Способ локального осаждения металлов из агрессивных сред
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
,с;,ско,;нотека цу О П И С А Н И Е 347959ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Соестскмх Социалистических РеспубликЗависимое от авт. свидетельства ЪЪ Заявлено 19.11.1971 (Мо 1624248/26-9)с присоединением заявки МеПриоритетОпубликовано 10,Ч 111.1972. Бюллетень Ме 24Дата опубликования описания 23,ЧП 1.1972,Ч. Кл. Н 051 с 3/1 О Комитет по делам зобретений и открытий при Сосете 1 линистрсе СССРЗаявит АЛЬНОГО ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛОВ3 АГРЕССИВНЬ 1 Х СРЕД СП Л 1обы локального осаждения ссивных сред через фоторене обеспечивают возможельного осаждения металлов очных сред при повышенноц как используемые фотореы к агрессивным средам.способ позволяет последоваметаллы из агрессивных сред оне рН электролитов при поатуре за счет предварительна подложку полимерногополипирохеллитихдиого пнем металла длстойки защитную хзации в течение 2Способ позволя5 металлов таких,и др., через однупользовать электрбавками, положитетуру осаждаемых10 я пов аску по час пр ет про ак ни ту же олпты с льно впленок нческо олимер ажденне о, медь акже исими доа струкдмет изобретения 1. Спосоо локального осаждения металловиз агрессивных сред через фоторезистивную 15 маску, сформированную на поверхности подложки, от.гичаюигийся тем, что, с целью обеспечения возможности последовательного электрохимического осаждения металлов в широком диапазоне рН электролитов при повышен ной температуре, перед нанесен:ем фоторезиста на поверхность подложки наносят пленку полимера, удаляемую в местах проявления фоторезиста.2. Способ локального осаждения металлов 25 из агрессивных сред по и. 1, отличаюгиийсятем, что в качестве полимерной пленки используют полипиромеллнтимидную пленку. лака.На кремниевую подложку с интегральными схемами после вакуумного напыления технологического проводящего слоя наносят центрифугированием пленку полипиромеллитимидного лака. После 10 лгин выдержки в термостате при 100 С центрифугированием наносят слой фоторезиста и подложку вновь помещают в термостат и выдерживают при 100 С в течение 10 мин. Затем проводят экспонирование и обработку экспонированной поверхности, при этом в экспонированных местах происходит совместное растворение пленок фоторезиста и лака. Перед электрохимическим осаждеИзвестные спосметаллов из агрезистивную маскуность последоватиз кислых и щелтемпературе, такзисты неустойчивПредлагаемыйтельно осаждатьв широком диапазвышенной темперно нанесенногослоя, например ышенпя хи двергают и100 С.зводпть ос кель, золотмаску, а т органичес 1 няющимп
СмотретьЗаявка
1624248
В. Г. Ржанов, С. Н. Кошель, В. М. Климашин, Ю. С. Боков, Н. И. Шкуропат, Б. Г. Пожарский
МПК / Метки
МПК: H05K 3/10
Метки: агрессивных, локального, металлов, осаждения, сред
Опубликовано: 01.01.1972
Код ссылки
<a href="https://patents.su/1-347959-sposob-lokalnogo-osazhdeniya-metallov-iz-agressivnykh-sred.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ локального осаждения металлов из агрессивных сред</a>
Предыдущий патент: Устройство для контроля печатных плат
Следующий патент: Способ изготовления микросхем напылением материала через маску
Случайный патент: Сорбционный вакуумный насос