Способ изготовления микросхем напылением материала через маску

Номер патента: 347960

Авторы: Ворона, Недачин, Панченко

ZIP архив

Текст

ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 347960 Союз Советских Социалистических РеспубликЗависимое от авт. свидетельстваЗаявлено 10.1 Х.1970 ( 1475463/26,Ч. Кл. Н 05 с Зсс 4 с присоединением заявкиПриоритетОпубликовано 10.Ч 111,1972, Бюллетень2Дата опубликования описания 23 Ч 111.1972 Комитет по делам изобретеиий и открыти при Сосете Мииистрое СССРЗаявите ГОТОВЛ ЕНИЯ МАТЕРИАЛ МИКРОСХЕМ НАПЪЛЕНИЕЧЕРЕЗ МАСКУ ПОС закрспцть цад подложкой так, чтооы чсрсз нсе можно было пропускать ток в перпендикулярном к магнитным силовым лнцям цаправлецсш, то прц соответствующем выборе и ап рав пения тока ца .сас Оудст действовать сила,прижихающая 11 асд к подложкс. Прсдлагасмый способ имеет преимущества перед способом фотолцтоград)ии в том случае, когда нужно изготавливать мцоголццсйцыс схемы .цз ма- О тсрцалов, травящихся в одном ц том жс травцтеле. 5 Способ изготовления микросхем ццсм материала через маску, от,ссс тем, что, с целью получения микросх шим количеством элемсцтов ц обесп дсжцого прцжатця маски к подложО цсе заданным и регулируемым усцлц тця, подложку с маской помещают в нос магнитное поле ц через маску п постоянный ток. напылс- ССССОСССССйСЯ ем с больченця цае с зарам прцжа- одцород- опускают Изобретение относится к области технологии изготовлеция микросхем вакуумцым напылением и может быть использовано при нанесении слоев на активную подложку, заранее выставленную с маской.Известные способы изготовления микросхем напылением материала через маску цс Обеспечивают получения микросхем с большим количеством элементов и надежного прижатця маски к подложке с заранее заданным и регулируемым усилием прикатоя.Для получения микросхем с большим количеством элементов и обеспечения надежного прижатия маски к подложке с зарацсс заданным и регулируемым усилием прижатця подложку с маской помещают в однородное магнитное поле и через маску пропускают постоянный ток.Сущность описываемого изобретения закл:очается в следующем. Если подложку, закрепленную на подложкодержатсле, поместить между плюсамц занита в плоскости, параллельной магнитным силовым линиям, а маску редмет цзоорстсц

Смотреть

Заявка

1475463

А. В. Ворона, С. П. Недачин, И. М. Панченко

МПК / Метки

МПК: H05K 3/14

Метки: маску, микросхем, напылением

Опубликовано: 01.01.1972

Код ссылки

<a href="https://patents.su/1-347960-sposob-izgotovleniya-mikroskhem-napyleniem-materiala-cherez-masku.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления микросхем напылением материала через маску</a>

Похожие патенты