего в этом же режиме. Осажденную пленку через 1 м.секпосле окончания напыления отжигаютизлучением лазера 5, работающего врежиме модулированной добротности.Полученная тонкая эпитаксиальнаяпленка может служить затравкой длянаращивания толстых монокристаллических пленок; С этой целью описан 50 ный процесс...

Номер патента: 372755

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Геращенко, Гудков

МПК: G01B 7/06, H05K 3/14

Метки: пленок, толщины, тонких

...дополнительные отверстия, расположенные по контуру противоположного эталонного кварцевого резонатора, Их общая площадь равна площади отверстия, противолежащего измерительному резонатору,Работа датчика .основана .на том обстоятельстве, что массовая чувствительность кварца является функцией расстояния от центра пластины. В центре пластины она максимальна, а по периметру близка к нулю.На чертеже показана конструкция предла гаемого устройства.Устройство содержит кварцедержатель -тепловой экран 1 с отверстиями для термокомпенсации 2 над эталонным резонатором и отверстием 3 над центром измерительного ре зонатора, кварцевые резонаторы 4, планку 5для крепления резонаторов, привинченную к тепловому экрану винтами б.В процессе напыления...