Описание

Способ изготовления миры, заключающийся в том, что на пластину из материала, имеющего свойство анизотропного травления с окисным покрытием, наносят слой фоторезиста, экспонируют фотошаблон с изображением отверстий совмещения и протравливают их в фоторезисте, отличающийся тем, что, с целью получения высокоразрешающих мир, на одну сторону пластины наносят и сушат защитный лак, протравливают сквозные отверстия совмещения в пластине, удаляют лак, на другую сторону пластины наносят фоторезист и проводят процесс фотолитографии с получением изображения площади миры, наносят защитный лак на первую сторону пластины, протравливают площадь миры до остаточной толщины пластины 1,5 - 5 мкм, удаляют лак, затем наносят фоторезист на одну из сторон, на другую - защитный лак, проводят процесс фотолитографии с получением изображения структуры миры, в соответствии с которым протравливают сквозные окна в пластине.

Заявка

3310771/10, 29.06.1981

Ефимов В. В, Васильев Г. Ф, Ястребова Н. В, Шпольский М. Р, Блехман Б. А

МПК / Метки

МПК: G03C 5/00

Метки: миры

Опубликовано: 20.06.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-991844-sposob-izgotovleniya-miry.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления миры</a>

Похожие патенты