Патенты опубликованные 30.10.1988

Номер патента: 1045463

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Любченков, Рябченко

МПК: B01D 3/32

Метки: массообмена

...с шириной В на 30-602 и диаметром окружности Р, на 20-407, меньше, чем ширина пластин В и диаметр окружности Э каждого четного ряда. Отсчет рядов снизу вверх аппарата обусловлен необходимостью обеспечения максимальной пропускной способности нижнего завихрителя, так как на нем происходит ломка осевого потока,. снижающего его цропускную способность.Завихрители 3 образуют с корпусом 1 устройства кольцевой сливной зазор 6. Работает аппарат следующим образом. Жидкая фаза подается сверху и стекает по боковой поверхности корпуса 1. Паровой поток поднимается снизу вверх и проходя через лопаточные завихрители 3, риобретает вращательное движение. Выходя из каналов завихрителя 3 паровой поток отжимается пластинами 5 не только в...

Номер патента: 1152433

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Баранов, Карпов, Потехин, Саксаганский

МПК: H01J 41/20

Метки: газов, испарительный, насос, откачки, электродуговой

...Данный эксперимент показал эффективность предлагаемого способа для откачки активных газов.Ч Рорнгде Ч - объем установки.Оптимальное соотношение временраспыления геттера С Р и паузы Сд,при которых быстрота действия остается постоянной во времени, определяется по формулам8 10и Ро4ВМР, еЧ;ф аоР 1 " Я крвф"3,310" 0 1 Р; Ф;, Кмгде и - количество монослоев (и == 5-10);Р, Р, в площа поверхности испарения и входного отверстия насоса,- поверхность непосредственного1 фмассообмена между поверхностью напыления и испарителем;- скорость испарения геттера(0,2-0,8),К ,.- коэффициент неравномерностиюраспределения молекулярногопотока;Ф;, - коэффициент, учитывающий переотражения молекул на различных поверхностях устройства;" молекулярный поток, входящийв...

Номер патента: 766509

Опубликовано: 30.10.1988

Автор: Бахир

МПК: H01S 3/22

Метки: активной, газодинамического, лазера, поступательной, среды, температуры

...представляющая собойных характеристик от температуры гавого числа, 5 отношение коэффициента излучения 1и от вращательного квантового числИ 11Основным недостатком указуказанного к коэффициенту поглощения а , присложность. Для Указанных выше УсловиЯх экспоненЦиспособа является его сложность. яально зависит от двух температур: попроведения измерений вращательныхлиний необходимо использоватььзовать скани- ступательной температуры среды и корующие инфракрасные спектромет ытрометры с 20 лебательной температуры третьей моды,Отношение же функций Планка для двухвысоким спектральным разрешением.Кроме того, этот спосо н переходов с одинаковыми третьимидля исследования лазеров, рв работающих квантовыми числами зависит только отв импульсном или...

Номер патента: 766523

Опубликовано: 30.10.1988

Автор: Белоглазов

МПК: H02K 44/08

Метки: генератора, канале, компенсации, магнитогидродинамического, паразитных, токов, холла

...промежутками. Электропроводные элементы 1 могут также представлять собой модули, секционированные в поперечном и продольном направлениях.Устройство содержит также регулируемые по току тиристорные устройства 4, нагрузочное устройство 5, которое может быть подключено как в продольном, так и в поперечном направлениях по отношению к вектору скорости потока плазмы 6 (пунктиром на рисунке показано поперечное подключение нагрузки), зону поперечной неоднородности плазмы 7 около электродных стенок, полюса магнита 8, измеритель 9, фиксирующий потенциалы плазмы, из меряемые с помощью датчиков 10, и местоположение датчиков.Предложенный способ реализуется в приведенном на чертеже устройстве, которое работает следующим образом, Рабочее...

Номер патента: 1106062

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Васейко, Курганов, Рыжков, Соловьев, Терехов, Федотов, Черновисов

МПК: B01J 8/04

Метки: восходящем, гидрогенизационной, дистиллятов, катализатора, неподвижном, нефтяных, переработки, прямотоке, реагентов, реактор, слое

...по оси отверстийколлектора, при этом нижняя часть коробов перфорирована, по меньшей мере,до уровня торцов патрубков, а отношение высоты неперфорированной частикоробов к максимальному расстояниюмежду ними или стенки корпуса составляет от 2 до 5.Предлагаемое техническое решениепозволяет использовать только одинмонтажный элемент коллектор с коробами) для удержания слоя в компактномсостоянии вместо коллектора, днищабункера, затворных труб и сепарационной решетки, как в известном решении.Это не только упростило конструкциюустройства, но и повысило ее надежность, так как исключило динамическиенагрузки на сепарационную решетку.Кроме того, исключается необходимостьв трудоемких операциях по герметизации периферийной поверхности решеткии...

Номер патента: 826642

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Балакирев, Лифшиц, Майоров, Никифоров, Попов

МПК: B23K 15/00

Метки: электронно-лучевой

...В качестве контролируемого параметра используют измерение интенсивности рентгеновского излучения с нижней стороны зоны обработки 30 деталей, а также дифференциально измеряют излучение в различных телесных углах от зоны обработки, при этом ток луча периодически изменяют.При невозможности расположения детектора рентгеновского излучения с нижней стороны зоны обработки два де"- тектора излучения, располагают над ней в перпендикулярной и проходящей через точку обработки плоскости. Угол между нормалью к поверхности зоны обработки и направлением на середину детектора составляет 15 и 50 ф , расстояние 80 ,и 45 мм соответственно. Управляющий сигнал формируют путем вычитания сигнала первого детектора из сигнала второго. Редактор Н.Сильнягина...

Номер патента: 1168071

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Вирник, Исакаев, Каганов, Максименко, Мильман, Пашков, Рощин

МПК: H05B 7/22

Метки: плазмотрон, электродуговой

...участке 6 вкладывается много меньше энергии, и она, в основном теряется в результате тепловых потоков на поверхность электрода 4, но этот участок необходим для замыкания электрического тока на наружный электрод(анод), которое происходит посредством микродуг между электродом 4 и электропроводным ядром потока. Выбор Формы и размеров канала выходного электрода определяется следующим.Если конус имеет угол менее 5 возрастают тепловые потери на стенку и уменьшается тепловой КПД устройстова. Если угол более 10, нарушается условие безотрывного течения потока газа и в области отрыва резко ухудшается эрозионная стойкость наружного электрода. Минимальное значение длины участка канала соответствует максимальному значению угла и наоборот....

Номер патента: 365955

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Линецкий, Лифшиц

МПК: H04N 7/18

Метки: кругового, обзора, пространства

...трубка, к катушкам отклоняющей системы которой подключены выходы генераторов пилообразных напря Ожений строчной и кадровой частот, игенератор гасящих импульсов. Такиеустройства могут терять информацию вовремя обратного хода луча по строке.В целях устранения указанного недостатка в предлагаемом устройствегенератор амплитудно-модулированныхколебаний снабжен переключателем, через контакты которого времязадающийконденсатор подключен к индуктивнос- ЗОти и к выходу. генератора пилообразного напряжения кадровой частоты, а управляющий вход упомянутого переключателя соединен с выходом генератора гасящих импульсов.На фиг. 1 изображена блок-схемаустройства; на фиг2 - временные диаграммы токов и напряжений в различных. точках...

Номер патента: 600766

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Андреев, Базаров, Гановский, Люлька, Рагозин

МПК: B06B 1/20

Метки: вихревой, излучатель

...установленным соосно газовому соп 5 10 15 лу с заглублением о относительно его среза, и жидкостным коллектором 10.При подаче через патрубок 3 в полость 2 корпуса газ ускоряется в сопле 5 и истекает в пространство в виде кольцевой струи. Никакой генераэовым потоком она представляет собой динамическое препятствие, что и обусловливает большую амплитуду колебанийпо сравнению с генерируемым вихревымсвистком Максимальное взаимодействие газового и жидкостного потока наступает при попадании жидкостной пелены на внутреннюю поверхность сопла вблизи его кромки,В этом случае достаточно неции регулярных колебаний при этомне происходит. При подаче в коллектор 10 жидкость приобретает вихревое течение в тангенциальных каналах 8 завихрителя 7, образует...

Номер патента: 434896

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Анацкий, Саксаганский

МПК: H05H 7/00

Метки: вакуумная, индукционного, линейного, ускорителя

...приодновременном уменьшении радиальныхразмеров системы.35Цель достигается тем, что электроды кольцевого разрядного насоса снабжены электрическими выводами из вакуумного обьема трубки, в которым подключены резисторы и конденсаторы, обраэующие КС-контур. Кроме того, в одной иэ модификаций предлагаемого устройства электроды насоса выполнены в-ров. 45На чертеже схематически изображенаконструкция одного из возможных вариантов предлагаемой вакуумной системы линейного индукционного ускорителя.Система содержит корпус 1 ускорительной трубки с катодом 2 и анодом 3; постоянные магниты 4 насоса, создающие радиальное магнитное поле; коаксиальные электроды 5 насоса; конденсаторы 6 и резисторы 7, образующие КС-контур. Действует...

Номер патента: 1067930

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Ахмеджанов, Полушкин, Ханин, Язенков

МПК: G01N 21/63

Метки: линии, плазме, ширины, штарковской

...с частотами отфла 3люэ 5 ы - --- до ы + --- , Где В даэ2 2 фнамного превышает ширину исследуемой, линии (не менее, чем в 3-5 раз). В изображенной установке лазеры 1 и 2 установлены так, что формируемые ими1 О потоки излучения распространяются под углом друг к другу (в частном случае лазеры 1 и 2 могут Формиро- . вать параллельные потоки, при этом схема установки несколько иная), а15 излучение лазеров 1 и 2 линзами 3 и 4 соответственно Фокусируются в раз-. ных плоскостях поперечного сечения плазменной камеры 5Расстояние между фокусами Г, и Р линз 3 и 4 определя-20 ет пространственную разрешающую способность установки и ограничивается только дифракционной расходимостью лазерного излучения, Лазер 1 оптически связан с фотоэлектрическим...

Номер патента: 1176508

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Белик, Борисов, Гавриш, Котлярский

МПК: B22D 18/04

Метки: давлением, литья, низким

...резкому снижению выхода годного и усложнению технологического процесса литья.Целью изобретения является повышение выхода годного и качества фасонных литых изделий,Поставленная цель достигаетсятем, что в известном, способе литьяпод низким давлением, включающем заполнение формы расплавом под действи"ем избыточного газового давления,выдержку под давлением при кристаллизации, удаление отливки, уровень расплава в тигле поддерживают в постоянном контакте с нижней частью формы.Поскольку в процессе данного способа литья поверхность нижней частиформы ие оголяется и ванна расплава не перемешивается, устраняются причины образования в расплаве окисных плен. В результате постоянного контакта нижней части формы с расплавом ее температура превышаЕТ...